JP6009918B2 - タイヤ用ゴム組成物及び空気入りタイヤ - Google Patents
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Description
工程Aでは、少なくともシリカと相互作用を持つ官能基を有する変性ブタジエンゴム、シリカと相互作用を持つ官能基を有さないブタジエンゴム及びシリカを含む材料を混練して混練物が作製される(ベース練り工程A)。
なお、上記式(I)で表される化合物量は、NMR(例えば、日本電子(株)製のJNM−ECAシリーズの装置)を用いて測定できる。
なお、シリカの窒素吸着比表面積は、ASTM D3037−81に準じてBET法で測定される値である。
シランカップリング剤としては、ゴム工業において、従来からシリカと併用される任意のシランカップリング剤を使用することができ、例えば、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド等のスルフィド系、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、EVONIK−DEGUSSA社製のSi363、Momentive社製のNXT−Z30、NXT−Z45、NXT−Z60などのメルカプト系、ビニルトリエトキシシランなどのビニル系、3−アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノ系、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランのグリシドキシ系、3−ニトロプロピルトリメトキシシランなどのニトロ系、3−クロロプロピルトリメトキシシランなどのクロロ系等が挙げられる。なかでも、シリカ分散性の点から、工程Aでは、スルフィド系シランカップリング剤を混練することが好ましい。
工程Bでは、少なくとも前記工程Aで得られた混練物と他のジエン系ゴムとを含む材料が混練される(ベース練り工程B)。
本発明では、前記工程A〜Bでベース練り工程を行った後、通常、仕上げ練り工程、例えば、工程Bで得られた混練物、硫黄などの加硫剤、加硫促進剤などを70〜85℃、2〜4分の条件で混練りする工程が行われ、その後加硫工程を行うことで加硫ゴム組成物が得られる(仕上げ練り工程、加硫工程)。
(シリカ用変性BR)
シクロヘキサン:関東化学(株)製
ピロリジン:和光純薬工業(株)製
ジビニルベンゼン:和光純薬工業(株)製
n−ブチルリチウム:関東化学(株)製の1.6M n−ブチルリチウムヘキサン溶液
イソプロパノール:和光純薬工業(株)製
ブタジエン:東京化成工業(株)製
テトラメチルエチレンジアミン:関東化学(株)製
3−(N,N−ジメチルアミノプロピル)トリメトキシシラン:アヅマックス(株)製
2,6−tert−ブチル−p−クレゾール:大内新興化学工業(株)製
(シリカ用変性S−SBR)
n−ヘキサン:関東化学(株)製
スチレン:関東化学(株)製
1,3−ブタジエン:東京化成工業(株)製
p−メトキシスチレン:関東化学(株)製
テトラメチルエチレンジアミン:関東化学(株)製
n−ブチルリチウム:関東化学(株)製
3−(N,N−ジメチルアミノプロピル)トリメトキシシラン:アヅマックス(株)製
2,6−tert−ブチル−p−クレゾール:大内新興化学工業(株)製
十分に窒素置換した100ml容器に、シクロヘキサン50ml、ピロリジン4.1ml(3.6g)、ジビニルベンゼン6.5gを加え、0℃にてn−ブチルリチウム0.7mlを加えて攪拌した。1時間後、イソプロパノールを加えて反応を停止させ、抽出・精製を行うことでモノマー(4−(2−ピロリジノエチル)スチレン)を得た。
次に、充分に窒素置換した1000ml耐圧製容器に、シクロヘキサン600ml、ブタジエン71.0ml(41.0g)、上記モノマー0.29g、テトラメチルエチレンジアミン0.11mlを加え、40℃でn−ブチルリチウム0.2mlを加えて撹拌した。3時間後、3−(N,N−ジメチルアミノプロピル)トリメトキシシラン(末端変性剤)を0.5ml(0.49g)加えて攪拌した。1時間後、イソプロパノール3mlを加えて重合を停止させた。反応溶液に2,6−tert−ブチル−p−クレゾール1gを添加後、メタノールで再沈殿処理を行い、加熱乾燥させてシリカ用変性BRを得た。
十分に窒素置換した耐熱容器にn−ヘキサン1500ml、スチレン100mmol、1,3−ブタジエン800mmol、p−メトキシスチレン5mmol、テトラメチルエチレンジアミン0.2mmol、n−ブチルリチウム0.12mmolを加えて、0℃で48時間攪拌した。その後、3−(N,N−ジメチルアミノプロピル)トリメトキシシラン(末端変性剤)を0.15mmol加えて、0℃で1時間攪拌した。その後、アルコールを加えて反応を止め、反応溶液に2,6−tert−ブチル−p−クレゾール1gを添加後、再沈殿精製によりシリカ用変性S−SBRを得た。
BR:JSR(株)製のBR730(シス含量:95質量%、100℃のML1+4:55、非変性BR)
変性BR:上記で作製したシリカ用変性BR
S−SBR:日本ゼオン(株)製のNS116(スチレン含有率:21質量%、非変性S−SBR)
変性S−SBR:上記で作製したシリカ用変性S−SBR
シリカ:EVONIK−DEGUSSA社製のUltrasilVN3(N2SA:175m2/g)
シランカップリング剤A:EVONIK−DEGUSSA社製のSi69(スルフィド系シランカップリング剤:ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド)
シランカップリング剤B:EVONIK−DEGUSSA社製のSi363(メルカプト系シランカップリング剤)
シランカップリング剤C:Momentive社製のNXT−Z45(メルカプト系シランカップリング剤)
オイル:(株)ジャパンエナジー製のプロセスX−140
ステアリン酸:日油(株)製のステアリン酸「椿」
酸化亜鉛:三井金属鉱業(株)製の亜鉛華1号
老化防止剤:大内新興化学工業(株)製のノクラック6C(N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン)
硫黄:鶴見化学工業(株)製の粉末硫黄
加硫促進剤1:大内新興化学工業(株)製のノクセラーNS(N−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド)
加硫促進剤2:大内新興化学工業(株)製のノクセラーD(N,N’−ジフェニルグアニジン)
表1、2に示す配合に従い、1.7Lバンバリーミキサーを用いて、先ず、工程Aの配合に沿って150℃に達するまで3〜5分間ベース練り工程Aを行い、続いて、工程Aで得られた混練物に工程Bの配合に沿って他の材料を添加し、150℃に達するまで3〜5分間ベース練り工程Bを行った。次に、オープンロールを用いて、工程Bで得られた混練物に硫黄及び加硫促進剤を添加し、70℃の条件下で2分間練り込み、未加硫ゴム組成物を得た。得られた未加硫ゴム組成物を170℃で15分間プレス加硫して加硫ゴム組成物を得た。
粘弾性スペクトロメーターVES((株)岩本製作所製)を用いて、温度50℃、初期歪み10%、動歪み2%、周波数10Hzの条件下で各配合例(加硫ゴム組成物)の損失正接(tanδ)を測定し、基準比較例の損失正接tanδを100として、下記計算式により、各配合例の転がり抵抗を指数表示した(転がり抵抗指数)。指数が大きいほど転がり抵抗が小さく、低燃費性能が優れることを示す。
(転がり抵抗指数)=(基準比較例のtanδ)/(各配合例のtanδ)×100
ランボーン摩耗試験機を用いて、温度20℃、スリップ率20%及び試験時間2分間の条件下でランボーン摩耗量を測定した。更に、測定したランボーン摩耗量から容積損失量を計算し、基準比較例の耐摩耗性指数を100とし、下記計算式により、各配合例(加硫ゴム組成物)の容積損失量を指数表示した。耐摩耗性指数が大きいほど、耐摩耗性能が優れることを示す。
(耐摩耗性指数)=(基準比較例の容積損失量)/(各配合例の容積損失量)×100
Claims (6)
- 少なくともシリカと相互作用を持つ官能基を有する変性ブタジエンゴム、シリカと相互作用を持つ官能基を有さないブタジエンゴム及びシリカを混練して混練物を作製する工程Aと、少なくとも前記混練物及び他のジエン系ゴムを混練する工程Bとを含み、
前記官能基がアミノ基、アミド基、アルコキシシリル基、イソシアネート基、イミノ基、イミダゾール基、ウレア基、エーテル基、カルボニル基、オキシカルボニル基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホニル基、スルフィニル基、チオカルボニル基、アンモニウム基、イミド基、ヒドラゾ基、アゾ基、ジアゾ基、カルボキシル基、ニトリル基、ピリジル基、アルコキシ基、水酸基、オキシ基、エポキシ基、及びポリシロキサン構造からなる群から選択される少なくとも1種であるタイヤ用ゴム組成物の製造方法。 - 前記工程Bがシリカを混練するものである請求項1に記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
- 前記工程Aがスルフィド系シランカップリング剤を混練し、前記工程Bがメルカプト系シランカップリング剤を混練する請求項1又は2に記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
- タイヤ用ゴム組成物において、前記シリカは、含有量がゴム成分100質量部に対して5〜150質量部、窒素吸着比表面積が30〜500m2/gである請求項1〜3のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
- タイヤ用ゴム組成物が、キャップトレッド用ゴム組成物である請求項1〜4のいずれかに記載のタイヤ用ゴム組成物の製造方法。
- 少なくともシリカと相互作用を持つ官能基を有する変性ブタジエンゴム、シリカと相互作用を持つ官能基を有さないブタジエンゴム及びシリカを混練して混練物を作製する工程Aと、少なくとも前記混練物及び他のジエン系ゴムを混練する工程Bとを含み、
前記官能基がアミノ基、アミド基、アルコキシシリル基、イソシアネート基、イミノ基、イミダゾール基、ウレア基、エーテル基、カルボニル基、オキシカルボニル基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホニル基、スルフィニル基、チオカルボニル基、アンモニウム基、イミド基、ヒドラゾ基、アゾ基、ジアゾ基、カルボキシル基、ニトリル基、ピリジル基、アルコキシ基、水酸基、オキシ基、エポキシ基、及びポリシロキサン構造からなる群から選択される少なくとも1種である空気入りタイヤの製造方法。
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