JP6035602B2 - 荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 - Google Patents
荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6035602B2 JP6035602B2 JP2012254835A JP2012254835A JP6035602B2 JP 6035602 B2 JP6035602 B2 JP 6035602B2 JP 2012254835 A JP2012254835 A JP 2012254835A JP 2012254835 A JP2012254835 A JP 2012254835A JP 6035602 B2 JP6035602 B2 JP 6035602B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- sample
- charged particle
- particle beam
- sample stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 153
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 69
- 239000012466 permeate Substances 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 58
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 54
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 14
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 10
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 210000000601 blood cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 238000005136 cathodoluminescence Methods 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 235000015110 jellies Nutrition 0.000 description 1
- 239000008274 jelly Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008279 sol Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000010902 straw Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/224—Luminescent screens or photographic plates for imaging; Apparatus specially adapted therefor, e. g. cameras, TV-cameras, photographic equipment or exposure control; Optical subsystems specially adapted therefor, e. g. microscopes for observing image on luminescent screen
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2002—Controlling environment of sample
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2002—Controlling environment of sample
- H01J2237/2003—Environmental cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2002—Controlling environment of sample
- H01J2237/2003—Environmental cells
- H01J2237/2004—Biological samples
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2602—Details
- H01J2237/2605—Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
- H01J2237/2608—Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere with environmental specimen chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
本実施例では、基本的な実施形態について説明する。図1には、本実施例の荷電粒子顕微鏡の全体構成図を示す。
第一の隔膜10は土台9上に成膜または蒸着されている。第一の隔膜10はカーボン材、有機材、金属材、シリコンナイトライド、シリコンカーバイド、酸化シリコンなどである。土台9は例えばシリコンや金属部材のような部材である。第一の隔膜10部は複数配置された多窓であってもよい。一次荷電粒子線を透過または通過させることが可能な隔膜の厚みは数nm〜数μm程度である。第一の隔膜は大気圧と真空を分離するための差圧下で破損しないことが必要である。そのため、第一の隔膜10の面積は数十μmから大きくとも数mm程度の大きさである。第一の隔膜10の形状は正方形でなく、長方形などのような形状でもよい。形状に関してはどのような形状でもかまわない。
