JP6073691B2 - 搬送装置及び搬送用部材 - Google Patents

搬送装置及び搬送用部材 Download PDF

Info

Publication number
JP6073691B2
JP6073691B2 JP2013004569A JP2013004569A JP6073691B2 JP 6073691 B2 JP6073691 B2 JP 6073691B2 JP 2013004569 A JP2013004569 A JP 2013004569A JP 2013004569 A JP2013004569 A JP 2013004569A JP 6073691 B2 JP6073691 B2 JP 6073691B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adsorption
measurement
electrode
measurement electrode
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013004569A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014138022A (ja
Inventor
要 三輪
要 三輪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Spark Plug Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP2013004569A priority Critical patent/JP6073691B2/ja
Publication of JP2014138022A publication Critical patent/JP2014138022A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6073691B2 publication Critical patent/JP6073691B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、搬送装置及び搬送用部材に関し、特に搬送装置において、例えば半導体ウェハ等の被搬送体(被吸着体)を載置し吸着して搬送する搬送用部材に関する。
従来、搬送装置において被搬送体を保持する搬送用部材(例えばセラミック部材)は、ピックとも呼ばれ、複数のセラミック層を一体焼成してなるものや(例えば特許文献1参照)、誘電体である被搬送体(例えば半導体ウェハ)を静電力によって吸着可能にされたものが知られている(例えば特許文献2参照)。
この静電力によって被搬送体を吸着して搬送する搬送用部材の内部には、静電力を発生させるための電極である吸着電極が設けられている。この技術では、静電力によって被搬送体を吸着して確実に保持することができるので、被搬送体を速やかに搬送することが可能である。
ところが、上述した技術では、被搬送体が搬送用部材に確実に吸着されていない場合には、搬送の途中で被搬送体が搬送用部材から脱落する可能性がある。特に、近年では、作業効率を向上させるために、搬送速度を上げることが検討されているので、被搬送体が搬送用部材に確実に吸着されていることをチェック(検知)することは重要である。
また、このような搬送用部材に被搬送体が載置されていることをチェックする技術として、搬送用部材に一対の電極(測定電極)を埋め込み、この測定電極間にインピーダンスメータを接続し、一対の測定電極間における静電容量の変化から被搬送体の有無をチェックする技術が提案されている(特許文献3参照)。
特開平4−37047号公報 特開2011−77288号公報 特開2001−267400号公報
しかしながら、上述した従来技術では、搬送用部材を構成する平坦な基板(セラミック基板)の同一平面に、一対の測定電極が配置されているので、この技術を吸着電極を使用する静電チャックに適用した場合には、被搬送体の検知精度が低下する可能性がある。
つまり、吸着電極を使用する静電チャックに測定電極を配置する場合には、測定電極と吸着電極が同一平面にて近接して配置されることになるので、吸着電極に通電すると測定電極に電気的ノイズが乗り易く、そのため、精度良く被搬送体を検知することができない可能性があるという問題があった。
本発明は、前記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、被搬送体(被吸着体)が搬送用部材に載置されていることを精度良く検知することができる搬送用部材及びその搬送用部材を用いた搬送装置を提供することである。
(1)本発明(搬送用部材)は、第1態様として、電気絶縁性を有し、被吸着体が載置される基材と、前記基材に配置され、静電力によって前記被吸着体を吸着する吸着電極と、前記基材に配置され、静電容量の変化によって前記被吸着体の有無を検知するための一対の測定電極と、を備え、前記被吸着体を載置し吸着して搬送する搬送用部材において、前記吸着電極と前記測定電極とを、前記吸着面の広がる平面方向において所定の空間を介して配置したことを特徴とする。
本第1態様では、被吸着体を載置する基材の吸着面側にて、吸着電極と測定電極とを吸着面の広がる平面方向において所定の空間を介して配置している。
従って、被吸着体を吸着するために、吸着電極に通電した場合でも、吸着電極と測定電極との間に設けられた空間によって、吸着電極側から測定電極側に電流が流れにくい、よって、測定電極に電気的ノイズが乗り易にくく、そのため、精度良く被吸着体の有無を検知することができる。
(2)本発明では、第2態様として、前記吸着電極を内部に備えた吸着電極部と前記一対の測定電極を内部に備えた測定電極部とを備えるとともに、前記吸着面が広がる平面方向において前記吸着電極部と前記測定電極部とが接しないように、前記吸着電極部と前記測定電極部とを前記基材の吸着面より突出させて設けたことを特徴とする。
本第2態様では、吸着電極部と測定電極部とは基材の吸着面より突出しているので(即ち間に空間があるので)、吸着電極に通電した場合でも、測定電極に電気的ノイズが乗り易にくい。よって、精度良く被吸着体の有無を検知することができる。
なお、本第2態様では、吸着電極部を、基材の吸着面より部分的に島状に突出させて、1又は複数個設けることができる。
