JP6022254B2 - スクリーン印刷用インク組成物およびパターン形成方法 - Google Patents
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Description
基材樹脂成分(A)は、アルカリ可溶性樹脂、アルカリ不溶性樹脂のいずれであってもよい。
上記フェノール類としては、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、及びp−クレゾール等のクレゾール類;2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、及び3,5−キシレノール等のキシレノール類;o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、及びp−エチルフェノール等のエチルフェノール類、2−イソプロピルフェノール、3−イソプロピルフェノール、4−イソプロピルフェノール、o−ブチルフェノール、m−ブチルフェノール、p−ブチルフェノール、並びにp−tert−ブチルフェノール等のアルキルフェノール類;2,3,5−トリメチルフェノール、及び3,4,5−トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類;レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、及びフロログリシノール等の多価フェノール類;アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、及びアルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類(いずれのアルキル基も炭素数1以上4以下である);α−ナフトール;β−ナフトール;ヒドロキシジフェニル;並びにビスフェノールA等を挙げることができる。これらのフェノール類は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、及びアセトアルデヒド等を挙げることができる。これらのアルデヒド類は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、及び亜リン酸等の無機酸類;蟻酸、シュウ酸、酢酸、ジエチル硫酸、及びパラトルエンスルホン酸等の有機酸類;並びに酢酸亜鉛等の金属塩類等を挙げることができる。これらの酸触媒は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
基材樹脂成分(A)成分の質量平均分子量は、スクリーン印刷用インク組成物の現像性、解像性、及び耐メッキ液性の観点から1000以上50000以下とすることが好ましい。
基材樹脂成分(A)成分は、分別処理により、低核体の含有量が、当該分別処理前の80質量%以下、より好ましくは50質量%以下に低減されている分別樹脂であることが好ましい。ここで低核体とは、上記のフェノール類、即ちフェノール系モノマーと、当該フェノール系モノマー2分子から得られるダイマー、当該フェノール系モノマー3分子から得られるトリマー等を意味する。このような分別樹脂を用いることにより、レジストパターン断面形状の垂直性が更に良好になり、現像時にレジスト残渣(スカム)が発生しにくく、解像性が向上すると共に、耐熱性に優れるものにもなる。
基材樹脂成分(A)成分として、上述したアルカリ可溶性ノボラック樹脂に含まれる全フェノール性水酸基の水素原子の一部が1,2−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換された置換体を用いることができる。当該置換体を用いることにより、当該置換体自体が少ないナフトキノンジアジドスルホニル基で感光性を有するため、スクリーン印刷用インク組成物の感度をより向上させることができる。
光活性化合物(B)は、感光性を有する化合物であれば特に限定されないが、キノンジアジド基含有化合物が好ましい。このキノンジアジド基含有化合物としては、例えば、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,6−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシ−2’−メチルベンゾフェノン、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3’,4,4’,6−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,3,4,4’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,3,4,5−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,3’,4,4’,5’,6−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、2,3,3’,及び4,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン類;ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−2−(2’,4’−ジヒドロキシフェニル)プロパン、2−(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)−2−(2’,3’,4’−トリヒドロキシフェニル)プロパン、4,4’−{1−[4−〔2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル〕フェニル]エチリデン}ビスフェノール、及び3,3’−ジメチル−{1−[4−〔2−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル〕フェニル]エチリデン}ビスフェノール等のビス[(ポリ)ヒドロキシフェニル]アルカン類;トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3、5−ジメチルフェニル)−4−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェニル)−4−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェニル)−3,4−ジヒドロキシフェニルメタン、及びビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,4−ジヒドロキシフェニルメタン等のトリス(ヒドロキシフェニル)メタン類又はそのメチル置換体;ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)−3−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)−4−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(3−シクロヘキシル−2−ヒドロキシフェニル)−3−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−4−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−3−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(3−シクロヘキシル−2−ヒドロキシフェニル)−4−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(3−シクロヘキシル−2−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(5−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、及びビス(5−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−4−ヒドロキシフェニルメタン等のビス(シクロヘキシルヒドロキシフェニル)(ヒドロキシフェニル)メタン類又はそのメチル置換体;フェノール、p−メトキシフェノール、ジメチルフェノール、ヒドロキノン、ナフトール、ピロカテコール、ピロガロール、ピロガロールモノメチルエーテル、ピロガロール−1,3−ジメチルエーテル、没食子酸、アニリン、p−アミノジフェニルアミン、及び4,4’−ジアミノベンゾフェノン等の水酸基又はアミノ基を有する化合物;並びにノボラック、ピロガロール−アセトン樹脂、及びp−ヒドロキシスチレンのホモポリマー又はこれと共重合し得るモノマーとの共重合体等と、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸、ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸、及びオルトアントラキノンジアジドスルホン酸等のキノンジアジド基含有スルホン酸との完全エステル化合物、部分エステル化合物、アミド化物、又は部分アミド化物等を挙げることができる。これらの感光剤は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
溶剤(C)は、沸点が200℃以上の有機溶剤からなる成分である。溶剤(C)の具体例としては、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、プロピレングリコールジアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、グリセリン、ベンジルアルコール、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−エチル−3−メトキシブチルアセテート、2−メトキシペンチルアセテート、3−メトキシペンチルアセテート、4−メトキシペンチルアセテート、2−メチル−3−メトキシペンチルアセテート、3−メチル−3−メトキシペンチルアセテート、3−メチル−4−メトキシペンチルアセテート、4−メチル−4−メトキシペンチルアセテート、ジヘキシルエーテル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、テルピネオールなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種の組み合わせについて、γ−ブチロラクトンとトリプロピレングリコールモノメチルエーテルとの組み合わせの場合、30:70〜70:30の範囲であると印刷性が良好になるため好ましい。溶剤(C)の含有量は、スクリーン印刷用インク組成物の表面張力が34.0mN/m以上39.0mN/m以下の範囲になるように適宜調節されるが、スクリーン印刷用インク組成物の全質量に対して50〜72質量%が好ましく、53〜64質量%がより好ましい。
実施の形態に係るレジストパターン形成方法は、基板上に、上述したスクリーン印刷用インク組成物を用いてスクリーン印刷法によりインク組成物膜を形成する塗膜工程と、基板上に形成されたインク組成物膜をベークするベーク工程と、ベークされたインク組成物膜を露光をする露光工程と、露光されたインク組成物膜を現像する現像工程とを含む。
本実施の形態のスクリーン印刷用インク組成物は、例えば銅からなる基板のエッチング時やめっき時における保護膜や半導体製造用レジスト膜を形成する際に使用することができるものである。レジストパターンの形成方法における塗膜工程においては、これらの基板上に、スクリーン印刷機に設けられたスクリーンにスクリーン印刷用インク組成物を塗布し、スクリーン印刷用インク組成物を3μm〜30μm、好ましくは3μm〜15μmの膜厚になるようにスキージで基板の表面に押し出することによりレジスト膜が形成される。
ベーク工程では、基板上に形成されたレジスト膜の膜厚や使用用途に応じて、80℃から150℃の温度条件下で、ベーク処理(プレベーク)を40秒から600秒間、好ましくは60秒から360秒間施す。
露光工程では、ベークされたレジスト膜に、例えば、波長365nm(I線)、405nm(H線)、435nm(G線)付近の光を発光する光源である低圧水銀灯、高圧水銀灯、及び超高圧水銀灯を用い、所望のマスクパターンを介して選択的に照射した後、必要に応じて80℃から150℃の温度条件下、露光後加熱(PEB)を40秒間から600秒間、好ましくは60秒間から360秒間施す。なお、露光に用いる活性線としては、上記低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯によるG線、H線、及びI線のほかにも、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザー、F2エキシマレーザー、極紫外線(EUV)、真空紫外線(VUV)、電子線(EB)、X線、及び軟X線等の放射線を用いて行うこともできる。
現像工程では、露光後のレジスト膜をアルカリ現像液、例えば、0.1質量%以上10質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて20℃以上30℃以下の温度で現像処理し、純水を用いて水リンスを行い、乾燥を行う。また、場合によっては、上記現像処理後にベーク処理(ポストベーク)を行ってもよい。このようにして、マスクパターンに忠実なレジストパターンを得ることができる。
各実施例および各比較例のスクリーン印刷用インク組成物の表面張力を以下の手順により測定した。
(1)自動滴下法表面張力計および恒温槽の電源を入れ、恒温槽の温度が20℃で安定するまで待つ。
(2)シリンジ内を測定するスクリーン印刷用インク組成物で共洗いする。
(3)シリンジ容量の2/3程度までスクリーン印刷用インク組成物を満たす。
(4)シリンジ内の気泡を完全に取り去ったあと、シリンジを自動滴下法表面張力計にセットする。
(5)表面張力の測定を開始する。
測定結果は3回の滴下による測定結果の平均を5回算出し、その平均値を最終的なスクリーン印刷用インク組成物の表面張力の測定結果とする。表面張力の値は以下の式により計算される。表面張力の測定結果を表1に示す。
(6)検量線を作成する。
あらかじめ添加剤の添加量を振ったサンプルを任意数用意し、各々の表面張力を上記(1)〜(5)に従い測定する。この結果を元に検量線を作成しておく。
(7)目的のサンプルの表面張力を(1)〜(5)に従い測定する。
スクリーン印刷用のスクリーンに各実施例および各比較例のスクリーン印刷用インク組成物0.3gを塗布した後、SiN基板上にスクリーン印刷用インク組成物を印刷して塗膜を形成した(1回目)。続いて、1回目の塗膜形成直後に、当該スクリーンを用いて2回目の塗膜形成を行った。さらに、2回目の塗膜形成から1分経過後に3回目の塗膜形成を行い、3回目の塗膜形成から3分経過後に4回目の塗膜形成を行い、4回目の塗膜形成から5分経過後に5回目の塗膜形成を順次行った。
[被覆性]
スクリーン印刷用インク組成物を基板上に1回目にスクリーン印刷したときに、スクリーン印刷用インク組成物がはじかれずに基板を被覆している場合を○(良好)とし、スクリーン印刷用インク組成物がはじかれる場合を×(不良)とした。
[連続印刷性]
5回目に形成された塗膜について、膜のかすれや浮きが目視で確認されない場合を○(良好)とし、膜のかすれや浮きが目視で確認できる場合を×(不良)とした。
[膜厚面内均一性]
1回目の印刷から5回目の印刷までの各回について、基板上に印刷されたスクリーン印刷用インク組成物の膜厚をNANOSPEC(ナノメトリクス社製)を用いてそれぞれ9箇所測定し、膜厚のばらつきを次の式を用いて算出した。
<膜厚のばらつき>=2×(最大値−最小値)/平均値
上記式で定義される膜厚のばらつきが各回とも0.15μm以下である場合を○(良好)とし、1つ以上の回において、膜厚のばらつきが0.15μmより大きい場合を×(不良)とした。
以上の評価方法にしたがって得られた被覆性、連続印刷性および膜厚面内均一性の評価結果を表2に示す。
SiN基板およびCu基板の2種類の基板を用いて、印刷性が良好な各実施例のスクリーン印刷用インク組成物について、所定パターンの形成の可否を評価した。パターン形成条件は以下のとおりである。
ベーク処理(プリベーク):120℃、90秒
露光機:伯東社製MAT−2501(平行光露光装置 超高圧水銀灯 g線、h線およびi線)
露光量:100mJ
現像:水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)2.38%、90秒
ターゲットパターン(ライン幅):40μm、100μm、200μm
ポストベーク:140℃、180秒
Claims (5)
- 基材樹脂成分(A)と、
感光剤(B)と、
沸点が200℃以上の有機溶剤からなる溶剤(C)と、
を含有し、
20℃における表面張力が34.0mN/m以上39.0mN/m以下であり、
但し、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂およびトリフェノール型エポキシ樹脂からなる群より選択されるエポキシ樹脂、
メトキシ化メラミンおよびブトキシ化メラミンからなる群より選択されるメラミン樹脂、
潜在性熱酸発生剤、フェノール系化合物、アミン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物およびメラミンからなる群より選択されるエポキシ硬化剤、または
これらの2つ以上の組み合わせを含まないことを特徴とするスクリーン印刷用インク組成物。 - 基材樹脂成分(A)と、
感光剤(B)と、
沸点が200℃以上の有機溶剤からなる溶剤(C)と、
からなり、
20℃における表面張力が34.0mN/m以上39.0mN/m以下であることを特徴とするスクリーン印刷用インク組成物。 - 前記基材樹脂成分(A)がアルカリ可溶性樹脂である請求項1または2に記載のスクリーン印刷用インク組成物。
- 前記感光剤(B)がキノンジアジド基含有化合物を含む請求項1乃至3のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用インク組成物。
- 基板上に、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用インク組成物を用いてスクリーン印刷法によりインク組成物膜を形成する工程と、
前記インク組成物膜をベークする工程と、
露光をする工程と、
現像する工程と、
を含むパターン形成方法。
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