第一の隔膜10と試料ステージ5との間には試料6を搭載可能で第二の隔膜50が具備された土台51が配置される。試料6と第二の隔膜50は試料ステージ5上の試料台上に配置される。第二の隔膜50は土台51によって支持されている。言い換えれば、試料ステージ5の上に載置された試料6は第二の隔膜50によってその表面(観察面)が覆われる。すなわち、第二の隔膜50の試料台側の面(第一の隔膜に対向する面と反対側の面)に試料が接触した状態で一次荷電粒子線が照射される。このため第二の隔膜50は荷電粒子線が透過または通過可能で着脱可能に構成されている。
次に、図4を用いて試料6の透過像観察を行うための構造を図示する。試料6の第二の隔膜50の反対側に試料6を透過した荷電粒子線を検出することが可能な検出器59を備える。検出器59は数keVから数十keVのエネルギーで飛来してくる荷電粒子線を検知及び増幅することができる検出素子である。例えば、シリコン等の半導体材料で作られた半導体検出器や、ガラス面または内部にて荷電粒子信号を光に変換することが可能なシンチレータやルミネッセンス発光材、YAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)素子等である。検出器59からの信号は配線60を経由してプリアンプ61に送信される。プリアンプ61からの信号は図示しない配線にて下位制御部37に送られ、画像形成信号として使用される。プリアンプは図中大気空間上に配置してあるが、筺体7や試料ステージ5に具備されていてもよい。検出器59が荷電粒子信号を光に変換する検出素子ならば、配線60は光伝送路であり、プリアンプ61は光信号を電気信号に増幅可能な光電気信号増幅器となる。
次に、図5を用いて、第一の隔膜10と第二の隔膜50(または隔膜とそれら土台)とが接触することによって、隔膜が破損するのを防止するための接触防止部材を有する構成に関して説明する。図では、各隔膜の近傍だけを図示し、荷電粒子光学鏡筒2や筺体7などは省略する。図5(a)には第二の隔膜50近傍に接触防止部材56が具備された様子を図示している。接触防止部材56は隔膜の周囲にあってもよいし、隔膜上のどこかに配置してもよい。このように、接触防止部材56を配置すれば、第二の隔膜50を第一の隔膜10に近接させても、隔膜同士が接触することはないので、ユーザは安心して試料ステージ5のZ軸駆動機構を操作できる。この接触防止部材56は第二の隔膜50を製作する際に成膜または蒸着することにより製作が可能である。材料としては例えば有機膜や金属膜などである。厚みとしては、数十nmから100μm以下程度である。この接触防止部材56は図中第二の隔膜50上に具備されているが、第一の隔膜10側にあってもよいし、また両方にあってもよい。接触防止部材56により、第一の隔膜10と第二の隔膜50との最小の近接距離が制限され、この距離以上隔膜同士が近づくことを防止できる。
前記までは試料台52上に第二の隔膜50は一つだけ図示していたが、図6で示したように大気空間の中に複数配置してもよい。この場合のように、一つの板部材(試料台または試料ステージ等)に複数の試料搭載箇所を設け、板部材の移動により様々な種類の試料を隔膜50の下に配置すれば、非常に高スループットに多くの試料の荷電粒子線による観察または分析が可能である。この場合の観察や分析は検出器3による二次的荷電粒子検出だけでなく、前述の図示しないX線などの光子線検出器や透過荷電粒子線の検出を行ってもよい。この複数の検出器による観察や分析は別々に行ってもよいし、同時に行ってもよい。また、試料ステージ5に自動搬送機能を備えていれば、さらに高スループットになるのはいうまでもない。自動搬送機能としては例えば第一の隔膜10下に所望の第二の隔膜50が自動搬送されるために、試料ステージ5に電動モータなどの自動搬送機構を備える。
次に、第一の隔膜10と第二の隔膜50との距離が一定の状態でも、試料6を第二の隔膜を一部として形成される試料保持空間に搭載可能な方法に関して説明する。図8では試料台52の直下(第二の隔膜と対向する面内)に試料6が導入可能な開口部62を備える。試料ステージ上に配置された状態で試料6を第二の隔膜50の直下に配置したい場合は、試料ステージにも図示しない開口部を備えてもよい。この構成の場合は、第一の隔膜10と第二の隔膜50との距離が一定で荷電粒子線が第二の隔膜50に照射させている状態で試料6を搭載することが可能となる。本構成は試料6を外部で調整して、すぐに二次的荷電粒子やX線などの光子線にて観察及び分析したい場合に有用である。また、土台51が密着または接着している試料台52を装置外部に取り外した状態で、装置外部にて開口部62から試料を導入してもよい。
次に、図11に、試料台52の下に光学顕微鏡64を備えた構成に関して説明する。光学顕微鏡64は第二の隔膜50に対して試料側に配置されている。荷電粒子光学鏡筒の光軸53と、第一の隔膜の中心軸54と、第二の隔膜の中心軸55と、光学顕微鏡64の光軸65のそれぞれの軸の位置がほぼ合っているとする。図示しないが試料ステージ5は光学顕微鏡64を避ける構成で配置されるものとする。この構成の場合、試料6の観察及び分析が荷電粒子線顕微鏡だけでなく光学顕微鏡64でも可能となる。但し、この場合は、試料台52は光学顕微鏡の光に対して透明である必要がある。透明な部材としては、透明ガラス、透明プラスチック、透明の結晶体などである。より一般的な試料台としてスライドグラス(又はプレパラート)やディッシュ(又はシャーレ)などの透明試料台などがある。なお、前述では便宜上「顕微鏡」と記載したが、荷電粒子線を試料に照射した試料の挙動を光学顕微鏡にて観察してもよいし、光学顕微鏡からの光を試料に照射してその挙動を荷電粒子線顕微鏡により観察してもよい。
