JP6069914B2

JP6069914B2 - 樹脂組成物及びそれを用いたフィルム

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Publication number: JP6069914B2
Application number: JP2012152507A
Authority: JP
Inventors: 小川　典慶; 典慶小川; 源希杉山
Original assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Current assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date: 2012-07-06
Filing date: 2012-07-06
Publication date: 2017-02-01
Anticipated expiration: 2032-07-06
Also published as: JP2014015509A

Description

本発明は、耐屈曲性が求められる用途、特にフラットパネルディスプレイ構成材料として好適な耐屈曲性を有するフィルム及びそのフィルムに好適な樹脂組成物に関するものである。

携帯電話、携帯ゲーム機、スマートフォン、電子ブックリーダー等持ち歩くことが前提のモバイル分野で使用される液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、電子ペーパーのようなフラットパネルディスプレイは、可搬時や不意の落下時に受ける衝撃、揺れ、捻れ等によりごく短時間の屈曲負荷を多く受ける。また、近年タッチパネルのような指、タッチペンでの繰り返し荷重による負荷も増大傾向であり、これらのディプレイ面に使用されるフィルム材には耐屈曲性の高いものが要求されている。

ディプレイ面に用いられる材料として透明で加工しやすく、耐衝撃性に優れるポリカーネート樹脂がよく用いられるが、繰り返し耐屈曲性については必ずしも十分とは言えなかった。

一方、ポリカーボネート樹脂の改質のため、ポリアリレート樹脂とのブレンドした樹脂組成物も用いられ（特許文献１，特許文献２）、さらには液晶ディスプレイ用位相差フィルムへの適用も開示されている。（特許文献３）

しかしながら、いずれの場合も繰り返し耐屈曲性については言及しておらず、繰り返し耐屈曲性に対して改善の余地があった。

特開２００４−２７７４３８号公報特開２００９−４０８６６号公報特開平５−３３３２１２号公報

本発明が解決しようとする課題は、繰り返し耐屈曲性に優れたフラットパネルディスプレイ構成用フィルムとそれに好適な樹脂組成物を提供することである。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、分子量の異なる２種類以上のポリカーボネート樹脂とポリアリレート樹脂を組み合わせた樹脂組成物から得られたフィルムが、著しく繰り返し耐屈曲性に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、以下に示す樹脂組成物及びそれを用いたフィルムに関する。

（１）
ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）７万以上２０万未満のポリカーボネート樹脂（Ａ−１）及びポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）４万以上７万未満のポリカーボネート樹脂（Ａ−２）からなるポリカーボネート樹脂（Ａ）とポリアリレート樹脂（Ｂ）からなる樹脂組成物。
（２）
Ａ−１のＭｗとＡ−２のＭｗとの差異（ΔＭｗ）が１万以上である（１）の樹脂組成物。
（３）前記Ａ７０〜９５質量％と前記Ｂ５〜３０質量％とからなる（１）または（２）の樹脂組成物

（４）前記Ｂのポリスチレン換算重量平均分子量が３万以上７万以下である（１）〜（３）の樹脂組成物。
（５）前記Ａが、ビスフェノールＡを主成分とするポリカーボネート樹脂である（１）〜（４）のいずれかに記載の樹脂組成物。

（６）前記Ｂが、ビスフェノールＡを主成分とするポリアリレート樹脂である（１）から（５）のいずれかに記載の樹脂組成物。
（７）（１）〜（６）のいずれかの樹脂組成物を成形してなるフィルム。

（８）厚さが１０〜２００μｍである（７）のフィルム。
（９）湿式成形または押出成形にて成形された（７）または（８）のフィルム。

（１０）フラットパネルディスプレイ用構成材として使用される（７）〜（９）のいずれかのフィルム。
（１１）モバイル端末ディスプレイ用構成材として使用される（１０）のフィルム。

本発明によれば、繰り返し耐屈曲性に優れた高い耐久性を有するフラットパネルディスプレイ用フィルムが得られる。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明で用いられるポリカーボネート樹脂は、ビスフェノール類と炭酸エステル形成化合物からポリカーボネートを製造する際に用いられている公知の方法、例えばビスフェノール類とホスゲンとの直接反応（ホスゲン法）、あるいはビスフェノール類とビスアリールカーボネートとのエステル交換反応（エステル交換法）などの方法を採用して得ることができる。

ホスゲン法とエステル交換法のうちでは、目的とする高い重量平均分子量のポリカーボネート樹脂を得やすいことから、ホスゲン法がより好ましい。

本発明で用いられるポリカーボネート樹脂において、使用可能なビスフェノールとしては、具体的には２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン＝（ビスフェノールＡ）、１，１’−ビフェニル−４，４’−ジオール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、α，ω−ビス［２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル］ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス［３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタンなどが例示される。これらは、２種類以上併用して用いてもよい。また、これらの中でも総合的機械物性に優れるビスフェノールＡを主成分として用いることが好ましい。ビスフェノールＡが主成分のポリカーボネート樹脂とは、使用するビスフェノールの内、ビスフェノールＡを６０〜１００モル％、好ましくは９０〜１００モル％使用したポリカーボネート樹脂を示す。

一方、炭酸エステル形成化合物としては、例えばホスゲン、トリホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネートなどのビスアリールカーボネートが挙げられる。これらの化合物は２種類以上併用して使用することも可能である。

ホスゲン法においては、通常酸結合剤および溶媒の存在下において、ビスフェノール類とホスゲンを反応させる。酸結合剤としては、例えばピリジンや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物などが用いられ、また溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、モノクロロベンゼンなどが用いられる。

さらに、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミンのような第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を、また重合度調節には、フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ-クミルフェノール、長鎖アルキル置換フェノール、オレフィン置換フェノール等一官能基化合物を分子量調節剤として加えることが好ましい。

本発明の特定範囲の重量平均分子量を有するポリカーボネート樹脂は、この分子量調整剤の添加量を使用するビスフェノール類全量に対して０．６〜６ｍｏｌ％の範囲で添加することにより、製造することができる。

また、所望に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトなどの酸化防止剤や、フロログルシン、イサチンビスフェノール、トリスフェノールエタンなど分岐化剤を小量添加してもよい。

反応は通常０〜１５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲とするのが適当である。反応時間は反応温度によって左右されるが、通常０．５分〜１０時間、好ましくは１分〜２時間である。また、反応中は、反応系のｐＨを１０以上に保持することが望ましい。

一方、エステル交換法においては、ビスフェノール類とビスアリールカーボネートとを混合し、減圧下で高温において反応させる。反応は通常１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲の温度において行われ、また減圧度は最終で好ましくは１ｍｍＨｇ以下にして、エステル交換反応により生成した該ビスアリールカーボネートから由来するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減圧度などによって左右されるが、通常１〜２０時間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく。また、所望に応じ、分子量調節剤、酸化防止剤や分岐化剤を添加して反応を行ってもよい。

また、本発明のフィルムが良好な繰り返し耐屈曲性を有するには、本発明で用いられるポリカーボネート樹脂が、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略称）で測定したポリスチレン換算分子量による重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」と略称）が７万以上２０万未満のポリカーボネート樹脂（Ａ−１）と４万以上７万未満のポリカーボネート樹脂（Ａ−２）を各１種類以上ブレンドしたポリカーボネート樹脂が用いられる。このＭｗの異なるポリカーボネート樹脂を用いることで単独で用いた場合に比べ優れた繰り返し耐屈曲性を示す。このＭｗはより好ましくは高い方が８万以上１８万未満、低い方が４万以上６万未満の範囲であることが好ましい。

Ａ−１のＭｗとＡ−２のＭｗとは、一定以上の差異（ΔＭｗ）があることが好ましく、好ましくはΔＭｗ１万以上、より好ましくはΔＭｗ２万以上、更に好ましくはΔＭｗ３万以上であることが好ましい。

また、ＧＰＣで得られるポリスチレン換算分子量による数平均分子量（以下、「Ｍｎ」と略称）は任意であるが、Ａ−１のＭｎは２万以上５万未満、Ａ−２のＭｎは１万以上２万未満が好ましい。

Ａ−１とＡ−２の配合比（質量比）は、（Ａ−１の質量比）≧（Ａ−２の質量比）なる関係であることが好ましい。

本発明においてポリアリレート樹脂（Ｂ）とは、ビスフェノール残基と芳香族ジカルボン酸残基とから構成されている芳香族ポリエステルであり、その製造方法としては界面重合法、溶液重合法、溶融重合法などが公知である。この中で界面重合法で製造されたポリアリレート樹脂は良好な色調と物性を有しているため好ましい。

本発明において、ポリアリレート樹脂（Ｂ）を構成するビスフェノール類として、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン＝（ビスフェノールＡ）、１，１’−ビフェニル−４，４’−ジオール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、α，ω−ビス［２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル］ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス［３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタンなどが例示される。これらは、２種類以上併用して用いてもよい。また、これらの中でも総合的機械物性に優れるビスフェノールＡが好ましい。ビスフェノールＡが主成分のポリアリレート樹脂とは、使用するビスフェノールの内、ビスフェノールＡを６０〜１００モル％、好ましくは９０〜１００モル％使用したポリアリレート樹脂を示す。

また、ポリアリレート樹脂（Ｂ）を構成する芳香族ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、３−ｔｅｒｔ−ブチルイソフタル酸、ジフェン酸、４，４’−ジカルボン酸およびそれらの酸クロライド等が挙げられる。これらの２価のジカルボン酸は、単独で用いることもできるし、２種類以上を併用することも可能である。特に好適に用いることのできる芳香族ジカルボン酸は、テレフタル酸とイソフタル酸およびそれらの酸クロライドである。

ポリアリレート樹脂（Ｂ）を界面重合法により製造する場合は、ビスェノール類、アルカリ、重合触媒を溶解した水相と、芳香族ジカルボン酸成分を溶解した有機相とを混合し、攪拌しながら界面重縮合反応をおこなうことによって、ポリアリレート樹脂を得ることができる。

その場合の、重合触媒は、第４級アンモニウム塩であることが好ましく、具体的には、トリｎ−ブチルベンジルアンモニウムクロライド、トリｎ−ブチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリｎ−ブチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、トリｎ−ブチルベンジルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、テトラｎ−ブチルアンモニウムクロライド、テトラｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラｎ−ブチルアンモニウムヒドロキサイド、テトラｎ−ブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェ−トが挙げられる。

水相に用いるアルカリとしては、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムが挙げられる。

有機相に用いる溶媒としては、水と相溶せず、かつ、生成するポリアリレート樹脂を溶解するような溶媒が用いられ、具体的には、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジクロロベンゼンなどの塩素系溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族系炭化水素などが挙げられる。

なお、ポリアリレート樹脂（Ｂ）の分子量を調節するために、重合時に末端停止剤を使用することができる。末端停止剤の例として、フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ノール等の１価のフェノール類、安息香酸クロライド、メタンスルホニルクロライド、フ
ェニルクロロホルメート等の１価の酸クロライド等が挙げられる。

本発明のポリアリレート樹脂（Ｂ）は、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算Ｍｗは３万以上７万未満であることが好ましい。またＭｎは１万以上３万未満が好ましい。

本発明の樹脂組成物は、Ａ−１及びＡ−２からなるポリカーボネート樹脂（Ａ）７０〜９５重量％とポリアリレート樹脂（Ｂ）５〜３０重量％から構成されることが好ましい。

本発明の樹脂組成物は、湿式成形、押出成形、ブロー成形等公知の方法でフィルムに成形することが可能である。

本発明の樹脂組成物から得られるフィルムは、１０〜２００μｍ厚の範囲であることが好ましい。１０μｍ以上とすることで充分な強度を保ち、２００μｍ以下とすることにより、厚み方向の屈曲率半径差に起因する繰り返し耐屈曲性の悪化を防ぐことができる。より好ましくは１５〜１２０μｍの範囲である。

本発明の樹脂組成物は、物性を阻害しない範囲で、一般に用いられる各種の添加剤を添加しても良い。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色防止剤、難燃剤、着色剤などが挙げられる。

以下に本発明の実施例を比較例と共に示し、発明の内容を詳細に示すが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

＜ＧＰＣ条件＞
Ｗａｔｅｒｓ社製アライアンスＨＰＬＣシステム、
昭和電工株式会社製Ｓｈｏｄｅｘ８０５Ｌカラム２本、
０．２５ｗ／ｖ％クロロホルム溶液サンプル、１ｍｌ／分クロロホルム溶離液、２５４ｎｍのＵＶ検出の条件で測定。
ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）を求めた。

＜繰り返し耐屈曲性試験＞
ＭＩＴ試験Ａ：株式会社東洋精機製作所製ＭＩＴ−ＤＡ、荷重７５０ｇ、Ｎモード
Ｂ１３５°、１７５回／分屈曲。
ＭＩＴ試験Ｂ：株式会社東洋精機製作所製ＭＩＴ−ＤＡ、荷重１０００ｇ、Ｎモード
Ｂ９０°、１７５回／分屈曲。

＜合成例１＞
ポリカーボネート樹脂の製造
５ｗ／ｗ％の水酸化ナトリウム水溶液５５リットルにビスフェノールＡ（以下「ＢＰＡ」と略称：新日鐵化学工業株式会社製）４．５６ｋｇ（２０ｍｏｌ）とハイドロサルファイト５ｇを溶解した。
これにジクロロメタン２５リットルを加えて撹拌しつつ、１５℃に保ちながら、ついでホスゲン２．６ｋｇを６０分で吹き込んだ。

ホスゲン吹き込み終了後、分子量調節剤としてｐ−ｔ−ブチルフェノール（以下「ＰＴＢＰ」と略称：大日本インキ化学工業株式会社製）５３ｇを加え激しく撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後、２０ｍｌのトリエチルアミンを加え、２０〜２５℃にて約１時間撹拌し、重合させた。

重合終了後、反応液を水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和し、洗液（水相）の導電率が１０μＳ／ｃｍ以下になるまで水洗を繰り返した。得られた重合体溶液を、５０℃に保った温水に滴下し、溶媒を蒸発除去して白色粉末状沈殿物を得た。得られた沈殿物を濾過し、１０５℃、２４時間乾燥して、重合体粉末を得た。

この重合体の分子量をＧＰＣによって測定したところＭｗ＝８６０００，Ｍｎ＝２７６００であった。得られた重合体を赤外線吸収スペクトルにより分析した結果、１７７０ｃｍ^−１付近の位置にカルボニル基による吸収、１２４０ｃｍ^−１付近の位置にエーテル結合による吸収が認められ、カーボネート結合を有するポリカーボネート樹脂（以下ＰＣ−１と略称）であることが確認された。

＜合成例２＞
ＰＴＢＰを１１５ｇに変更した以外は、合成例１と同様に行い、Ｍｗ＝４７３００，Ｍｎ＝１８１００のポリカーボネート樹脂（以下ＰＣ−２と略称）を得た。

＜合成例３＞
ＰＴＢＰを２７．５ｇに変更した以外は合成例１と同様に行い、Ｍｗ＝１７００００，Ｍｎ＝４５３００のポリカーボネート樹脂（以下ＰＣ−３と略称）を得た。

＜合成例４＞
ＰＴＢＰを１００ｇに変更した以外は、合成例１と同様に行い、Ｍｗ＝５２６００，Ｍｎ＝１９９００のポリカーボネート樹脂（以下ＰＣ−４と略称）を得た。

＜合成例５＞
ＢＰＡ４．５６ｋｇと一緒に、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（本州化学工業株式会社製）０．１ｋｇを併用して用いた以外は、合成例１と同様に行い、Ｍｗ＝８６８００，Ｍｎ＝２６２００のポリカーボネート樹脂（以下ＰＣ−５と略称）を得た。

＜合成例６＞
ポリアリレート樹脂の製造
５ｗ／ｗ％の水酸化ナトリウム水溶液４５リットルに、ＢＰＡ４．５６ｋｇ（２０ｍｏｌ）を溶解し、重合触媒としてトリｎ−ブチルベンジルアンモニウムクロライド４２ｇを加え、さらにテレフタル酸クロライド／イソフタル酸クロライド＝１／１混合物（和光純薬工業株式会社製）４．１ｋｇとＰＴＢＰ１７０ｇを溶解した塩化メチレン溶液５５リットルを加えて、１５℃で２時間界面重縮合反応をおこなった。反応終了後、反応液を水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和し、洗液（水相）の導電率が１０μＳ／ｃｍ以下になるまで水洗を繰り返した。得られた重合体溶液を、５０℃に保った温水に滴下し、溶媒を蒸発除去して白色粉末状沈殿物を得た。得られた沈殿物を濾過し、１０５℃、２４時間乾燥して、重合体粉末を得た。

この重合体の分子量をＧＰＣによって測定したところＭｗ＝４０１００，Ｍｎ＝８５００であった。得られた重合体を赤外線吸収スペクトルにより分析した結果、１７５０ｃｍ^−１付近の位置にカルボニル基またはエステル基による吸収、１２２０ｃｍ^−１付近の位置にエーテル結合による吸収が認められ、エステル結合を有するポリアリレート樹脂（以下ＰＵＲ−１と略称）であることが確認された。

＜合成例７＞
ＰＴＢＰを１２０ｇに変更した以外は、合成例６と同様に行い、Ｍｗ＝５７２００，Ｍｎ＝１２９００のポリアリレート樹脂（以下ＰＵＲ−２と略称）を得た。

＜実施例１＞
ＰＣ―１：ＰＣ−２：ＰＵＲ−１＝８０：１０：１０重量％の割合でブレンドした樹脂組成物１０ｇをジクロロメタン９０ｇに溶解し、バーコーターにてガラス基板上に湿式成形を行い、風乾、１０５℃、８時間乾燥して１５μｍ厚のフィルムを得た。得られたフィルムを１２ｃｍ×１ｃｍの短冊にカットし、ＭＩＴ試験Ａを行った。

＜実施例２＞
実施例１の樹脂組成物をベント付３０ｍｍ単軸押出機（ムサシノキカイ株式会社製ＭＫ−３０）シリンダー温度３６０℃に導入し、フィードブロック型のＴダイを経て、水平２本ロール（ロール温度：１５０℃）により除冷し、押出フィルム（約１１０μｍ厚）を得た。得られたフィルムを１２ｃｍ×１ｃｍの短冊にカットし、１１０μｍ厚のものを選択してＭＩＴ試験Ｂを行った。

以下表１に示す実施例３〜７、比較例１〜８の配合比で、実施例１と同様のフィルム作製しＭＩＴ試験Ａを行った。また、比較例９として、比較例５の樹脂組成物を使用し、実施例２と同様のフィルムを作製し、ＭＩＴ試験Ｂを行った。結果を表１にまとめる。

本発明の活用例としては、耐屈曲性が求められるフラットパネルディスプレイ、特に衝撃等にさらされる携帯機器用フラットパネルディスプレイやタッチパネルディスプレイの繰り返し耐屈曲性に優れる前面板等を提供することが可能である。

Claims

ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）７万以上２０万未満のポリカーボネート樹脂（Ａ−１）及びポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）４万以上７万未満のポリカーボネート樹脂（Ａ−２）からなるポリカーボネート樹脂（Ａ）とポリアリレート樹脂（Ｂ）からなるフラットパネルディスプレイ用構成材として使用される樹脂組成物（但し、二酸化チタンを含む場合を除く）。
Ａ−１のＭｗとＡ−２のＭｗとの差異（ΔＭｗ）が１万以上である請求項１の樹脂組成物。
Ａ−１とＡ−２の配合比（質量比）は、（Ａ−１の質量比）≧（Ａ−２の質量比）なる関係である請求項１又は２のいずれかに記載の樹脂組成物。
前記Ａ７０〜９５質量％と前記Ｂ５〜３０質量％とからなる請求項１〜３記載の樹脂組成物。
前記Ｂのポリスチレン換算重量平均分子量が３万以上７万未満である請求項１〜４記載の樹脂組成物。
前記Ａが、ビスフェノールＡを主成分とするポリカーボネート樹脂である請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物。
前記Ｂが、ビスフェノールＡを主成分とするポリアリレート樹脂である請求項１〜６のいずれかに記載の樹脂組成物。
請求項１〜７のいずれかに記載の樹脂組成物を成形してなるフィルム。
厚さが１０〜２００μｍである請求項８記載のフィルム。
フラットパネルディスプレイ用構成材として使用される請求項８又は９のいずれかに記載のフィルム。
モバイル端末ディスプレイ用構成材として使用される請求項１０のフィルム。