JP6078637B2 - 荷電粒子線装置およびフィルタ部材 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 166
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 64
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 36
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 50
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 19
- 230000006870 function Effects 0.000 description 16
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 235000015110 jellies Nutrition 0.000 description 1
- 239000008274 jelly Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000008279 sol Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/026—Means for avoiding or neutralising unwanted electrical charges on tube components
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0203—Protection arrangements
- H01J2237/0213—Avoiding deleterious effects due to interactions between particles and tube elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/022—Avoiding or removing foreign or contaminating particles, debris or deposits on sample or tube
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2002—Controlling environment of sample
- H01J2237/2003—Environmental cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2005—Seal mechanisms
- H01J2237/2006—Vacuum seals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
本実施例では、基本的な実施形態について説明する。図1には、本実施例の荷電粒子顕微鏡の全体構成図を示す。
本実施例の荷電粒子顕微鏡は、試料位置を変更することで観察視野を移動する手段としての試料ステージ5を蓋部材122に備えている。試料ステージ5には、面内方向へのXY駆動機構および高さ方向へのZ軸駆動機構を備えている。蓋部材122には試料ステージ5を支持する底板となる支持板107が取り付けられており、試料ステージ5は支持板107に固定されている。支持板107は、蓋部材122の第2筐体121への対向面に向けて第2筐体121の内部に向かって延伸するよう取り付けられている。Z軸駆動機構およびXY駆動機構からはそれぞれ支軸が伸びており、各々蓋部材122が有する操作つまみ108および操作つまみ109と繋がっている。装置ユーザは、これらの操作つまみ108および109を操作することにより、試料6の第2筐体121内での位置を調整する。
本実施例の荷電粒子顕微鏡においては、第2筐体内に置換ガスを供給する機能または第一の空間11や装置外部である外気とは異なった気圧状態を形成可能な機能を備えている。荷電粒子光学鏡筒2の下端から放出された荷電粒子線は、高真空に維持された第1の空間を通って、隔膜10を通過し、試料6に荷電粒子線が照射される。大気空間では電子線は気体分子によって散乱されるため、平均自由行程は短くなる。つまり、隔膜10と試料6の距離が大きいと一次荷電粒子線または荷電粒子線照射により発生する二次電子、反射電子もしくは透過電子等が試料及び検出器3まで届かなくなる。一方、荷電粒子線の散乱確率は、気体分子の質量数や密度に比例する。従って、大気よりも質量数の軽いガス分子で第2の空間を置換するか、少しだけ真空引きすることを行えば、電子線の散乱確率が低下し、荷電粒子線が試料に到達できるようになる。また、第2の空間の全体ではなくても、少なくとも第2の空間中の荷電粒子線の通過経路、すなわち隔膜10と試料6との間の空間の大気をガス置換または真空引きできればよい。
以上説明したように、本実施例では、試料ステージ5およびその操作つまみ108、109、ガス供給管100、圧力調整弁104が全て蓋部材122に集約して取り付けられている。従って装置ユーザは、上記操作つまみ108、109の操作、試料の交換作業、またはガス供給管100、圧力調整弁104の操作を第1筐体の同じ面に対して行うことができる。よって、上記構成物が試料室の他の面にバラバラに取り付けられている構成の荷電粒子顕微鏡に比べて操作性が非常に向上している。
100:ガス供給管、101:ガス制御用バルブ、102:連結部、103:ガスボンベまたは真空ポンプ、104:圧力調整弁、107:支持板、108,109:操作つまみ、121:第2筐体、122:蓋部材、123,124,125,126,128,129:真空封止部材、130:蓋部材、131:本体部、132:合わせ部、154:信号増幅器、155:隔膜保持部材、155a:位置決め部、200:フィルタ、201、202:孔、203:空気抜き孔、204:部材、205:フィルタ保持部材、205a:梁、205b:孔、210:薄膜、210a:土台、210b:補強材、250:薄膜フィルタ、250a:フィルタ保持部材、251:メッシュフィルタ、251a:フィルタ保持部材、252:支持部材、252a:持ち手
Claims (12)
- 一次荷電粒子線を試料上に照射する荷電粒子光学鏡筒と、
荷電粒子線装置の一部を成し、内部が真空ポンプにより真空排気される筐体と、
前記真空排気される空間の気密状態を維持可能であり、かつ前記一次荷電粒子線を透過または通過させる隔膜と、
少なくとも前記一次荷電粒子線が前記試料に照射された状態で当該一次荷電粒子線の経路上に配置され、前記一次荷電粒子線および前記試料から得られる二次的荷電粒子を透過または通過させ、かつ前記隔膜が破損した場合に飛散する飛散物の少なくとも一部を遮蔽するフィルタ部材と、を有する、荷電粒子線装置。 - 前記フィルタ部材は、前記一次荷電粒子線および前記二次的荷電粒子を透過または通過させる開口を有する、請求項1記載の荷電粒子線装置。
- 前記一次荷電粒子線を透過または通過させる開口は前記荷電粒子光学鏡筒の光軸上にある、請求項2記載の荷電粒子線装置。
- 前記フィルタ部材は、前記二次的荷電粒子を透過または通過させる開口を複数有する、請求項2記載の荷電粒子線装置。
- 前記フィルタ部材の少なくとも一部がメッシュ部材である、請求項1記載の荷電粒子線装置。
- 前記フィルタ部材は、前記隔膜を保持する隔膜保持部材に着脱可能に設置される、請求項1記載の荷電粒子線装置。
- 前記隔膜保持部材は、前記フィルタ部材と前記隔膜の位置関係を所定の位置に配置するための位置決め部を備える、請求項6記載の荷電粒子線装置。
- 前記フィルタ部材は、前記一次荷電粒子線を透過または通過させる開口部と、前記二次的荷電粒子を透過または通過させる薄膜とを有する、請求項1記載の荷電粒子線装置。
- 前記薄膜の表面に当該薄膜を補強する補強部材を有する、請求項8記載の荷電粒子線装置。
- 複数の前記フィルタ部材が前記荷電粒子光学鏡筒の光軸上に直列配置される、請求項1記載の荷電粒子線装置。
- 前記開口とは異なる孔であって、前記フィルタ部材と前記隔膜との間の空間を前記筐体内の空間に連通し、前記隔膜が破損した場合に前記隔膜より前記荷電粒子光学鏡筒側に流入する気体の少なくとも一部を前記筐体内部に放出する孔を有する、請求項2記載の荷電粒子線装置。
- 一次荷電粒子線を試料上に照射する荷電粒子光学鏡筒と、
荷電粒子線装置の一部を成し、内部が真空ポンプにより真空排気される筐体と、
前記真空排気される空間の気密状態を維持可能であり、かつ前記一次荷電粒子線を透過または通過させる隔膜と、を備える荷電粒子線装置に設置されるフィルタ部材であって、
当該フィルタ部材は、少なくとも前記一次荷電粒子線が前記試料に照射された状態で当該一次荷電粒子線の経路上に配置され、
前記一次荷電粒子線および前記試料から放出または反射される二次的荷電粒子を透過または通過させ、かつ前記隔膜が破損した場合に飛散する飛散物の少なくとも一部を遮蔽する、フィルタ部材。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013083458 | 2013-04-12 | ||
JP2013083458 | 2013-04-12 | ||
PCT/JP2014/055538 WO2014167919A1 (ja) | 2013-04-12 | 2014-03-05 | 荷電粒子線装置およびフィルタ部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6078637B2 true JP6078637B2 (ja) | 2017-02-08 |
JPWO2014167919A1 JPWO2014167919A1 (ja) | 2017-02-16 |
Family
ID=51689333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015511156A Active JP6078637B2 (ja) | 2013-04-12 | 2014-03-05 | 荷電粒子線装置およびフィルタ部材 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9373480B2 (ja) |
JP (1) | JP6078637B2 (ja) |
CN (1) | CN105103262B (ja) |
DE (1) | DE112014001109B4 (ja) |
WO (1) | WO2014167919A1 (ja) |
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- 2014-03-05 US US14/782,695 patent/US9373480B2/en active Active
- 2014-03-05 JP JP2015511156A patent/JP6078637B2/ja active Active
- 2014-03-05 DE DE112014001109.6T patent/DE112014001109B4/de active Active
- 2014-03-05 WO PCT/JP2014/055538 patent/WO2014167919A1/ja active Application Filing
- 2014-03-05 CN CN201480019441.4A patent/CN105103262B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9373480B2 (en) | 2016-06-21 |
WO2014167919A1 (ja) | 2014-10-16 |
JPWO2014167919A1 (ja) | 2017-02-16 |
CN105103262B (zh) | 2017-10-10 |
US20160071685A1 (en) | 2016-03-10 |
CN105103262A (zh) | 2015-11-25 |
DE112014001109B4 (de) | 2019-11-14 |
DE112014001109T5 (de) | 2016-01-07 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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