また、図示しないが、第二の隔膜近傍に温度ヒータや試料中に電界を発生可能な電圧印加部などを備えてもよい。この場合、試料が加熱または冷却していく様子や、試料に電界が印加されている様子を観察することが可能となる。また、前述では第一の隔膜と第二の隔膜の二種類の隔膜を配置することに関して説明したが、隔膜の数は三種類以上あってもよい。例えば、荷電粒子光学鏡筒2の内部に隔膜があってもよい。本発明では隔膜の数は問わず、本実施例で意図する機能を満たす限り、本実施例のSEMないし荷電粒子線装置の範疇に属する。
本実施例の荷電粒子顕微鏡は、試料位置を変更することで観察視野を移動する手段としての試料ステージ5を蓋部材122に備えている。試料ステージ5には、面内方向へのXY駆動機構および高さ方向へのZ軸駆動機構を備えている。蓋部材122には試料ステージ5を支持する底板となる支持板107が取り付けられており、試料ステージ5は支持板107に固定されている。支持板107は、蓋部材122の第2筐体121への対向面に向けて第2筐体121の内部に向かって延伸するよう取り付けられている。Z軸駆動機構およびXY駆動機構からはそれぞれ支軸が伸びており、各々蓋部材122が有する操作つまみ108および操作つまみ109と繋がっている。装置ユーザは、これらの操作つまみ108および109を操作することにより、試料6の第2筐体121内での位置を調整する。
本実施例の荷電粒子顕微鏡においては、第2筐体内に置換ガスを供給する機能または第一の空間11や装置外部である外気とは異なった気圧状態を形成可能な機能を備えている。荷電粒子光学鏡筒2の下端から放出された荷電粒子線は、高真空に維持された第1の空間を通って、第一の隔膜10を通過し、更に、大気圧または(第1の空間よりも)低真空度に維持された第2の空間に侵入する。その後、第二の隔膜50を通過し試料6に荷電粒子線が照射される。大気空間では電子線は気体分子によって散乱されるため、平均自由行程は短くなる。つまり、隔膜10と試料6の距離が大きいと一次荷電粒子線または荷電粒子線照射により発生する二次電子、反射電子もしくは透過電子等が試料及び検出器3まで届かなくなる。一方、荷電粒子線の散乱確率は、気体分子の質量数や密度に比例する。従って、大気よりも質量数の軽いガス分子で第2の空間を置換するか、少しだけ真空引きすることを行えば、電子線の散乱確率が低下し、荷電粒子線が試料に到達できるようになる。また、第2の空間の全体ではなくても、少なくとも第2の空間中の荷電粒子線の通過経路、すなわち第一の隔膜10と第二の隔膜50との間の空間の大気をガス置換または真空引きできればよい。
次に、図14に装置外部の大気空間から第二の隔膜50に覆われた状態に試料をセットするための構成を示す。前述の実施例と同様に、試料ステージ5周辺及び試料6近傍に液体導入出部300を備える。液体導入出部300は蓋部材122に接続されている。蓋部材122につなぎ部310を設ければ装置外部から液体導入出用ポンプや注射器などの液体導入出制御部を取り付ける際により簡便となる。前述の通り、第2筺体内部空間は所望のガス状態や低真空状態になる場合がある。そのため、第二の隔膜50を支持する土台51と試料台52間の真空封じ部材66だけでなく、試料台52と試料ステージ5間にも真空封じ部材66を備える。図示しないが気密状態が安定的に維持されるように、金属部材やねじ等で押さえつけるような構造としてもよい。
以上説明したように、本実施例では、試料ステージ5およびその操作つまみ108、109、ガス供給管100、圧力調整弁104、つなぎ部310が全て蓋部材122に集約して取り付けられている。従って装置ユーザは、上記操作つまみ108、109の操作、試料の交換作業、またはガス供給管100、圧力調整弁104や液体導入出の制御の操作を第1筐体の同じ面に対して行うことができる。よって、上記構成物が試料室の他の面にバラバラに取り付けられている構成の荷電粒子顕微鏡に比べて操作性が非常に向上している。
50:第一の隔膜、51:土台、52:試料台、53:荷電粒子線の光軸、54:第一の隔膜の中心軸、55:第二の隔膜の中心軸、56:接触防止部材、57:接触防止部材、58:ボールベアリング、59:検出器、60:配線または光伝送路、61:プリアンプまたは光電気信号増幅器、62:開口部、63:流路、64:光学顕微鏡、65:光学顕微鏡の光軸、66:真空封じ部、
100:ガス供給管、101:ガス制御用バルブ、102:連結部、103:ガスボンベまたは真空ポンプ、104:圧力調整弁、107:支持板、108,109:操作つまみ、121:第2筐体、122,130:蓋部材、123,124,125,126,128,129:真空封止部材、131:本体部、132:合わせ部、
154:信号増幅器、155:隔膜保持部材、
204:試料位置操作つまみ、
300:液体導入出口
Claims (14)
- 一次荷電粒子線を試料上に照射する荷電粒子光学鏡筒と、
当該荷電粒子線装置の一部を成し、内部が真空ポンプにより真空排気される筐体と、
前記真空排気される空間の気密状態を維持可能であり、かつ前記一次荷電粒子線を透過または通過させる第一の隔膜と、
前記第一の隔膜と前記試料との間に前記一次荷電粒子線を透過または通過可能で第二の隔膜と、を備え、
前記第二の隔膜に接触した状態の試料に対して前記一次荷電粒子線を照射し、
前記第一の隔膜の窓面積よりも前記第二の隔膜の窓面積の方が大きい、荷電粒子線装置。 - 前記第二の隔膜と前記試料とを搭載可能な試料ステージを有し、