(3)本発明では、第3態様として、前記吸着電極を内部に備えた吸着電極部と前記一対の測定電極を内部に備えた測定電極部とを備えるとともに、前記吸着面の広がる平面方向において前記吸着電極部と前記測定電極部とが接しないように、前記吸着電極部と前記測定電極部との間に溝を設けたことを特徴とする。
本第3態様では、吸着電極部と測定電極部との間には溝があるので(即ち間に空間があるので)、吸着電極に通電した場合でも、測定電極に電気的ノイズが乗り易にくい。よって、精度良く被吸着体の有無を検知することができる。
(4)本発明では、第4態様として、前記基材の吸着面側に、前記被吸着体を支持するスペーサを備えるとともに、該スペーサの高さを前記吸着電極部及び前記測定電極部の高さより高く設定し、且つ、前記基材をその表面と平行な方向で見た場合に、前記吸着電極部及び前記測定電極部を、前記被吸着体が前記スペーサによって支持される少なくとも2箇所の支持位置の間に配置したことを特徴とする。
本第4態様では、基材には、スペーサと吸着電極部及び測定電極部とが設けられており、スペーサの高さは吸着電極部及び測定電極部の高さより高く設定され、しかも、基材の表面と平行な方向で(即ち表面に正対する方向に対して垂直の方向にて)見た場合、吸着電極部及び測定電極部は、スペーサの少なくとも2箇所の支持位置の間に配置されている。
従って、搬送用部材の上に例えば半導体ウェハのような誘電体である被吸着体を載置した場合、即ち、スペーサ上に被吸着体を載置した場合には、被吸着体は、スペーサによって基材表面より離隔された箇所を有する。つまり、被吸着体は、スペーサの少なくとも2箇所の支持位置にて支持されて基材表面より離れた状態で保持される。
この状態で、吸着電極に電力(電圧)が印加されると、吸着電極によって発生した静電力によって、被吸着体が吸引されるので、被吸着体が湾曲する。すなわち、被吸着体の支持位置側(両側)が支持された状態で、その間の部分が吸着電極によって引き寄せられるので、被吸着体の中央部分が湾曲して測定電極部に接触し易くなる。
よって、この状態では、被吸着体は中央部分が湾曲してより確実に測定電極部に接触するようになるので、被吸着体の有無の検知を一層精度良く行うことができる。
ここで、搬送用部材において、「少なくとも2箇所の支持位置の間に吸着電極部が配置されている」という構成が、1箇所でもあれば、本発明の範囲である。
(5)本発明では、第5態様として、前記スペーサ間に複数の前記測定電極部を備え、少なくとも2個の前記測定電極部の高さが異なるように設定するとともに、該高さが異なる2個の測定電極部において、前記被吸着体が各測定電極部に接した場合の静電容量が異なるように設定したことを特徴とする。
本第5態様では、少なくとも2個の測定電極部の高さが異なるとともに、被吸着体が各測定電極部に接した場合の静電容量が異なるように設定されている。従って、各測定電極部の測定電極間の静電容量の変化から被吸着体と各測定電極部との接触状態(従って被吸着体の有無)を検知することができる。
例えば、背の高い測定電極部に被吸着体が接触した場合の静電容量を、背の低い測定電極部に被吸着体が接触した場合の静電容量より小さく設定することにより、各測定電極部における静電容量の変化から被吸着体の接触状態を把握することができる。よって、被吸着体の接触状態に対応した静電容量の変化が検知された場合には、被吸着体が実際に載置されていると確実に判断することができる。
なお、測定電極部において静電容量を違える方法としては、例えば測定電極と測定電極部の上面(被吸着体が接触する面)との距離(例えば測定電極上のセラミック層の厚さ)を違える方法を採用できる。ここで、前記距離が小さくなるほど、静電容量は大きくなる。
(6)本発明では、第6態様として、前記基材を前記吸着面に対して垂直に見た場合に、前記基材内における前記測定電極と接続される配線が、他の配線と交差しないように配置したことを特徴とする。
本第6態様では、基材において、測定電極と接続される配線が他の配線(例えば吸着電極と接続される配線)と交差しないように配置されているので、測定電極に電気的ノイズが乗りにくく、よって、精度良く被吸着体の有無を検知できる。
(7)本発明(搬送装置)は、第7態様として、前記請求項1〜6のいずれか1項に記載の搬送用部材を備えるとともに、該搬送用部材上に前記被吸着体を載置して搬送することを特徴とする。
本第7態様では、上述した搬送用部材を用いて、被吸着体を確実に吸着して速やかに搬送することができる。
(8)本発明では、第8態様として、前記一対の測定電極に接続するとともに、該一対の測定電極間の静電容量を測定する静電容量計を備えたことを特徴とする。
本第8態様では、静電容量計によって、測定電極間の静電容量を測定でき、この静電容量から、被吸着体の有無を検知できる。
(9)本発明では、第9態様として、前記静電容量計によって測定された前記一対の測定電極間の静電容量に基づいて、前記搬送用部材上に被吸着体が載置されているか否かを判定する判定手段を備えたことを特徴とする。
本第9態様では、例えばマイクロコンピュータを備えた電子制御装置によって、測定電極間の静電容量に基づいて、搬送用部材上に被吸着体が載置されているか否かを判定することができる。
なお、判定手段は、マイクロコンピュータに記憶された制御プログラムによって実現することができる。
なお、以下に、本発明の各構成について説明する。
前記吸着電極(従って吸着電極部)や測定電極(従って測定電極部)の個数は、半導体ウェハ等の吸着や測定電極間の静電容量を測定できる限りは、その個数に限定はない。また、吸着電極や測定電極の構成や形状(平面形状)としては、公知の各種の形状を採用でき、被吸着体の吸着や静電容量を測定できる限りは、特に限定はない。
同様に、スペーサの個数や形状は、半導体ウェハ等の被吸着体を湾曲させて保持できる限りは、その個数に限定はない。
前記基材としては、平板状の基板を採用でき、この基材を構成する材料として、電気絶縁性を有するセラミックや樹脂材料等を使用できる。
このセラミックとしては、アルミナ(Al23)、酸化イットリウム(Y23)、酸化珪素(SiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化マグネシウム(MgO)、ムライト(3Al23・2SiO2)等のセラミックスを利用できる。また、ガラスセラミック(例えばアルミナとホウケイ酸ガラスとの混合物)等を利用できる。更に、ポリイミド等の有機樹脂等を利用できる。
