JP5936484B2 - 荷電粒子線装置及び試料観察方法 - Google Patents
荷電粒子線装置及び試料観察方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5936484B2 JP5936484B2 JP2012181305A JP2012181305A JP5936484B2 JP 5936484 B2 JP5936484 B2 JP 5936484B2 JP 2012181305 A JP2012181305 A JP 2012181305A JP 2012181305 A JP2012181305 A JP 2012181305A JP 5936484 B2 JP5936484 B2 JP 5936484B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- sample
- particle beam
- detector
- housing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2002—Controlling environment of sample
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24455—Transmitted particle detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2602—Details
- H01J2237/2605—Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
Description
本願は上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば、一次荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子光学鏡筒と、前記荷電粒子光学鏡筒の内部を真空引きする真空ポンプと、前記試料が載置された空間と前記荷電粒子光学鏡筒とを隔離するように配置され、前記一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜と、前記試料に対して前記隔膜の反対側に載置され、前記試料への前記荷電粒子線の照射によって得られる透過荷電粒子線を検出する検出器とを備えることを特徴とする。
隔膜10は隔膜保持部材155上に具備されている。図示しないが、隔膜10と隔膜保持部材155は真空シールが可能な接着剤や両面テープ等により接着されているものとする。
試料6は検出器150上に配置されている。検出器150は検出器保持台166に具備されている。検出器150からの検出信号はコネクタ161とケーブルからなる信号線157経由で信号増幅器152に接続されている。検出器保持台166と試料台17とは試料台17に具備された凸部材169や留め金具(図示せず)などで固定してもよいし、しなくてもよい。試料台17が移動することにより検出器150および検出器保持台166の位置がずれてしまう場合にはこれらの固定が有効である。
図10には、本実施例の荷電粒子顕微鏡の全体構成を示す。制御系については、実施例2と同様であるので図示を省略し、装置の要部のみ示している。
図11に本実施例の荷電粒子顕微鏡の全体構成を示す。実施例3と同様、図11では装置の要部のみ示す。本構成では、鍋型のアタッチメント(第2筐体121)を用いて、第1筐体7に上からアタッチメントをはめ込み、更にその上から電子光学鏡筒2をはめ込んだ構成を備える。アタッチメントは第1の筺体に取り付けられた状態では、直方体状の第1筺体7の内部に突き出した形状となっている。この状態において、第1筐体7の内壁面と第2筐体の外壁面および隔膜10によって構成される閉空間(第1の空間11)は大気圧状態の空間となり、第2筐体121の内部(第2の空間12)は真空排気される空間となる。
Claims (13)
- 一次荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子光学鏡筒と、
前記荷電粒子光学鏡筒の内部を真空引きする真空ポンプと、
前記試料への前記一次荷電粒子線の照射によって得られる透過荷電粒子線を検出する検出器と、
前記検出器とは別個に本荷電粒子線装置内部に設けられた信号増幅器と、を備え、
前記信号増幅器と前記検出器との間の距離が、前記試料が載置された空間と前記荷電粒子光学鏡筒とを隔離するように配置され、前記一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜に対する前記検出器の位置に関らず、不変であり、
前記試料の少なくとも一部または全部が前記検出器上に直接的または間接的に載置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 一次荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子光学鏡筒と、
前記荷電粒子光学鏡筒の内部を真空引きする真空ポンプと、
前記試料への前記一次荷電粒子線の照射によって得られる透過荷電粒子線を検出する検出器と、
前記検出器とは別個に本荷電粒子線装置内部に設けられた信号増幅器と、
前記試料を面内方向または高さ方向に移動する試料ステージと、を備え、
前記信号増幅器は前記試料ステージに設置され、
前記試料の少なくとも一部または全部が前記検出器上に直接的または間接的に載置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 一次荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子光学鏡筒と、
前記荷電粒子光学鏡筒の内部を真空引きする真空ポンプと、
前記試料への前記一次荷電粒子線の照射によって得られる透過荷電粒子線を検出する検出器と、
前記検出器とは別個に本荷電粒子線装置内部に設けられた信号増幅器と、
前記試料が載置された空間と前記荷電粒子光学鏡筒とを隔離するように配置され、前記一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜と、
前記荷電粒子線装置全体を装置設置面に対して支持し、内部が前記真空ポンプにより真空排気される第1の筐体と、
前記第1の筐体の側面、または内壁面、または前記荷電粒子光学鏡筒に位置が固定される、前記試料を内部に格納する第2の筐体と、を備え、
前記第2の筐体の形状が1つの側面が開放された直方体状の形状であり、
さらに、前記開放された側面を蓋う蓋部材を備え、
前記蓋部材に前記検出器を具備したステージが固定され、
前記検出器は前記試料に対して前記隔膜の反対側に載置され、
前記隔膜は前記第2の筐体の上面側に設けられ、
前記第2の筐体内部の圧力が前記第1の筐体内部の圧力と同等か、
前記第2の筐体内部の圧力を前記第1の筐体内部の圧力よりも高い状態に維持し、
前記試料の少なくとも一部または全部が前記検出器上に直接的または間接的に載置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1又は2に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料が載置された空間と前記荷電粒子光学鏡筒とを隔離するように配置され、前記一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜を備え、
前記検出器は前記試料に対して前記隔膜の反対側に載置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線装置全体を装置設置面に対して支持し、内部が前記真空ポンプにより真空排気される第1の筐体と、
前記第1の筐体の側面、または内壁面、または前記荷電粒子光学鏡筒に位置が固定される、前記試料を内部に格納する第2の筐体と、を備え、
前記隔膜は前記第2の筐体の上面側に設けられ、
前記第2の筐体内部の圧力が前記第1の筐体内部の圧力と同等か、
前記第2の筐体内部の圧力を前記第1の筐体内部の圧力よりも高い状態に維持することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料は、箔、膜またはメッシュを介して前記検出器上に載置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料から前記検出器の検出素子までの距離が1mm以下であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置において、
前記検出器が前記荷電粒子線装置に対して着脱可能であることを特徴とした荷電粒子線装置。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置において、
前記検出器は半導体材料で形成された検出素子を有し、前記検出素子から得られる電気信号を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置において、
前記検出器は前記透過荷電粒子線を光に変換するシンチレータであることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料を面内方向または高さ方向に移動する試料ステージを備え、
前記試料ステージ上に前記検出器が配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1又は3に記載の荷電粒子線装置において、
少なくとも前記隔膜と前記試料との間の空間の雰囲気を空気以外のガスに置換することが可能なガス導入口を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料が載置された空間の雰囲気を、103Pa以上大気圧以下の圧力に制御可能であることを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012181305A JP5936484B2 (ja) | 2012-08-20 | 2012-08-20 | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
KR1020147036503A KR101671323B1 (ko) | 2012-08-20 | 2013-06-28 | 하전 입자선 장치 및 시료 관찰 방법 |
PCT/JP2013/067756 WO2014030430A1 (ja) | 2012-08-20 | 2013-06-28 | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
US14/422,552 US9418818B2 (en) | 2012-08-20 | 2013-06-28 | Charged particle beam device and sample observation method |
DE202013012246.3U DE202013012246U1 (de) | 2012-08-20 | 2013-06-28 | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung |
DE201311003726 DE112013003726T5 (de) | 2012-08-20 | 2013-06-28 | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung und Probenbeobachtungsverfahren |
IN908DEN2015 IN2015DN00908A (ja) | 2012-08-20 | 2013-06-28 | |
GB1501866.6A GB2519038A (en) | 2012-08-20 | 2013-06-28 | Charged particle beam device and sample observation method |
CN201380040935.6A CN104584181B (zh) | 2012-08-20 | 2013-06-28 | 带电粒子线装置及试样观察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012181305A JP5936484B2 (ja) | 2012-08-20 | 2012-08-20 | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014038787A JP2014038787A (ja) | 2014-02-27 |
JP2014038787A5 JP2014038787A5 (ja) | 2015-04-02 |
JP5936484B2 true JP5936484B2 (ja) | 2016-06-22 |
Family
ID=50149746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012181305A Expired - Fee Related JP5936484B2 (ja) | 2012-08-20 | 2012-08-20 | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9418818B2 (ja) |
JP (1) | JP5936484B2 (ja) |
KR (1) | KR101671323B1 (ja) |
CN (1) | CN104584181B (ja) |
DE (2) | DE202013012246U1 (ja) |
GB (1) | GB2519038A (ja) |
IN (1) | IN2015DN00908A (ja) |
WO (1) | WO2014030430A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9349567B2 (en) * | 2013-05-10 | 2016-05-24 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device |
CN107272352B (zh) * | 2013-09-07 | 2021-02-02 | Asml荷兰有限公司 | 目标处理单元 |
JP6169506B2 (ja) * | 2014-02-19 | 2017-07-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料ホルダ、観察システム、および画像生成方法 |
US10903042B2 (en) | 2014-05-08 | 2021-01-26 | Technische Universiteit Delft | Apparatus and method for inspecting a sample using a plurality of charged particle beams |
NL2012780B1 (en) | 2014-05-08 | 2016-02-23 | Univ Delft Tech | Apparatus and method for inspecting a sample using a plurality of charged particle beams. |
AT516561B1 (de) * | 2014-12-10 | 2019-07-15 | Verein Zur Foerderung Der Elektronenmikroskopie Und Feinstrukturforschung | Elektronenmikroskop und Verfahren zum Untersuchen einer Probe mit einem Elektronenmikroskop |
JP2017050046A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US11024481B2 (en) * | 2016-03-04 | 2021-06-01 | Fei Company | Scanning electron microscope |
DE112016006577T5 (de) * | 2016-04-22 | 2018-11-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ladungsträgermikroskop und Verfahren zum Abbilden einer Probe |
US11177109B2 (en) | 2016-05-23 | 2021-11-16 | Hitachi High-Tech Corporation | Specimen holder and charged particle beam device provided with same |
JP2020017415A (ja) * | 2018-07-26 | 2020-01-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
BE1028265B1 (nl) * | 2020-05-05 | 2021-12-06 | Matthias Iturrospe | Scanning microscoop mechanisme en werkwijze voor het laden van preparaten |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2066618A (en) | 1979-12-28 | 1981-07-08 | Nat Res Dev | Electron microscope image recording system |
JP2602287B2 (ja) * | 1988-07-01 | 1997-04-23 | 株式会社日立製作所 | X線マスクの欠陥検査方法及びその装置 |
US4975578A (en) * | 1989-04-17 | 1990-12-04 | The Research Foundation Of State University Of Ny | Method and apparatus for determining distribution of mass density |
JPH1064467A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Toshiba Corp | 電子顕微鏡 |
JPH10283978A (ja) * | 1997-04-10 | 1998-10-23 | Hamamatsu Photonics Kk | 電子検出器 |
WO2000039836A1 (en) * | 1998-12-29 | 2000-07-06 | Philips Electron Optics B.V. | Sem for transmission operation with a location-sensitive detector |
CZ20031455A3 (cs) | 2000-12-01 | 2003-10-15 | Yeda Research And Development Co. Ltd. | Zařízení a způsob pro zkoumání vzorků v nevakuovém prostředí s použitím skenovacího elektronového mikroskopu |
US6844543B2 (en) * | 2002-07-03 | 2005-01-18 | The Regents Of The University Of California | Quantitation of absorbed or deposited materials on a substrate that measures energy deposition |
JP4636897B2 (ja) * | 2005-02-18 | 2011-02-23 | 株式会社日立ハイテクサイエンスシステムズ | 走査電子顕微鏡 |
JP5002251B2 (ja) * | 2006-12-06 | 2012-08-15 | 日本電子株式会社 | 試料検査方法及び試料検査装置 |
JP5253800B2 (ja) | 2007-12-26 | 2013-07-31 | 日本電子株式会社 | 試料保持体及び観察・検査方法並びに観察・検査装置 |
EP2105944A1 (en) * | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FEI Company | Environmental cell for a particle-optical apparatus |
WO2010001399A1 (en) | 2008-07-03 | 2010-01-07 | B-Nano | A scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment |
US8299432B2 (en) * | 2008-11-04 | 2012-10-30 | Fei Company | Scanning transmission electron microscope using gas amplification |
JP2011129343A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置の試料ホルダ |
JP2011243483A (ja) | 2010-05-20 | 2011-12-01 | Jeol Ltd | 試料保持体、検査装置、及び検査方法 |
JP5320418B2 (ja) | 2011-01-31 | 2013-10-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5699023B2 (ja) * | 2011-04-11 | 2015-04-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
-
2012
- 2012-08-20 JP JP2012181305A patent/JP5936484B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-06-28 KR KR1020147036503A patent/KR101671323B1/ko active IP Right Grant
- 2013-06-28 WO PCT/JP2013/067756 patent/WO2014030430A1/ja active Application Filing
- 2013-06-28 IN IN908DEN2015 patent/IN2015DN00908A/en unknown
- 2013-06-28 DE DE202013012246.3U patent/DE202013012246U1/de not_active Expired - Lifetime
- 2013-06-28 US US14/422,552 patent/US9418818B2/en active Active
- 2013-06-28 CN CN201380040935.6A patent/CN104584181B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2013-06-28 DE DE201311003726 patent/DE112013003726T5/de not_active Ceased
- 2013-06-28 GB GB1501866.6A patent/GB2519038A/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9418818B2 (en) | 2016-08-16 |
CN104584181A (zh) | 2015-04-29 |
GB201501866D0 (en) | 2015-03-18 |
KR101671323B1 (ko) | 2016-11-02 |
US20150228447A1 (en) | 2015-08-13 |
JP2014038787A (ja) | 2014-02-27 |
IN2015DN00908A (ja) | 2015-06-12 |
DE112013003726T5 (de) | 2015-05-13 |
CN104584181B (zh) | 2017-07-25 |
KR20150022907A (ko) | 2015-03-04 |
DE202013012246U1 (de) | 2015-10-21 |
GB2519038A (en) | 2015-04-08 |
WO2014030430A1 (ja) | 2014-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5936484B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP5909431B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5699023B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6078637B2 (ja) | 荷電粒子線装置およびフィルタ部材 | |
JP5930922B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP6207824B2 (ja) | 荷電粒子線装置、隔膜の位置調整方法および隔膜位置調整ジグ | |
JP6302702B2 (ja) | 走査電子顕微鏡および画像生成方法 | |
JP5825964B2 (ja) | 検査又は観察装置及び試料の検査又は観察方法 | |
JP6035602B2 (ja) | 荷電粒子線装置、試料台ユニット、及び試料観察方法 | |
JP5923412B2 (ja) | 観察装置および光軸調整方法 | |
JP5936497B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP6169703B2 (ja) | 隔膜取付部材および荷電粒子線装置 | |
JP5923632B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6272384B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2016001629A (ja) | 試料観察方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150210 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150210 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20150210 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150311 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151020 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160412 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160510 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5936484 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |