JP6114195B2 - 活性担体 - Google Patents
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- C08F4/60—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides together with refractory metals, iron group metals, platinum group metals, manganese, rhenium technetium or compounds thereof
- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
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Description
(a)(i)反応性基を有するフッ素含有化合物と(ii)有機金属化合物とを混合する工程;
(b)多孔性鉱物酸化物担体材料を添加する工程;
(c)不活性ガス下、次に酸素を含む雰囲気下で、工程(b)由来の官能化担体を加熱する工程;及び
(d)活性担体を回収する工程。
好ましいフッ素含有化合物は、下記式で表される。
R(Fn)−X
(式中:
Rはヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル又は置換ヘテロヒドロカルビルであり、かつ20以下の非水素原子を有し;
nは1〜41であり;
XはOH、SH又はNR'2であり;
R'は水素又はヒドロカルビルである)
好ましいnは1〜6である。
好ましいXはOHである。
好適な化合物としては、フッ素含有アルコール、フッ素含有フェノール、フッ素含有チオール及びフッ素含有アミンが挙げられる。
好適な脂肪族アルコールとしては、2,2,2−トリフルオロエタノール及び1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オールが挙げられる。
好ましいアルコールは、2,2,2−トリフルオロエタノールである。
好適な芳香族アルコールとしては、2−フルオロフェノール、3−フルオロフェノール、3,5−ジフルオロフェノール、4−フルオロフェノール、3,4,5−トリフルオロフェノール及び4−(トリフルオロメチル)フェノールが挙げられる。
特に好ましいフェノールは、ペンタフルオロフェノールである。
好適なチオールとしては、2−フルオロベンゼンチオール、3−フルオロベンゼンチオール及び4−フルオロベンゼンチオールが挙げられる。
好適なアミンとしては、2−ブロモ−6−フルオロアニリン及び2−ブロモ−4,6−ジフルオロアニリンが挙げられる。
有機金属化合物としては、典型的には、第1族金属、第2族金属又は第13族金属(好ましくは第13族金属)のアルキル化誘導体から選択される。
好ましい金属は、アルミニウム、ホウ素、リチウム又はマグネシウムである。
有機金属化合物は、好ましくは、アルミニウム又はホウ素のアルキル化誘導体(例えば、トリエチルアルミニウム又はトリエチルホウ素)から選択される。
最も好ましい有機金属化合物は、有機アルミニウム化合物である。最も好ましい有機アルミニウム化合物は、トリエチルアルミニウム(TEA)である。
多孔性鉱物酸化物は、有利には、シリカ、アルミナ又はこれらの混合物から選択されるが、好ましくはシリカである。
好適なシリカは、100〜1000m2/g、好ましくは200〜600m2/gの表面積を有する。
好適なシリカは、15μmと150μmの間の平均孔径(15μm<d50<150μm)を有する。
好適なシリカとしては、Grace Davison製のSylopol2209及び2408シリカ又はPQ Corporation製のES70又はCS2050シリカが挙げられる。
担体材料を熱処理(焼成)に供し、担体材料の水分含量又はヒドロキシル含量を低減してもよい。使用に先立って、担体材料を、不活性ガス流通下又は減圧下、25℃〜1000℃、好ましくは100℃〜1000℃、最も好ましくは150℃〜850℃で処理してもよい。
官能化担体は、不活性ガス(例えば、アルゴン又は窒素)の雰囲気下で熱処理に供してもよく、100〜600℃、最も好ましくは150〜450℃で行われる。
担体は、更に、酸素を含む雰囲気下、70〜600℃、好ましくは100〜600℃、最も好ましくは150〜450℃で処理してもよい。
雰囲気は、酸素又は純酸素又はこれらの混合ガスを含んでいてもよい。
本発明の活性担体は、上記の工程の異なる順序によって好適に調製し得る。
従って、本発明の更なる態様により、多孔性鉱物酸化物担体材料と、フッ素と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属とを含む活性担体であって、反応性基を有するフッ素含有化合物と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属を有する有機金属化合物と、前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させる工程を含む方法であり、前記有機金属化合物と前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させてから、前記フッ素含有化合物を添加することを特徴とする方法によって調製される活性担体が提供される。
本発明の更なる態様により、多孔性鉱物酸化物担体材料と、フッ素と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属とを含む活性担体であって、反応性基を有するフッ素含有化合物と、第1族金属、第2族金属又は第13族金属と、前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させる工程を含む方法であり、前記フッ素含有化合物と前記多孔性鉱物酸化物担体材料とを接触させてから、前記有機金属化合物を添加することを特徴とする方法によって調製される活性担体が提供される。
前記フッ素含有化合物は、前述の定義のとおりである。
本発明の前記態様による好ましい活性担体は、前記多孔性鉱物酸化物担体材料がシリカである活性担体である。
好ましくは、担体は、1.8〜10、より好ましくは1.9〜3.0、最も好ましくは1.95〜2.3のF/Al比を有する。
F/Al比は、アルミニウムに対するフッ素のモル比を意味し、後述の元素分析によって測定されるwt%含量に基づく。
本発明の前記態様による好ましい活性担体は、多孔性鉱物酸化物担体材料がシリカである活性担体である。
本発明の前記態様による好ましい担体は、ケイ素とアルミニウムとフッ素とを含んでいる。
LxMQn
(式中、Lはシクロペンタジエニルリガンドであり;Mは第4族金属であり;Qは脱離基であり;x及びnは、金属の酸化状態に依存している)
CpMXn
(式中、Cpは単一のシクロペンタジエニル基又は置換シクロペンタジエニル基であり、これらは必要により置換基を介してMに共有結合してもよく;Mは、単一のシクロペンタジエニル基又は置換シクロペンタジエニル基のη5結合モードに束縛された第4族金属であり;Xは、それぞれ、ヒドリド、又は20以下の非水素原子を有するハロ、アルキル、アリール、アリールオキシ、アルコキシ、アルコキシアルキル、アミドアルキル、シロキシアルキル等、及び20以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基リガンドからなる群から選択された部分(moiety)であり、又は1つのXは必要によりCpと結合し、Mと共に金属環状物を形成してもよく;nは金属の結合価に依存している。)
R'は、それぞれ独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロ、シアノ及びこれらの組み合わせから選択され、前記R'は20以下の非水素原子を有し、必要により、2つのR'基(この場合、R'は水素、ハロ又はシアノではない)が、互いに結合し、シクロペンタジエニル環の隣接位に結合した2価の誘導体を形成し、縮合環構造を形成してもよく;
Xは、ヒドリド、又は20以下の非水素原子を有するハロ、アルキル、アリール、アリールオキシ、アルコキシ、アルコキシアルキル、アミドアルキル、シロキシアルキル等、及び20以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基リガンドからなる群から選択された部分であり;
Yは、−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり;
Mは、ハフニウム、チタン又はジルコニウムであり;
Z*は、SiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2SiR* 2、又はGeR* 2
(式中:
R*は、それぞれ独立して、水素、又はヒドロカルビル、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、及びこれらの組み合わせから選択された一種であり、前記R*は、10以下の非水素原子を有し、必要により、Z*からの2つのR*基(この場合、R*は水素ではない)又はZ*からのR*基とYからのR*基とが、環系を形成してもよい)であり;及び
nは、Mの結合価に応じて1又は2である]
R'は、それぞれ独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロ、シアノ、及びこれらの組み合わせから選択され、前記R'は、20以下の非水素原子を有し、必要により、2つのR'基(この場合、R'は水素、ハロ又はシアノではない)が互いに結合し、シクロペンタジエニル環の隣接位に結合する2価の誘導基を形成し、縮合環構造を形成してもよく;
Xは、30以下の非水素原子を有する中性のη4結合されるジエン基であり、Mと共にπ複合体を形成し;
Yは、−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり、
Mは、+2形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり;
Z*は、SiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2SiR* 2、又はGeR* 2
(式中:
R*は、それぞれ独立して、水素、又はヒドロカルビル、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、及びこれらの組み合わせから選択された一種であり、前記R*は、10以下の非水素原子を有し、必要により、Z*からの2つのR*基(この場合、R*は水素ではない)、又はZ*からのR*基とYからのR*基とが、環系を形成してもよい)
である]
最も好ましい複合体は、Mがチタンである複合体である。
本発明の担持触媒の調製用の特に好ましい複合体は、(t−ブチルアミド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)ジメチルシランチタニウム−η4−1,3−ペンタジエンである。
好ましくは、活性担体及び重合触媒を、好適な溶媒中で組み合わせてもよい。
好ましくは、有機金属化合物は、有機アルミニウム化合物である。
最も好ましくは、有機アルミニウム化合物は、トリイソブチルアルミニウム及びトリエチルアルミニウムである。
(a)遷移金属化合物、及び
(b)上記に定義された活性担体、又は上記に定義された方法によって調製された活性担体
を含むオレフィンの重合触媒系が提供される。
好ましい遷移金属化合物はメタロセンである。
最も好ましいα−オレフィンは、1−ヘキセンである。
本発明の活性担体は、優れた活性を有する担持重合触媒系を提供する。
(a)フッ化物
選択電極を利用する電位差測定分析によって、フッ化物含量を測定した。この目的のため、ワーツシュミット(Wurzshmitt)燃焼、次に酸検査を経て、試料を調製した。これらの方法は、当該分野で公知である。
X線蛍光分光法によって、アルミニウム含量を測定した。この目的のため、Pt−Auるつぼで、リチウムテトラボレートの存在下、試料を焼成した。1000℃と1100℃の間の温度で、触媒を溶融ボレート中で溶解する。得られる均質なガラスをディスク状に成形し、X線蛍光分光機で試験する。
(a)担体の熱処理
シリカ(PQ Corporation製のCS2050)を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。
1時間かけて30℃から100℃に昇温
30分かけて100℃から130℃に昇温
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で4時間維持
得られたシリカは、2.1mmol/gの表面シラノール濃度を有している。
10gのペンタフルオロフェノール(54.35ミリモル)の乾燥トルエン懸濁液に、55mLのトリエチルアルミニウム(1Mの乾燥ヘキサン溶液、55ミリモル)を0℃で滴下し、この混合物を0℃で1時間撹拌し、生成物Aを得た。
15gの上記焼成シリカの懸濁液に、37.8ミリモルの上記生成物A(1.2当量/表面シラノール基)を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン(5×50mL)で洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。
加熱窒素流動床:
1時間かけて30℃から130℃に昇温
130℃で1時間維持
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で4時間維持
加熱乾燥空気流動床:
1時間かけて30℃から130℃に昇温
130℃で2時間維持
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で8時間維持
元素分析:Al,3.73wt%;F,5.15wt%;[F/Al=1.96]
130℃で1時間維持
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で4時間維持
1時間かけて30℃から130℃に昇温
130℃で2時間維持
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で8時間維持
元素分析:Al,3.73wt%;F,5.15wt%;[F/Al=1.96]
(a)シリカの熱処理
シリカ(PQ Corporation製のCS2050)を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。
1時間かけて30℃から100℃に昇温
30分かけて100℃から130℃に昇温
1時間かけて130℃から250℃に昇温
250℃で4時間維持
得られたシリカは、活性化温度が250℃であるとき、2.5mmol/gの表面シラノール濃度を有している。
45mLのトリエチルアルミニウム(1Mの乾燥ヘキサン溶液、45ミリモル)に、3.22mLの2,2,2−トリフルオロエタノール(4.51g、45ミリモル)を0℃で滴下し、この混合物を0℃で1時間撹拌し、生成物Bを得た。
15gの上記焼成シリカの懸濁液に、45ミリモルのB(1.2当量/表面シラノール基)を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン(5×50mL)で洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。
加熱窒素流動床:
1時間かけて30℃から130℃に昇温
130℃で1時間維持
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で4時間維持
加熱乾燥空気流動床:
1時間かけて30℃から130℃に昇温
130℃で2時間維持
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で8時間維持
(a)シリカの熱処理
シリカ(PQ Corporation製のCS2050)を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。
1時間かけて30℃から100℃に昇温
30分かけて100℃から130℃に昇温
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で4時間維持
得られたシリカは、活性化温度が450℃であるとき、2.1mmol/gの表面シラノール濃度を有している。
20.3mLのトリエチルアルミニウム(1Mの乾燥ヘキサン溶液、20.3ミリモル)に、1.45mLの2,2,2−トリフルオロエタノール(2.03g、20.3ミリモル)を0℃で滴下し、この混合物を0℃で1時間撹拌し、生成物Bを得た。
8gの上記焼成シリカの懸濁液に、20.3ミリモルのB(1.2当量/表面シラノール基)を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン(5×50mL)で洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。
この改質シリカを、実施例2に記載のように、加熱窒素流動床に供し、次に乾燥空気流動床を加熱した。
(a)シリカの熱処理
シリカ(PQ Corporation製のCS2050)を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。
1時間かけて30℃から100℃に昇温
30分かけて100℃から130℃に昇温
1時間かけて130℃から250℃に昇温
250℃で4時間維持
得られたシリカは、活性化温度が250℃であるとき、2.5mmol/gの表面シラノール濃度を有している。
42.7mLのトリエチルアルミニウム(1Mの乾燥ヘキサン溶液、42.7ミリモル)に、3.57mLの1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(5.8g、34.4ミリモル)を0℃で滴下し、この混合物を0℃で1時間撹拌し、生成物Cを得た。
14.28gの上記焼成シリカの懸濁液に、34.4ミリモルのC(1.04当量/表面シラノール基)を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン(5×50mL)で洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。
この改質シリカを、実施例2に記載のように、加熱窒素流動床に供し、次に乾燥空気流動床を加熱した。
(a)シリカの熱処理
シリカ(PQ Corporation製のCS2050)を、15gのバッチで窒素流通下、以下の熱処理に供した。
1時間かけて30℃から100℃に昇温
30分かけて100℃から130℃に昇温
1時間かけて130℃から450℃に昇温
450℃で4時間維持
得られたシリカは、活性化温度が450℃であるとき、2.1mmol/gの表面シラノール濃度を有している。
15.4mLのトリエチルアルミニウム(1Mの乾燥ヘキサン溶液、15.4ミリモル)に、1.61mLの1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール(2.6g、15.5ミリモル)を0℃で滴下し、この混合物を0℃で1時間撹拌し、生成物Cを得た。
6.04gの上記焼成シリカの懸濁液に、15.2ミリモルのC(1.2当量/表面シラノール基)を室温で添加した。この懸濁液を1時間撹拌した。デカンテーションによって溶媒を除去し、シリカを乾燥ヘキサン(5×50mL)で洗浄した。得られた改質シリカを真空下で乾燥した。
この改質シリカを、実施例2に記載のように、加熱窒素流動床に供し、次に乾燥空気流動床を加熱した。
担体を、WO2007/014889に従って、以下の方法により調製した。
窒素流動床、450℃でのシリカの脱ヒドロキシル化(2.1mmolのシラノール基/g)
トリエチルアルミニウム(2当量/シラノール基)によるシリカのアルキル化
アルカンによる洗浄及び真空下での乾燥
窒素流動床の加熱、乾燥空気流動床の加熱、及び最終的に窒素流動床で10wt%の(NH4)2SiF6と共に加熱
元素分析:Al,5.9wt%;F,7wt%
元素分析の要約:
1.触媒調製:
(C5Me4SiMe2NtBu)Ti(η4−1,3−ペンタジエン)(2.525mMのヘキサン溶液)及びトリイソブチルアルミニウム(1Mのヘキサン溶液)のプレミックスを室温で調製した[Al/Ti(mol/mol)=50]。この溶液の一部を、100mgの活性担体に添加し、活性担体に対して30μmol/gのTiを担持した。
0.5mLの0.5Mトリイソブチルアルミニウム(TiBA)溶液(ヘキサン溶液)、1.7Lのイソブタン及び12gの1−ヘキセンで反応器を満たした。温度を80℃に上げて、10バールのエチレンを水素と共に添加した(H2/C2=0.2mol%)。触媒懸濁液を反応器に添加し、温度を90℃に上げた。エチレン及び水素を、継続的に反応器に供給し、一定のH2/C2比(0.2mol%)及びエチレン分圧(10バール)を保持した。重合を1時間行った。
3.重合結果:
1.触媒処方:
担体S2及びS4を用いて、2つの触媒を以下の同じ合成経路で調製した。
(C5Me4SiMe2NtBu)Ti(η4−1,3−ペンタジエン)(2.525mMのヘキサン溶液)及びトリイソブチルアルミニウム(1Mのヘキサン溶液)のプレミックスを室温で調製した[Al/Ti(mol/mol)=50]。この溶液の一部を、100mgの活性担体に添加し、活性担体に対して30μmolTi/gのTiを担持した。30分の反応時間の後、溶媒を真空下で除去し、乾燥触媒粉末を得た。
(C5Me4SiMe2NtBu)Ti(η4−1,3−ペンタジエン)(2.525mMのヘキサン溶液)及びトリイソブチルアルミニウム(1Mのヘキサン溶液)のプレミックスを室温で調製した[Al/Ti(mol/mol)=50]。この溶液の一部を、100mgの活性担体に添加し、活性担体に対して30μmolTi/gのTiを担持した。60分の反応時間の後、触媒を乾燥ヘキサン溶媒で5回洗浄し、真空下で溶媒を除去し、乾燥触媒粉末を得た。
重合を、10バールのエチレン圧下、80℃で60分行った。アルキル化シリカ(SiOH/TEA)をスカベンジャーとして注入してから、触媒を添加した。乾燥塩を、種床(seed bed)として使用した。イソブタンを流しながら80℃で触媒を反応器に入れた。活性担体系触媒は鉱物油に懸濁してから注入し、内部リファレンスの触媒は乾燥粉末として用いた。
3.重合結果:
ASTM D 4440に従って、25mmの直径の平行プレートを備えた動的レオメータ(例えば、TA Instruments製のARESレオメータ)で、不活性ガス下、動的モードで、動的レオロジー測定を行う。全ての実験において、レオメータを190℃で少なくとも30分間熱的に安定にしてから、適切に安定化され(抗酸化剤による)、圧縮成形された試料を平行プレートに挿入する。このプレートを、計測器に登録された正の垂直力で閉じ、良好な接触を確保する。約5分後、190℃でプレートを軽く圧縮し、このプレートの外周の過剰のポリマーを除去する。熱的安定性のため、及び垂直力を下げてゼロに戻すために更に10分間要した。すなわち、全ての測定は、試料が190℃で約15分間平衡になった後、十分な窒素で覆われた雰囲気で行った。
周波数掃引(FS)実験を、上記の適切に選択された歪みレベルを利用して、190℃で行い、このようにして測定された動的レオロジーデータを、レオメータソフトウェア(viz., Rheometrics RHIOS V4.4又はOrchestrator Software)を用いて分析し、溶融粘性モジュラス(G'')の一定の基準値(500Pa)で、溶融弾性モジュラスG'(G''=500Pa)を測定する。
Claims (19)
- 1.8を超えるF/Al比を有する活性担体を製造する方法であって、以下の工程:
(a)(i)反応性基を有するフッ素含有化合物と(ii)有機アルミニウム化合物とを混合する工程;
(b)多孔性鉱物酸化物担体材料を添加する工程;
(c)不活性ガス下、次に酸素を含む雰囲気下で、工程(b)由来の官能化担体を加熱する工程;及び
(d)活性担体を回収する工程
を含む、活性担体の製造方法。 - 前記フッ素含有化合物が、下記式:
R(Fn)−X
(式中:
Rはヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル又は置換ヘテロヒドロカルビルであり、かつ20以下の非水素原子を有し;
nは1〜41であり;
XはOH、SH又はNR'2であり、
R'は水素又はヒドロカルビルである)
で表される、請求項1記載の製造方法。 - nが1〜6である、請求項2記載の製造方法。
- XがOHである、請求項2又は3記載の製造方法。
- 前記フッ素含有化合物が、ペンタフルオロフェノール、2,2,2−トリフルオロエタノール又は1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オールから選択される、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 前記有機アルミニウム化合物が、トリエチルアルミニウムである、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多孔性鉱物酸化物担体材料が、シリカである、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記工程(b)由来の官能化担体を、不活性ガス下、100〜600℃の温度で加熱する、請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。
- 前記工程(b)由来の官能化担体を、酸素を含む雰囲気下、70〜600℃の温度で加熱する、請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。
- 活性担体が調製されたままの状態である、請求項1〜9のいずれかに記載の製造方法。
- 多孔性鉱物酸化物担体材料とアルミニウムとフッ素とを含む活性担体であって、
1.8を超えるF/Al比を有し、かつ以下の工程:
(a)(i)反応性基を有するフッ素含有化合物と(ii)有機アルミニウム化合物とを混合する工程;
(b)多孔性鉱物酸化物担体材料を添加する工程;
(c)不活性ガス下、次に酸素を含む雰囲気下で、工程(b)由来の官能化担体を加熱する工程;及び
(d)活性担体を回収する工程
を含む方法により得られる、前記活性担体。 - 1.8〜10のF/Al比を有する、請求項11記載の活性担体。
- オレフィンの重合用の担持触媒系であって、
(a)遷移金属化合物と(b)請求項11又は12記載の活性担体とを含む、前記担持触媒系。 - 前記遷移金属化合物が、メタロセンである、請求項13記載の担持触媒系。
- 前記メタロセンが、下記一般式:
R'は、それぞれ独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロ、シアノ及びこれらの組み合わせから選択され、前記R'は20以下の非水素原子を有し、必要により、2つのR'基(この場合、R'は水素、ハロ又はシアノではない)が、互いに結合し、シクロペンタジエニル環の隣接位に結合する二価の誘導基を形成し、縮合環構造を形成してもよく;
Xは、30以下の非水素原子を有する中性のη4結合されるジエン基であり、Mと共にπ複合体を形成し;
Yは、−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり;
Mは、+2形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり;
Z*はSiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、CR* 2SiR* 2、又はGeR* 2
(式中:
R*は、それぞれ独立して、水素、又はヒドロカルビル、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、及びこれらの組み合わせから選択された一種であり、前記R*は、10以下の非水素原子を有し、必要により、Z*からの2つのR*基(この場合、R*は水素ではない)、又はZ*からのR*基とYからのR*基とが、環系を形成してもよい)
である]
で表される、請求項14記載の担持触媒系。 - Mが、チタンである、請求項15記載の触媒系。
- エチレンを重合する方法又はエチレンと3〜10個の炭素原子を有するα−オレフィンとを共重合する方法であって、
請求項13記載の担持触媒系が存在する重合条件で重合する、前記方法。 - スラリー相又は気相で重合する、請求項17記載の方法。
- 前記α−オレフィンが、1−ヘキセンである、請求項17記載の方法。
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