前記第一の隔膜と前記第二の隔膜とが非接触の状態で、当該第一の隔膜と当該第二の隔膜との位置関係と変更可能である、請求項1記載の荷電粒子線装置。 - 前記第一の隔膜と前記第二の隔膜との距離が一定の状態で、前記第二の隔膜を一部として形成される試料保持空間に前記試料を導入することが可能である、請求項1記載の荷電粒子線装置。
- 前記第二の隔膜が試料台または試料ステージ上に複数配置される、請求項1記載の荷電粒子線装置。
- 前記第二の隔膜に対して前記試料側に配置される光学式顕微鏡を有する、請求項1記載の荷電粒子線装置。
- 一次荷電粒子線を透過または通過させる第一の隔膜により、試料が載置された空間の圧力が前記一次荷電粒子線を発生する荷電粒子光学鏡筒内部の圧力より大きく保たれるように前記試料が載置された空間が隔離された状態で、前記試料に前記一次荷電粒子線を照射することで前記試料を観察する試料観察装置向けの試料台ユニットであって、
前記一次荷電粒子線を透過または通過させる第二の隔膜と、
前記第二の隔膜を保持する保持部材と、
前記第二の隔膜の保持部材が載置される試料台を有し、
前記第二の隔膜、前記保持部材、前記試料台によって形成される空間に試料が保持され、
前記第一の隔膜の窓面積よりも前記第二の隔膜の窓面積の方が大きい、試料台ユニット。 - 前記第一の隔膜と前記第二の隔膜との間の最小距離を制限する部材を有する、請求項6記載の試料台ユニット。
- 前記第二の隔膜が前記試料台上に複数配置される、請求項6記載の試料台ユニット。
- 前記試料を保持する試料台は、前記第二の隔膜と対向する面に、前記試料を導入する開口部を有する、請求項6記載の試料台ユニット。
- 前記保持部材は前記試料の流路を有する、請求項6記載の試料台ユニット。
- 荷電粒子光学鏡筒から照射される一次荷電粒子線が、試料が載置された空間の圧力が前記荷電粒子光学鏡筒内部の圧力より大きく保たれるように前記試料が載置された空間と前記荷電粒子光学鏡筒の内部の空間とを隔離する第一の隔膜を透過または通過するステップと、
前記第一の隔膜を透過または通過した前記一次荷電粒子線が第二の隔膜を透過または通過するステップと、
前記第二の隔膜を透過または通過した前記一次荷電粒子線が前記第二の隔膜に接触した前記試料に照射されるステップと、
前記一次荷電粒子線の照射によって前記試料から発生した信号を検出するステップを有し、
前記第一の隔膜の窓面積よりも前記第二の隔膜の窓面積の方が大きい、試料観察方法。 - 前記第一の隔膜と前記第二の隔膜とが非接触の状態で、前記第二の隔膜と前記試料とを保持している試料ステージを移動させて、前記第一の隔膜と前記第二の隔膜との位置関係を変更する、請求項11記載の試料観察方法。
- 前記第一の隔膜と前記第二の隔膜との距離が一定の状態で、前記第二の隔膜を一部として形成される空間に前記試料を導入する、請求項11記載の試料観察方法。
- 前記第二の隔膜は複数設けられており、
前記複数の第二の隔膜のうち一部または全部に前記第一の隔膜を通過または透過した前記一次荷電粒子線が照射されるように、前記複数の第二の隔膜が配置された試料台を移動する、請求項11記載の試料観察方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012254835A JP6035602B2 (ja) | 2012-11-21 | 2012-11-21 | 荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 |
DE112013005107.9T DE112013005107T5 (de) | 2012-11-21 | 2013-11-21 | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung, Probentischeinheit und Probenbeobachtungsverfahren |
PCT/JP2013/081411 WO2014080987A1 (ja) | 2012-11-21 | 2013-11-21 | 荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 |
US14/443,293 US9472375B2 (en) | 2012-11-21 | 2013-11-21 | Charged particle beam device, sample stage unit, and sample observation method |
CN201380060092.6A CN104798173A (zh) | 2012-11-21 | 2013-11-21 | 带电粒子线装置、试样台单元以及试样观察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012254835A JP6035602B2 (ja) | 2012-11-21 | 2012-11-21 | 荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014103014A JP2014103014A (ja) | 2014-06-05 |
JP6035602B2 true JP6035602B2 (ja) | 2016-11-30 |
Family
ID=50776165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012254835A Expired - Fee Related JP6035602B2 (ja) | 2012-11-21 | 2012-11-21 | 荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9472375B2 (ja) |