なお、吸着電極、測定電極、更には吸着電極や測定電極に電気的に接続される導体パターンやビアなどの導電性を有する材料としては、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)、銀(Ag)、銅(Cu)や、これらの合金、又は、導電性炭化ケイ素(SiC)を採用できる。
実施例1の搬送装置のシステム構成を示す説明図である。 実施例1の搬送用部材を示す平面図である。 (a)は搬送用部材を破断し島状の吸着電極部を示す斜視図、(b)は搬送用部材を破断し島状の測定電極部を示す斜視図である。 搬送用部材を板厚方向に沿って破断し拡大して、その要部を模式的に示す断面図である。 搬送用部材上に半導体ウェハが載置された状態を示す正面図(セラミック基板の表面と平行な方向から見た状態を示す正面図)である。 実施例1の搬送用部材の製造手順を示す説明図である。 実施例2の搬送用部材を示す平面図である。 (a)は実施例2の搬送用部材を板厚方向に沿って破断し、その搬送用部材に半導体ウェハを載置した状態を模式的に示す断面図、(b)はその搬送用部材に載置した半導体ウェハを吸着させて湾曲させた状態を模式的に示す断面図である。 実施例3の搬送用部材を示す平面図である。 (a)は実施例3の搬送用部材を板厚方向に沿って破断し、その搬送用部材に半導体ウェハを載置した状態を模式的に示す断面図、(b)はその搬送用部材に載置した半導体ウェハを弱く吸着させて若干湾曲させた状態を模式的に示す断面図、(c)はその搬送用部材に載置した半導体ウェハを強く吸着させて大きく湾曲させた状態を模式的に示す断面図である。 実施例4の搬送用部材を板厚方向に沿って破断し、その搬送用部材に半導体ウェハを載置した状態を模式的に示す断面図である。 実施例5の搬送用部材を示す平面図である。
以下では、本発明を実施するための形態(実施例)の搬送装置及び搬送用部材について説明する。
a)まず、搬送用部材を使用する搬送装置の全体の構成について説明する。
図1に示す様に、本実施例1では、半導体製造装置の一部を構成する装置として、搬送装置1が用いられており、搬送装置1によって搬送される被搬送体(被吸着体)は、円盤状の誘電体であり、弾性を有するシリコン製のウェハ(半導体ウェハ)3である。
前記搬送装置1は、制御部5と、(セラミック部材からなる静電チャックである)搬送用部材7と、アーム機構9と、移動機構11と、吸着電極駆動部13と、静電容量計14とを備えている。
このうち、制御部5は、アーム機構9、移動機構11、吸着電極駆動部13、静電容量計14の各部の動作を制御する電子制御装置(例えばマイクロコンピュータ)である。つまり、この制御部5は、コンピュータプログラムに基づいてCPUが動作することによって実現される。
アーム機構9は、搬送用部材7と移動機構11との間を連結する機構であり、搬送用部材7を移動機構11に対して相対的に移動させ、搬送装置1の外部に対して半導体ウェハ3の受け渡しを行う。
移動機構11は、搬送用部材7及びアーム機構9を搭載し、搬送装置1の外部に対して相対的に移動可能に構成された機構であり、搬送用部材7に保持された半導体ウェハ3の移動を行う。
吸着電極駆動部13は、後述する一対の吸着電極K1、K2(図2参照)に対して、半導体ウェハ3を保持する静電力を発生させるための電圧を印加する回路である(即ち、一対の電極が異なる極性の電位となるように電圧を印加する)。
静電容量計14は、後述する一対の測定電極S1、S2(図2参照)に接続されており、測定電極S1、S2間における静電容量を測定するものである。この静電容量計14では、一対の測定電極S1、S2間に、例えば数ミリワット以下の高周波電力を印加し、それによって一対の測定電極S1、S2間に発生する静電容量を測定する。
b)次に、本実施例の要部である搬送用部材7について説明する。
図2に示す様に、本実施例の搬送用部材7は、半導体ウェハ3を載置し吸着して搬送する(主としてセラミックからなる)セラミック部材である。この搬送用部材7は、(平面形状が)略U字形の薄板状のセラミック基板15と、該セラミック基板15上に島状に分散して設けられた円盤形状の4個の吸着電極部17、19、21、23と、前記セラミック基板15上に設けられた(静電容量を測定するための)測定電極部25と、前記セラミック基板15の基端側(同図左側)に設けられた一対の吸着給電部27、29と、前記セラミック基板15の吸着給電部27、29より内側に設けられた一対の測定給電部31、33と、前記セラミック基板15の(吸着給電部27、29より)基端側に設けられた一対の固定穴35、37とを備えている。
以下、各構成について説明する。
前記セラミック基板15は、複数のセラミック層15a、15b、15c(図4参照)が積層一体化された平板状の基板であり、電気絶縁性を有する例えば酸化アルミニウム(アルミナ:Al23)等のセラミックからなる。
このセラミック基板15は、略台形の基部41を有しており、その基部41から、左右対称(図2では上下方向)に、長方形の第1アーム部43及び第2アーム部45が、平行に先端側(同図右側)に向かって突出している。
前記吸着電極部17、19は、(載置された場合の)半導体ウェハ3に対向する様に、第1アーム部43の表面に、長手方向に沿って、その中央部分に2個配置されており、同様に、吸着電極部21、23は、半導体ウェハ3に対向する様に、第2アーム部45の表面に、長手方向に沿って、その中央部分に2個配置されている。なお、第1アーム部43と第2アーム部45とにおける各吸着電極部17〜23の配置は、同図の上下方向において同じ位置である。
この吸着電極部17〜23は、図3(a)に拡大して示すように、セラミック基板15の表面から島状に突出するように形成されている。つまり、吸着電極部17〜23は、セラミック基板15の一方の側(表面側:同図上方)から、僅かに(例えば0.5mm)円盤状(円柱状)に突出したものである。そして、このセラミックからなる突出した部分49の内部に、表面と平行に上述した(左右対称の半円形の)一対の吸着電極K1、K2が配置されている。
なお、突出した部分49のセラミック材料は、セラミック基板15と同じであり、突出した吸着電極部17〜23の厚み方向における吸着電極K1、K2の位置は、例えばほぼ中央である。
図2に戻り、各吸着電極部17〜23においては、それぞれ一方の吸着電極K1は、セラミック基板15の内部に設けられた配線51を介して、一方の吸着給電部27に接続されており、同様に、それぞれ他方の吸着電極K2は、セラミック基板15の内部に設けられた配線53を介して、他方の吸着給電部29に接続されている。
前記測定電極部25は、(載置された場合の)半導体ウェハ3に対向する様に、即ち半導体ウェハ3のセラミック基板15側への投影領域内において、両アーム部43、45がU字に分岐する基部41の根元部分の表面に配置されている。
この測定電極部25は、図3(b)に拡大して示すように、セラミック基板15の表面から島状に突出するように形成されている。つまり、測定電極部25は、セラミック基板15の一方の側(表面側:同図上方)から、僅かに(例えば0.5mm)平面形状が長方形の板状(四角柱状)に突出したものである。そして、このセラミックからなる突出した部分55の内部に、表面と平行に上述した(左右対称の正方形の)一対の測定電極S1、S2が配置されている。
なお、突出した部分55のセラミック材料は、セラミック基板15と同じであり、突出した測定電極部25の厚み方向における測定電極S1、S2の位置は、例えばほぼ中央である。
図2に戻り、測定電極部25においては、一方の測定電極S1は、セラミック基板15の内部に設けられた配線57を介して、一方の測定給電部31に接続されており、同様に、他方の測定電極S2は、セラミック基板15の内部に設けられた配線59を介して、他方の測定給電部33に接続されている。
ここで、上述した搬送用部材7の外形形状と内部構造との関係について説明する。
図4に模式的に示すように、セラミック基板15の内部には、各吸着給電部27、29と各吸着電極部17〜23の各吸着電極K1、K2とを、上述の様に電気的に接続するために、例えばタングステン(W)を主成分とする導電材料を用いた導電パターンである各配線51、53が形成されている。この配線51、53は、セラミック基板15の第2セラミック層15bと第3セラミック層15cとの間に配置されている。
また、各吸着電極部17〜23の各吸着電極K1、K2は、ビア61によって、それぞれ配線51、53と接続されている。
なお、各配線51、53は、給電口65に嵌め込まれた金属製(導電性)の給電部材66に接続されており、この給電口65及び給電部材66によって吸着給電部27、29が構成されている。
同様に、セラミック基板15の内部には、各測定給電部31、33と測定電極部25の各測定電極S1、S2とを、上述の様に電気的に接続するために、例えばタングステン(W)を主成分とする導電材料を用いた導電パターンである各配線57、59が形成されている。この配線57、59は、セラミック基板15の第1セラミック層15aと第2セラミック層15bとの間に配置されている。
また、測定電極部25の各測定電極S1、S2は、ビア63によって、それぞれ配線57、59と接続されている。
なお、各配線57、59は、給電口67に嵌め込まれた金属製(導電性)の給電部材69に接続されており、この給電口67及び給電部材69によって測定給電部31、33が構成されている。
c)次に、搬送用部材7によって半導体ウェハ3を吸着し、また、半導体ウェハ3の有無を判定する構成について説明する。
図5に示す様に、本実施例では、セラミック基板15の吸着面71側の表面には、吸着電極部17〜23と測定電極部25とが、吸着面71から同じ高さで突出するように島状に形成されている。
従って、搬送用部材7に、半導体ウェハ3を載置した場合には、半導体ウェハ3は、吸着電極部17〜23の表面(上面)と測定電極部25の表面(上面)とに当接した状態で配置されることになる。
そして、吸着電極部17〜23によって(即ち、吸着電極K1、K2への通電によって)、半導体ウェハ3が吸着される場合には、半導体ウェハ3は、吸着電極部17〜23の上面に強固に密着する。なお、半導体ウェハ3は、吸着電極部17〜23への密着に伴って、測定電極部25にも密着する。
また、半導体ウェハ3が搬送用部材7に載置されたこと(即ち半導体ウェハ3の有無)を検知する場合には、一対の測定電極S1、S2間に、例えば数ミリワット以下の高周波電力を印加し、それによって一対の測定電極S1、S2間に発生する静電容量を測定する。
つまり、搬送用部材7に半導体ウェハ3を載置している場合と載置していない場合とでは、一対の測定電極S1、S2間の静電容量が異なるので(載置している場合には一桁以上静電容量が大きくなる)、その静電容量の変化によって、半導体ウェハ3の有無を検知することができる。
例えば、静電容量計14によって測定された静電容量が、半導体ウェハ3が測定電極部25に接触している(即ち半導体ウェハ3が搭載されている)ことを示す所定の判定値(例えば20pF)以上の場合には、実際に半導体ウェハ3が搭載されていると判断し、そのことを示す信号を外部等に出力するとともに、制御部5のメモリ(図示せず)に記憶する。
d)ここで、本実施例の搬送用部材7の製造方法について簡単に説明する。
図6(a)に示すように、始めに、複数のグリーンシート81(81a、81b、81c、81d、81e)を用意する。このグリーンシート81は、周知のように、例えばアルミナからなるセラミック材料粉末に、有機バインダ、可塑剤、溶剤などを混合してシート状に形成したものである。
なお、グリーンシート81c〜81eが、前記セラミック基板15を構成するセラミック層15a〜15cに対応したものである。
次に、各グリーンシート81a〜81eに対して、搬送用部材7のセラミック部分の各構成に対応した所定の加工をする。
具体的には、各グリーンシート81a〜81eを正方形に切断した後に、後加工(スクリーン印刷、切削加工、熱圧着など)における位置合わせに適したガイド孔(図示せず)を、各グリーンシート81a〜81eの外周付近にパンチング加工する。また、必要に応じて、各グリーンシート81a〜81eの所定箇所に、(W等からなる)導電体ペースト91、93、95、97をスクリーン印刷する。更に、必要に応じて、ビア61、63を形成する位置に、ビア孔99、101をパンチング加工し、そのビア孔99、101に導電体ペースト103、105を穴埋めする。
次に、上述した加工を行った各グリーンシート81a〜81eを積層し、熱圧着によって接合して、グリーンシート積層体107を形成する。
次に、図6(b)に示す様に、グリーンシート積層体107に対して切削加工を行う。具体的には、吸着電極部17〜23や測定電極部25となる部分以外のグリーンシート積層体107の表面を切削して、吸着電極用の凸部109や測定電極用の凸部111を形成する。
次に、グリーンシート積層体107を、大気中で例えば250℃で10時間曝することにより、脱脂を行う。
次に、図6(c)に示す様に、グリーンシート積層体107を一体焼成する。具体的には、1400〜1600℃の還元雰囲気にて、グリーンシート積層体107を焼成し、焼成体113を得る。
なお、必要に応じて、焼成体113の表面を研磨する。具体的には、吸着電極用の凸部109や測定電極用の凸部111の表面(上部)を研磨して、その高さを揃えるようにする。
その後、各給電口65、67にそれぞれ給電部材66、69を装着する。
これによって、本実施例の搬送用部材7が得られる。
e)次に、本実施例の効果を説明する。
本実施例では、半導体ウェハ3を載置するセラミック基板15の吸着面71側にて、吸着電極K1、K2と測定電極S1、S2とを吸着面71の広がる平面方向において所定の空間を介して配置している。
つまり、吸着電極部17〜23と測定電極部25とは、セラミック基板15の吸着面71より板厚方向に島状に突出しているので、吸着電極K1、K2に通電した場合でも、測定電極S1、S2に電気的ノイズが乗り易にくい。よって、精度良く半導体ウェハ3の有無を検知することができる。
従って、搬送装置1は、搬送用部材7に半導体ウェハ3を確実に搭載し吸着した状態で、半導体ウェハ3を速やかに搬送することができる。
次に、実施例2について説明するが、前記実施例1と同様な内容の説明は簡略化する。
図7に示す様に、本実施例2の搬送用部材121は、(平面形状が)長方形の短辺の両端が斜めに切り欠かれた略台形のセラミック基板123を備えている。
このセラミック基板123には、前記実施例1と同様な吸着電極K1、K2を有する4個の吸着電極部125、127、129、131が、長方形の頂点の位置に配置されており、且つ、長方形の中心に、前記実施例1と同様な測定電極S1、S2を有する測定電極部133が配置されている。
特に本実施例2では、吸着電極部125〜131が配置された長方形の外側、詳しくは、吸着電極部125、129より基端側(同図左側)に、同図の上下方向に沿って1個の長尺のスペーサ135が配置されるとともに、吸着電極部127、131より先端側(同図右側)に、同図の上下方向に沿って1対の長尺のスペーサ137、139が配置されている。
なお、このスペーサ135〜139としては、例えばセラミック基板123の吸着面側を凸状に形成してもよいし、例えばPEEK等の樹脂製の部材を配置してもよい。
また、図8(a)に示す様に、測定電極部133の高さ(H1:例えば0.425mm)と吸着電極部125〜131の高さ(H2:例えば0.45mm)とスペーサ135〜139の高さ(H3:例えば0.5mm)とは、H1<H2<H3を満たすように設定されている。なお、4個の吸着電極部125〜131の高さ(H2)は同じであり、3個のスペーサ135〜139の高さ(H3)も同じである。
つまり、本実施例2では、測定電極部133と吸着電極部125〜131とスペーサ135〜139との高さ及び配置に特徴があり、吸着電極K1、K2の静電力によって半導体ウェハ3を吸着したときに、半導体ウェハ3の中央部分が凹むように、測定電極部133と吸着電極部125〜131とスペーサ135〜139との高さ及びそれらの配置が設定されている。
詳しくは、セラミック基板123をその表面と平行な方向で見た場合、即ち、セラミック基板123の厚み方向(又は基板表面)に対して垂直の方向から見た場合、吸着電極部125〜131は、半導体ウェハ3がスペーサ135〜139によって支持される少なくとも2箇所の支持位置(ここでは、左のスペーサ135と右のスペーサ137、139)の間に配置されている。なお、支持位置とは、スペーサ135〜139が半導体ウェハ3に接触して支持される位置である。
従って、本実施例2では、搬送用部材121に半導体ウェハ3を載置した場合、吸着電極K1、K2に通電していない状態では、半導体ウェハ3は、左右のスペーサ135〜139によって支持されて、吸着電極部125〜131や測定電極部133の上面とは離れた状態に保たれている。
次に、図8(b)に示す様に、吸着電極部125〜131によって(即ち、吸着電極K1、K2への通電によって)、半導体ウェハ3が吸着される場合には、半導体ウェハ3の中央部分は、吸着電極K1、K2の静電力によって、同図下方に(吸引されて)移動する(凹む)が、半導体ウェハ3の外周側(同図左右側)は、各吸着電極部125〜131より高いスペーサ135〜139に規制されて、それより下方には移動しない。
よって、同図に示す様に、吸着電極部125〜131によって、半導体ウェハ3が吸着されて、半導体ウェハ3が吸着電極部125〜131の上面に接触した場合には、半導体ウェハ3は下方に凸の湾曲した状態(凹んだ状態)となる。
特に本実施例では、上述の様に半導体ウェハ3が吸着された場合には、半導体ウェハ3の中央部分は、測定電極部133の上面に接触するように設定されている。
従って、半導体ウェハ3を吸着する際には、前記実施例1と同様に、測定電極S1、S2間の静電容量を測定し、その静電容量の大きさから半導体ウェハ3の有無を検知することができる。
本実施例でも、前記実施例1と同様な効果を奏するとともに、吸着電極K1、K2への通電によって、半導体ウェハ3の中央部分が凹んで、測定電極部133に強く密着するので、精度良く静電容量を測定できるという利点がある。
なお、吸着電極K1、K2への通電を停止すれば、半導体ウェハ3は自身の弾性力によって、容易に吸着電極部125〜131から分離することができる。
次に、実施例3について説明するが、前記実施例2と同様な内容の説明は簡略化する。
図9に示す様に、本実施例3の搬送用部材141は、前記実施例2と同様な略台形のセラミック基板143を備えている。
また、このセラミック基板143には、前記実施例2と同様に、吸着電極K1、K2を有する4個の吸着電極部145、147、149、151が、長方形の頂点の位置に配置され、且つ、長方形の中心に、前記実施例2と同様な測定電極S1、S2を有する一対の(第1、第2)測定電極部153、155が配置されている。
本実施例3では、吸着電極部145〜151が配置された長方形の外側、詳しくは、吸着電極部145、149より基端側(同図左側)に、1個のスペーサ157が配置されるとともに、第1、第2吸着電極部147、151より先端側(同図右側)に、1対のスペーサ159、161が配置されている。
また、図10(a)に示す様に、第1測定電極部153の高さ(HH1:例えば0.425mm)と第2測定電極部155の高さ(HH2:例えば0.44〜0.45mm)と吸着電極部145〜151の高さ(HH3:例えば0.45mm)とスペーサ157〜161の高さ(HH4:例えば0.5mm)とは、HH1<HH2≦HH3<HH4を満たすように設定されている。
更に、本実施例では、(背の低い)第1測定電極部153における上面から測定電極S1、S2までの距離(セラミック層の厚み)が、(背の高い)第2測定電極部155における上面から測定電極S1、S2までの距離(セラミック層の厚み)より小さくなるように設定されている。
従って、本実施例3では、搬送用部材141に半導体ウェハ3を載置した場合、吸着電極K1、K2に通電していない状態では、半導体ウェハ3は、左右のスペーサ157〜161によって支持されて、吸着電極部145〜151や測定電極部153、155の上面とは離れた状態に保たれている。
次に、図8(b)に示す様に、吸着電極K1、K2への通電によって、半導体ウェハ3が吸着される場合には、半導体ウェハ3の中央部分は、吸着電極K1、K2の静電力によって、同図下方に(吸引されて)移動する(凹む)。
このとき、吸着力が弱い場合には、半導体ウェハ3はそれほど凹まないので、その中央部分は(第1測定電極部153より背の高い)第2測定電極部155の上面に接触するが、第1測定電極部153には接触しない。よって、このときに、第1測定電極部153の測定電極S1、S2間の静電容量(SY1)と、第2測定電極部155の測定電極S1、S2間の静電容量(SY2)を測定すると、SY1<SY2の関係が得られる。
また、図8(c)に示す様に、吸着力が強い場合には、半導体ウェハ3は大きく凹むので、その中央部分は(背の低い)第1測定電極部153の上面に接触する(なお、第2測定電極部155にも接触している)。よって、このときに、第1測定電極部153の測定電極S1、S2間の静電容量(SY1)と、第2測定電極部155の測定電極S1、S2間の静電容量(SY2)を測定すると、第1測定電極部153の上面から測定電極S1、S2までの距離は、第2測定電極部155の上面から測定電極S1、S2までの距離より小さいので、SY1≧SY2の関係が得られる。
なお、半導体ウェハ3の第1、第2測定電極部153、155に対する接触状態によって、各静電容量(SY1、SY2)が変化する理由は、上面から測定電極S1、S2までの距離(セラミック層の厚み)が異なることにより、被測定物(半導体ウェハ3)と測定電極S1、S2間の誘電率が異なるからである。
よって、両静電容量(SY1、SY2)の関係から、半導体ウェハ3が確実に吸着されていることが分かる。
従って、本実施例3では、前記実施例2と同様な効果を奏するとともに、半導体ウェハ3の吸着状態をも判断できるので、一層精度良く半導体ウェハ3の有無の検知を行うことができる。
つまり、単に静電容量の値から半導体ウェハ3の有無を検知するだけでなく、静電容量のSY1≧SY2の関係が得られるか否かの判定を加えることにより、一層精度良く半導体ウェハ3の有無を検知することができる。
次に、実施例4について説明するが、前記実施例1と同様な内容の説明は簡略化する。
図11に示す様に、本実施例4の搬送用部材171は、平面形状(同図の上方から見たみた形状)が、例えば同図の左右方向に伸びる長尺の長方形のセラミック基板173を備えている。
このセラミック基板173を、基板表面と平行で且つその長手方向に対して垂直に見た場合、左右の吸着電極部175、177の間に、測定電極部179が配置されている。なお、基板表面の高さと左右の吸着電極部175、177の高さと測定電極部179の高さとは同一である。
特に本実施例4では、左右の吸着電極部175、177の周囲や測定電極部179の周囲に溝181が形成されている。つまり、左右の吸着電極部175、177と測定電極部179とを区分するように溝181が形成されている。
詳しくは、吸着電極部175、177や測定電極部179を基板表面側(同図上方)から見た場合、吸着電極部175、177や測定電極部179の形状は、前記実施例1とそれぞれ同様な円形、長方形であり、その周囲に環状の溝181が形成された形状である。
従って、本実施例4では、前記実施例1と同様な効果を奏するとともに、吸着電極K1、K2に通電された場合でも、溝181によって平面方向に電流が流れにくくなっているので、測定電極S1、S2にノイズが乗りにくく、よって、半導体ウェハ3の有無を精度良く検知できるという利点がある。
次に、実施例5について説明するが、前記実施例1と同様な内容の説明は簡略化する。
図12に示す様に、本実施例5の搬送用部材191は、基本的に、前記実施例1とほぼ同様な構成を有している。
つまり、実施例1と同様に、略U字形のセラミック基板193に、4個の吸着電極部195、197、199、201や測定電極部203が配置されている。
特に本実施例5では、測定電極S1、S2と測定給電部205、207とを接続する配線209、211は、吸着電極部195〜201の各吸着電極K1、K2と各吸着給電部213、215とをそれぞれ接続する各配線217、219と交差しないように構成されている。
従って、本実施例5では、前記実施例1と同様な効果を奏するとともに、吸着電極K1、K2に通電された場合でも、測定電極S1、S2にノイズが乗りにくく、よって、半導体ウェハ3の載置の有無を精度良く検知できるという利点がある。
尚、本発明は前記実施例等になんら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の態様で実施しうることはいうまでもない。
(1)例えば、搬送される部材は、半導体ウェハに限らず、ガラス基板等が挙げられる。
(2)また、搬送用部材の形状は、前記各実施例の形状に限らず、本発明の要件を満たす限り各種の形状を採用できる。
(3)更に、各実施例における個々の構成は、適宜、他の実施例に組み合わせることができる。
1…搬送装置
3…半導体ウェハ
7、121、141、171、191…搬送用部材
14…静電容量計
15、123、143、173、193…セラミック基板
17、19、21、23、125、127、129、131、145、147、149、151、175、177、195、197、199、201…吸着電極部
25、133、153、155、179、203…測定電極部
71…吸着面
135、137、139、153、155、157、159、161…スペーサ
181…溝
209、211、217、219、209、211、217、219…配線
K1、K2…吸着電極
S1、S2…測定電極

Claims (9)

  1. 電気絶縁性を有し、被吸着体が載置される基材と、
    前記基材に配置され、静電力によって前記被吸着体を吸着する吸着電極と、
    前記基材に配置され、静電容量の変化によって前記被吸着体の有無を検知するための一対の測定電極と、
    を備え、前記被吸着体を載置し吸着して搬送する搬送用部材において、
    前記吸着電極と前記測定電極とを、前記吸着面の広がる平面方向において所定の空間を介して配置したことを特徴とする搬送用部材。
  2. 前記吸着電極を内部に備えた吸着電極部と前記一対の測定電極を内部に備えた測定電極部とを備えるとともに、前記吸着面が広がる平面方向において前記吸着電極部と前記測定電極部とが接しないように、前記吸着電極部と前記測定電極部とを前記基材の吸着面より突出させて設けたことを特徴とする請求項1に記載の搬送用部材。
  3. 前記吸着電極を内部に備えた吸着電極部と前記一対の測定電極を内部に備えた測定電極部とを備えるとともに、前記吸着面の広がる平面方向において前記吸着電極部と前記測定電極部とが接しないように、前記吸着電極部と前記測定電極部との間に溝を設けたことを特徴とする請求項1に記載の搬送用部材。
  4. 前記基材の吸着面側に、前記被吸着体を支持するスペーサを備えるとともに、該スペーサの高さを前記吸着電極部及び前記測定電極部の高さより高く設定し、
    且つ、前記基材をその表面と平行な方向で見た場合に、前記吸着電極部及び前記測定電極部を、前記被吸着体が前記スペーサによって支持される少なくとも2箇所の支持位置の間に配置したことを特徴とする請求項2又は3に記載の搬送用部材。
  5. 前記スペーサ間に複数の前記測定電極部を備え、
    少なくとも2個の前記測定電極部の高さが異なるように設定するとともに、該高さが異なる2個の測定電極部において、前記被吸着体が各測定電極部に接した場合の静電容量が異なるように設定したことを特徴とする請求項4に記載の搬送用部材。
  6. 前記基材を前記吸着面に対して垂直に見た場合に、前記基材内における前記測定電極と接続される配線が、他の配線と交差しないように配置したことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の搬送用部材。
  7. 前記請求項1〜6のいずれか1項に記載の搬送用部材を備えるとともに、該搬送用部材上に前記被吸着体を載置して搬送することを特徴とする搬送装置。
  8. 前記一対の測定電極に接続するとともに、該一対の測定電極間の静電容量を測定する静電容量計を備えたことを特徴とする請求項7に記載の搬送装置。
  9. 前記静電容量計によって測定された前記一対の測定電極間の静電容量に基づいて、前記搬送用部材上に被吸着体が載置されているか否かを判定する判定手段を備えたことを特徴とする請求項8に記載の搬送装置。
JP2013004569A 2013-01-15 2013-01-15 搬送装置及び搬送用部材 Active JP6073691B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013004569A JP6073691B2 (ja) 2013-01-15 2013-01-15 搬送装置及び搬送用部材

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013004569A JP6073691B2 (ja) 2013-01-15 2013-01-15 搬送装置及び搬送用部材

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014138022A JP2014138022A (ja) 2014-07-28
JP6073691B2 true JP6073691B2 (ja) 2017-02-01

Family

ID=51415392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013004569A Active JP6073691B2 (ja) 2013-01-15 2013-01-15 搬送装置及び搬送用部材

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6073691B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7036905B2 (ja) * 2018-04-26 2022-03-15 京セラ株式会社 フォーカスリング搬送部材およびこれを備えるプラズマ処理装置
KR102242812B1 (ko) * 2018-05-17 2021-04-22 세메스 주식회사 반송 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치
WO2020116510A1 (ja) * 2018-12-07 2020-06-11 川崎重工業株式会社 基板搬送装置及びその運転方法
KR102343984B1 (ko) * 2020-05-13 2021-12-28 주식회사 글린트머티리얼즈 파핑 현상을 방지하는 반도체 웨이퍼 이송용 미끄럼 방지 패드 및 이를 장착한 로봇암 블레이드

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6075375A (en) * 1997-06-11 2000-06-13 Applied Materials, Inc. Apparatus for wafer detection
JP2005353988A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Canon Inc 板状体搬送方法、搬送装置及び露光装置
JP2006005136A (ja) * 2004-06-17 2006-01-05 Canon Inc 搬送装置
JP2011077288A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Tokyo Electron Ltd 搬送装置
WO2011055822A1 (ja) * 2009-11-09 2011-05-12 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板搬送装置及び基板処理装置の制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014138022A (ja) 2014-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6073691B2 (ja) 搬送装置及び搬送用部材
KR100994299B1 (ko) 정전척용 전극 시트 및 정전척
KR101191594B1 (ko) 검사용 유지 부재 및 검사용 유지 부재의 제조 방법
TWI821332B (zh) 檢查工具及檢查裝置
TWI555985B (zh) 用於探針卡之板件、製造該板件之方法,及探針卡
JP6730084B2 (ja) 加熱部材及び静電チャック
JP2009074823A (ja) 電子部品検査装置用配線基板およびその製造方法
WO2015122471A1 (ja) 検査ユニット
US20130088251A1 (en) Probe card and manufacturing method thereof
TWI508240B (zh) Laminated wiring board
US7095602B1 (en) Ceramic structure and nonreciprocal circuit device
JP2010002302A (ja) 検査用接触構造体
JP6068118B2 (ja) 搬送装置及び搬送用部材
JP5356769B2 (ja) 載置台
JP5493713B2 (ja) 基板ホルダ、基板貼り合わせ装置、基板ホルダ対および搬送装置
EP2980840B1 (en) Probe device
JP5560590B2 (ja) 基板貼り合わせ装置
JP2020115583A (ja) 加熱部材及び静電チャック
JP6589419B2 (ja) 基板加工装置および基板加工方法
JP6401029B2 (ja) 回路基板
JP2010127687A (ja) 加速度センサ装置
US8941397B2 (en) Movement and position identification sensor
JP5164543B2 (ja) プローブカードの製造方法
JP4850284B2 (ja) 半導体装置の試験装置
JP4895604B2 (ja) 圧力検出装置用パッケージおよび圧力検出装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160106

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161117

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161213

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170105

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6073691

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250