JP6107742B2 - 熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
昇温の過程で反りが発生し、その後、平坦に戻る基板が載置され、当該基板を加熱する加熱温度に調節される加熱プレートと
前記加熱プレートに対して突没自在に設けられ、基板を下面側から支持する支持部材と、
前記加熱プレートの上方側に設定され、前記支持部材に対する基板の受け渡しが行われる受け渡し位置と、当該加熱プレートの下方側の位置との間で、前記支持部材を昇降させる昇降機構と、
前記受け渡し位置から基板を降下させる期間中、前記加熱プレートの上方側にて当該加熱プレートからの熱により反りが発生する温度まで基板を昇温し、次いで、基板が平坦に戻るまでの戻り時間の経過後に当該基板を加熱プレートに載置するように前記昇降機構を作動させて、前記支持部材の位置制御を行う制御部と、を備えることを特徴とする。
(a)前記制御部は、前記反りが発生する温度以上の温度に基板が昇温される第1の高さ位置にて前記支持部材の降下を停止させ、処理対象の基板に反りが発生し、前記戻り時間が経過した後に、再度、前記支持部材を降下させるように前記昇降機構を制御すること。前記第1の高さ位置は、加熱プレートからの距離が、当該位置にて基板に発生する反りの高さ方向の最大変位よりも大きくなる位置に設定されていること。さらに前記制御部は、前記第1の高さ位置よりも上方側の第2の高さ位置にて前記支持部材の降下を停止させ、処理対象の基板を予備加熱した後に、再度、前記支持部材を降下させるように前記昇降機構を制御すること。
(b)前記制御部は、予め基板の種類毎に取得した、基板に反りが発生する温度と前記戻り時間との対応関係に基づいて、処理対象の基板についての前記戻り時間が経過するタイミングを推定すること。また、前記制御部は、予め基板の種類毎に取得した、前記加熱温度に調節された加熱プレートから基板までの距離と、当該基板の温度の経時変化との関係に基づいて、処理対象の基板の温度を推定し、前記支持部材を降下させる際の位置制御に用いること。
(c)前記制御部は、前記受け渡し位置にて支持部材に基板を渡してから、前記加熱プレートの載置面に基板を載置し、その後、当該載置面から基板を上昇させるまでの期間中の基板の温度の時間積分値が、予め設定された値となるように設定された加熱シーケンスに基づいて、前記支持部材を昇降させる位置とタイミングとを決めること。前記基板の温度の時間積分値は、予め基板の種類毎に取得した、前記加熱プレートから基板までの距離と、当該基板の平均の昇温速度との関係に基づいて求められること。
(d)前記基板は、タンタル酸リチウム、ガリウムヒ素、ニオブ酸リチウムからなる基板材料群から選択された基板材料により構成されること。または前記基板は、熱伝導率が55W/(m・℃)以下の基板材料により構成されること。
加熱プレート2は、例えばSiCやAlNなどのセラミックス製の円板形状の熱板内に抵抗発熱体21を埋め込んだ構造となっており、この抵抗発熱体21は給電部23に接続されている(図2)。また加熱プレート2の上面には、当該上面から0.2mm上方の高さ位置にて基板Wを裏面から支持する複数のギャップピン22が設けられている。
昇降部材31や昇降モーター32は、支持ピン3の昇降機構に相当する。
なお、図1以外の図においては、排気管16や横桁部15、支柱部14の記載は省略してある。
さらに図2に示すように熱処理モジュール1には、後述の基板情報や処理条件の入力をオペレータから受け付けたり、エラーを発報したりするための、タッチパネル式のディスプレイなどからなるインターフェース部5が設けられている。
以下、当該機能の詳細な内容について図2〜図8を参照しながら説明する。
なお以下に説明する図3、図4においては、タンタル酸リチウムの薄基板を評価基板としている。
高さ位置は、評価基板の上面側の周縁から2mmだけ中心寄りの位置に設定した検出位置の高さをレーザー変位計により検出した。各図の横軸は経過時間(秒)、縦軸は検出高さ(mm)を示している。
一方、加熱プレート2の設定温度を60℃に上げると、図3(b)に示すように最大で約1.0mmの反りが発生した。このまま加熱を継続したところ、反りは次第に小さくなり、反りが検出されてから約10秒後には評価基板は、ほぼ平坦な状態に戻った。
一方、加熱プレート2の設定温度を90℃に上げると、図4(b)に示すように評価基板の反りが検出されたので、10℃刻みで加熱プレート2の設定温度を変化させたとき(以下、本実施の形態において同じ)の反り開始温度は90℃であることが分かる。また、このときの反り量は約0.7mmであり、その戻り時間は約30秒であった。さらに加熱プレート2の設定温度を110℃とすると、図4(c)に示すように反り量は約0.9mm、戻り時間は約46秒となった。
なお、反りデータ431に設定する戻り時間は、実際に計測した戻り時間(図4(b)、(c)、図4(b)、(c)参照)に対し、余裕を持たせた値(例えば計測結果の10%増しの値や、一律、戻り時間を5秒増やした値など)としてもよい。
以下、当該加熱シーケンスを作成する手法について説明する。なお、以下の説明において、支持ピン3に支持された基板Wの昇降動作は、基板Wの昇温速度と比較して十分に速く行うことができるものとする。
本例における予備加熱の温度は例えば60℃に設定されている。そして、上述の加熱段階数データ422(3段階)、及び予備加熱温度データ421(60℃)は、予め制御部4のメモリ42に記憶されている(図2)。
図7に示した例では、受け渡し位置(ギャップ高さ16.5mm)にて支持ピン3に受け渡された室温の基板Wが、第1段階で所定のギャップ高さ位置まで搬送されて予備加熱温度(60℃、図5(a)によれば反り開始温度でもある)まで昇温される。しかる後、さらに下方側のギャップ高さ位置に搬送され、第2段階で反り開始温度以上の温度(80℃)に昇温される。この第2段階では、反りが発生した基板Wの戻り時間が経過するのを待ち、その後、第3段階にて基板Wが加熱プレート2上に載置され、110℃に加熱される。
そこで本例の熱処理モジュール1は、以下に説明する方針に基づいて、各段階におけるギャップ高さ位置や、加熱時間を決定する。
第1段階において、室温(23℃)から予備加熱温度(T1)に加熱される基板Wの熱履歴V1は、以下の(1)式で表される。
V1=(T1―23)*A/2 …(1)
第2段階において、予備加熱温度(T1)から温度T2に加熱される基板Wの熱履歴V2は、以下の(2)式で表される。
V2=(T2―T1)*B/2+(T1―23)*B …(2)
第3段階において、加熱プレート2から基板Wを上昇させ、加熱を終えるまでの基板Wの熱履歴V3は、以下の(3)式で表される。
V3=(T3―23)*C―(T3―T2)*a/2 …(3)
V=V1+V2+V3 …(4)
はじめに、基板Wの加熱シーケンスを作成する動作について、図10のフロー図を参照しながら説明する。
はじめに熱処理モジュール1は、予め設定された処理条件の設定温度まで加熱プレート2を昇温させた状態で待機している。そして例えば、塗布、現像装置の塗布モジュールにてレジスト液の塗布が行われ、または現像モジュールにて現像液が供給されて現像された後の基板Wが基板搬送機構により熱処理モジュール1に搬送される。このとき図11に示すように、熱処理モジュール1は、筒状壁部12を基台部11内まで降下させ、支持ピン3を受け渡し位置まで上昇させ、熱処理モジュール1内に進入した基板搬送機構から基板Wを受け取る。
基板Wが予備加熱温度まで昇温されたら、当該基板Wを第2段階のギャップ高さ位置まで降下させて、予め設定された温度(T2)まで昇温する(図13)。
しかる後、所定時間が経過すると、受け渡し位置まで基板Wを上昇させ、処理空間内の排気を停止して筒状壁部12を降下させ、基板Wを搬出する。なお搬出前に基板Wを冷却する必要がある場合には、例えば受け渡し位置にて所定時間だけ待機させた後、基板Wを搬出してもよい。
処理が完了すると熱処理モジュール1は、支持ピン3を上昇させ、筒状壁部12を降下させて受け渡し位置まで搬送し、筒状壁部12を降下させる。しかる後、基板Wは、熱処理モジュール内に進入した基板搬送機構に受け渡され、次の処理モジュールへと搬送される。
この例のように、支持ピン3に支持された基板Wは、所定のギャップ高さ位置(既述の第1、第2の高さ位置)にて停止させて加熱を行うことは必須ではなく、基板Wを連続的に降下させながら加熱を行ってもよい。
1 熱処理モジュール
2 加熱プレート
3 支持ピン
31 昇降部材
32 昇降モーター
4 制御部
431 反りデータ
432 昇温特性データ
433 熱履歴設定データ
Claims (17)
- 基板の加熱を行う熱処理装置において、
昇温の過程で反りが発生し、その後、平坦に戻る基板が載置され、当該基板を加熱する加熱温度に調節される加熱プレートと
前記加熱プレートに対して突没自在に設けられ、基板を下面側から支持する支持部材と、
前記加熱プレートの上方側に設定され、前記支持部材に対する基板の受け渡しが行われる受け渡し位置と、当該加熱プレートの下方側の位置との間で、前記支持部材を昇降させる昇降機構と、
前記受け渡し位置から基板を降下させる期間中、前記加熱プレートの上方側にて当該加熱プレートからの熱により反りが発生する温度まで基板を昇温し、次いで、基板が平坦に戻るまでの戻り時間の経過後に当該基板を加熱プレートに載置するように前記昇降機構を作動させて、前記支持部材の位置制御を行う制御部と、を備えることを特徴とする熱処理装置。 - 前記制御部は、前記反りが発生する温度以上の温度に基板が昇温される第1の高さ位置にて前記支持部材の降下を停止させ、処理対象の基板に反りが発生し、前記戻り時間が経過した後に、再度、前記支持部材を降下させるように前記昇降機構を制御することを特徴とする請求項1に記載の熱処理装置。
- 前記第1の高さ位置は、加熱プレートからの距離が、当該位置にて基板に発生する反りの高さ方向の最大変位よりも大きくなる位置に設定されていることを特徴とする請求項2に記載の熱処理装置。
- 前記制御部は、前記第1の高さ位置よりも上方側の第2の高さ位置にて前記支持部材の降下を停止させ、処理対象の基板を予備加熱した後に、再度、前記支持部材を降下させるように前記昇降機構を制御することを特徴とする請求項2または3に記載の熱処理装置。
- 前記制御部は、予め基板の種類毎に取得した、基板に反りが発生する温度と前記戻り時間との対応関係に基づいて、処理対象の基板についての前記戻り時間が経過するタイミングを推定することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の熱処理装置。
- 前記制御部は、予め基板の種類毎に取得した、前記加熱温度に調節された加熱プレートから基板までの距離と、当該基板の温度の経時変化との関係に基づいて、処理対象の基板の温度を推定し、前記支持部材を降下させる際の位置制御に用いることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の熱処理装置。
- 前記制御部は、前記受け渡し位置にて支持部材に基板を渡してから、前記加熱プレートの載置面に基板を載置し、その後、当該載置面から基板を上昇させるまでの期間中の基板の温度の時間積分値が、予め設定された値となるように設定された加熱シーケンスに基づいて、前記支持部材を昇降させる位置とタイミングとを決めることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の熱処理装置。
- 前記基板の温度の時間積分値は、予め基板の種類毎に取得した、前記加熱プレートから基板までの距離と、当該基板の平均の昇温速度との関係に基づいて求められることを特徴とする請求項7に記載の熱処理装置。
- 前記基板は、タンタル酸リチウム、ガリウムヒ素、ニオブ酸リチウムからなる基板材料群から選択された基板材料により構成されることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一つに記載の熱処理装置。
- 前記基板は、熱伝導率が55W/(m・℃)以下の基板材料により構成されることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか一つに記載の熱処理装置。
- 基板を加熱プレートに載置して加熱を行う熱処理方法において、
前記加熱プレートの上方側に設定された受け渡し位置にて、前記加熱プレートに対して突没自在に設けられた支持部材に基板を支持させる工程と、
前記支持部材を降下させて基板を移動させる期間中、前記加熱プレートの上方側にて当該加熱プレートからの熱により基板を昇温し、当該基板に反りを発生させる工程と、
前記加熱プレートの上方側にて、前記反りの発生後、基板が平坦に戻る戻り時間の経過を待つ工程と、
前記戻り時間の経過後に、前記支持部材を前記加熱プレートの下方側へ降下させて、当該基板を加熱プレートに載置する工程と、を含むことを特徴とする熱処理方法。 - 前記基板に反りを発生させる工程、及び戻り時間の経過を待つ工程は、反りが発生する温度以上の温度に基板が昇温される第1の高さ位置にて前記支持部材の降下を停止させて行うことを特徴とする請求項11に記載の熱処理方法。
- 前記第1の高さ位置は、加熱プレートからの距離が、当該位置にて基板に発生する反りの高さ方向の最大変位よりも大きくなる位置に設定されていることを特徴とする請求項12に記載の熱処理方法。
- 前記第1の高さ位置よりも上方側の第2の高さ位置にて前記支持部材の降下を停止させ、処理対象の基板を予備加熱した後に、再度、前記支持部材を降下させる工程を含むことを特徴とする請求項12または13に記載の熱処理方法。
- 前記基板は、タンタル酸リチウム、ガリウムヒ素、ニオブ酸リチウムからなる基板材料群から選択された基板材料により構成されることを特徴とする請求項11ないし14のいずれか一つに記載の熱処理方法。
- 前記基板は、熱伝導率が55W/(m・℃)以下の基板材料により構成されることを特徴とする請求項11ないし15のいずれか一つに記載の熱処理方法。
- 載置された基板の加熱を行う加熱プレートを備えた熱処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶する記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項11ないし16のいずれか一つに記載の熱処理方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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