JP (1) | JP6035602B2 (ja) |
CN (1) | CN104798173A (ja) |
DE (1) | DE112013005107T5 (ja) |
WO (1) | WO2014080987A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112014001777T5 (de) * | 2013-05-10 | 2016-01-14 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung |
JP6169506B2 (ja) * | 2014-02-19 | 2017-07-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料ホルダ、観察システム、および画像生成方法 |
US9842724B2 (en) * | 2015-02-03 | 2017-12-12 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for imaging of a photomask through a pellicle |
JP2016213155A (ja) * | 2015-05-13 | 2016-12-15 | 大日本印刷株式会社 | 試料収容セル |
US10141157B2 (en) | 2015-06-29 | 2018-11-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method for adjusting height of sample and observation system |
KR102000407B1 (ko) * | 2015-08-21 | 2019-07-15 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자 현미경의 관찰 지원 유닛 및 이것을 사용한 시료 관찰 방법 |
JP6731668B2 (ja) * | 2016-08-08 | 2020-07-29 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 顕微鏡観察方法及び顕微鏡観察補助装置 |
KR101818406B1 (ko) * | 2017-12-05 | 2018-01-15 | 한국기초과학지원연구원 | 복합현미경 장치 |
JP2021039880A (ja) | 2019-09-03 | 2021-03-11 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
DE102020100677B3 (de) * | 2020-01-14 | 2021-04-01 | Karl Storz Se & Co. Kg | Optisches Beobachtungsinstrument |
US11443916B2 (en) * | 2020-04-15 | 2022-09-13 | Kla Corporation | Thin pellicle material for protection of solid-state electron detectors |
DE102021101982A1 (de) * | 2021-01-28 | 2022-07-28 | ebm-papst neo GmbH & Co. KG | Vorrichtung und Verfahren zur Erfassung einer Konzentration von vorbestimmten Partikeln anhand ihrer morphologischen Eigenschaften in Luft |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59146145A (ja) * | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Akashi Seisakusho Co Ltd | 試料移動装置 |
DE10032607B4 (de) * | 2000-07-07 | 2004-08-12 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Teilchenstrahlgerät mit einer im Ultrahochvakuum zu betreibenden Teilchenquelle und kaskadenförmige Pumpanordnung für ein solches Teilchenstrahlgerät |
IL156027A0 (en) * | 2000-12-01 | 2003-12-23 | El Mul Technologies Ltd | Device and method for the examination of samples in a non-vacuum environment using a scanning electron microscope |
JP2007113952A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Canon Inc | 電子顕微鏡観察用試料作製方法、電子顕微鏡観察用微小容器及び電子顕微鏡観察方法。 |
JP2008047411A (ja) * | 2006-08-15 | 2008-02-28 | Jeol Ltd | 試料保持体及び試料検査方法並びに試料検査装置 |
JP2008218342A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
JP5253800B2 (ja) | 2007-12-26 | 2013-07-31 | 日本電子株式会社 | 試料保持体及び観察・検査方法並びに観察・検査装置 |
US8334510B2 (en) | 2008-07-03 | 2012-12-18 | B-Nano Ltd. | Scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment |
DE102008062450B4 (de) * | 2008-12-13 | 2012-05-03 | Vistec Electron Beam Gmbh | Anordnung zur Beleuchtung eines Substrats mit mehreren individuell geformten Partikelstrahlen zur hochauflösenden Lithographie von Strukturmustern |
JP2010230417A (ja) | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Jeol Ltd | 試料の検査装置及び検査方法 |
JP2011243483A (ja) * | 2010-05-20 | 2011-12-01 | Jeol Ltd | 試料保持体、検査装置、及び検査方法 |
JP5699023B2 (ja) * | 2011-04-11 | 2015-04-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP2013020918A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
JP5836838B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2015-12-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
-
2012
- 2012-11-21 JP JP2012254835A patent/JP6035602B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-11-21 CN CN201380060092.6A patent/CN104798173A/zh active Pending
- 2013-11-21 US US14/443,293 patent/US9472375B2/en active Active
- 2013-11-21 DE DE112013005107.9T patent/DE112013005107T5/de not_active Withdrawn
- 2013-11-21 WO PCT/JP2013/081411 patent/WO2014080987A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014103014A (ja) | 2014-06-05 |
US20150311033A1 (en) | 2015-10-29 |
DE112013005107T5 (de) | 2015-07-09 |
CN104798173A (zh) | 2015-07-22 |
US9472375B2 (en) | 2016-10-18 |
WO2014080987A1 (ja) | 2014-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6035602B2 (ja) | 荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 | |
JP5930922B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP5936484B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP5825964B2 (ja) | 検査又は観察装置及び試料の検査又は観察方法 | |
JP5909431B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6078637B2 (ja) | 荷電粒子線装置およびフィルタ部材 | |
KR101840232B1 (ko) | 주사 전자 현미경 및 화상 생성 방법 | |
US9466457B2 (en) | Observation apparatus and optical axis adjustment method | |
JP5936497B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP2016001629A (ja) | 試料観察方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150722 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160601 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160913 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161012 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6035602 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |