JP6000338B2 - 基板状の計測デバイス用熱遮蔽モジュール - Google Patents
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Description
Claims (32)
- 熱遮蔽モジュールであって、
a)高熱容量材料で作製された上部と、
b)前記上部に取り付けられるとともに高熱容量材料で作製された下部であって、開口部が形成され、前記上部および前記下部の前記開口部により形成される筐体が、電子部品と前記上部および下部との間に断熱材料がない状態かつ前記筐体の内壁面に前記電子部品の一面が接触するようにして当該電子部品を受け入れる大きさに前記開口部が形成された、下部と、
c)前記上部または前記下部のいずれか一方に据え付けられる1本以上の脚部であって、前記脚部を介して、前記熱遮蔽モジュールを基板に取り付けることで、前記下部の底面と前記基板の頂面との間に間隙が形成されるように構成される、1本以上の脚部とを備える、熱遮蔽モジュール。 - 前記上部または前記下部のいずれか一方が、ステンレス鋼で作製されている、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記上部の全面および前記下部の全面の両方またはいずれか一方が、低放射率表面を形成するために研磨されている、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記上部の全面および前記下部の全面の両方またはいずれか一方が、低放射率材料で被覆される、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記上部または前記下部の両方またはいずれか一方が、サファイアで構成されている、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記上部または前記下部の両方またはいずれか一方が、ニッケル−コバルト鉄合金で構成されている、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記上部または前記下部の両方またはいずれか一方が、FeNi36として一般に知られるニッケル合金鋼で構成されている、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記1本以上の脚部が、ステンレス鋼で構成されている、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記1本以上の脚部が、石英で構成されている、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記1本以上の脚部が、前記基板の頂面と前記下部の底面との間に形成される前記間隙が、少なくとも0.25ミリメートルであるように構成される、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記上部、前記下部、および前記1本以上の脚部は、前記熱遮蔽モジュールを前記基板に実装する際に、前記熱遮蔽モジュールの高さが、前記基板の頂面の上方2ミリメートルから10ミリメートルの間であるように構成される、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記筐体の寸法が、前記電子部品の寸法よりも大きい、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 前記筐体が、1ミリメートル以下の厚さを有する電子部品を受け入れる大きさに形成される、請求項1に記載の熱遮蔽モジュール。
- 電子部品モジュールであって、
高熱容量材料で作製された上部および高熱容量材料で作製された下部を含み、前記上部および前記下部により形成される筐体を有する熱遮蔽モジュールと、
前記筐体に配置された電子部品であって、前記筐体が前記電子部品と前記上部および下部との間に断熱材料がない状態かつ前記筐体の内壁面に前記電子部品の一面が接触するようにして当該電子部品を受け入れる大きさに形成される、電子部品と、
前記熱遮蔽モジュールに取り付けられる1本以上の脚部であって、前記脚部を介して、前記筐体を前記基板に取り付けることで、前記下部の底面と前記基板の頂面との間に間隙が形成されるように構成される、1本以上の脚部とを備える、電子部品モジュール。 - 前記電子部品が、1つ以上の電池を含む、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記電子部品が、中央演算処理装置(CPU)を含む、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記電子部品全体の厚さが、約1ミリメートル以下程度である、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記上部または前記下部のいずれか一方が、ステンレス鋼で作製されている、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記上部の全面および前記下部の全面の両方またはいずれか一方両方またはいずれか一方が、低放射率表面を形成するために研磨されている、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記上部の全面および前記下部の全面の両方またはいずれか一方が、低放射率材料で被覆される、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記上部または前記下部の両方またはいずれか一方が、サファイアで構成されている、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記上部または前記下部の両方またはいずれか一方が、ニッケル−コバルト鉄合金で構成されている、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記上部または前記下部の両方またはいずれか一方が、FeNi36として一般に知られるニッケル合金鋼で構成されている、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記1本以上の脚部が、ステンレス鋼で構成されている、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記1本以上の脚部が、石英で構成されている、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記1本以上の脚部が、前記基板の頂面と前記下部の底面との間に形成される前記間隙が、少なくとも0.25ミリメートルであるように構成される、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記上部、前記下部、および前記1本以上の脚部は、前記熱遮蔽モジュールを前記基板に実装する際に、前記熱遮蔽モジュールの高さが、前記基板の頂面の上方2ミリメートルから10ミリメートルの間であるように構成される、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記筐体の寸法が、前記電子部品の寸法よりも大きい、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 前記電子部品が、接着剤により前記筐体に固定される、請求項14に記載の電子部品モジュール。
- 基板状計測デバイスであって、
基板と、
高熱容量材料で作製された上部および高熱容量材料で作製された下部を含み、前記上部および前記下部により形成される筐体を有する熱遮蔽モジュールであって、前記筐体が、電子部品パッケージと前記上部および下部との間に断熱材料がない状態かつ前記筐体の内壁面に前記電子部品の一面が接触するようにして当該前記電子部品パッケージを受け入れる大きさに形成される、熱遮蔽モジュールと、
前記熱遮蔽モジュールに取り付けられる1本以上の脚部であって、前記脚部を介して、前記筐体を前記基板に取り付けることで、前記下部の底面と前記基板の頂面との間に間隙が形成されるように構成される、1本以上の脚部とを備える、基板状計測デバイス。 - 前記筐体の寸法が、前記電子部品パッケージの寸法よりも大きい、請求項30に記載の基板状計測デバイス。
- 前記電子部品パッケージが、接着剤により前記筐体に固定される、請求項30に記載の基板状計測デバイス。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US13/104,874 US8681493B2 (en) | 2011-05-10 | 2011-05-10 | Heat shield module for substrate-like metrology device |
| US13/104,874 | 2011-05-10 | ||
| PCT/US2012/032761 WO2012154359A1 (en) | 2011-05-10 | 2012-04-09 | Heat shield module for substrate-like metrology device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014519193A JP2014519193A (ja) | 2014-08-07 |
| JP6000338B2 true JP6000338B2 (ja) | 2016-09-28 |
Family
ID=47139505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014510315A Active JP6000338B2 (ja) | 2011-05-10 | 2012-04-09 | 基板状の計測デバイス用熱遮蔽モジュール |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8681493B2 (ja) |
| EP (1) | EP2707895A4 (ja) |
| JP (1) | JP6000338B2 (ja) |
| KR (1) | KR101935070B1 (ja) |
| CN (1) | CN103620735B (ja) |
| TW (1) | TWI533411B (ja) |
| WO (1) | WO2012154359A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
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| US7385199B2 (en) | 2005-09-26 | 2008-06-10 | Teledyne Licensing, Llc | Microbolometer IR focal plane array (FPA) with in-situ mirco vacuum sensor and method of fabrication |
| TWI405281B (zh) * | 2005-12-13 | 2013-08-11 | 聖斯艾瑞公司 | 製程條件感應晶圓及資料分析系統 |
| US8604361B2 (en) | 2005-12-13 | 2013-12-10 | Kla-Tencor Corporation | Component package for maintaining safe operating temperature of components |
| JP2007178253A (ja) | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Tokyo Electron Ltd | 温度測定装置および温度測定方法 |
| US7555948B2 (en) * | 2006-05-01 | 2009-07-07 | Lynn Karl Wiese | Process condition measuring device with shielding |
| CN100422703C (zh) * | 2006-07-20 | 2008-10-01 | 金竹声 | 电气结点发热温度等电位监测探头及其安装方法 |
| WO2008042903A2 (en) | 2006-10-03 | 2008-04-10 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Systems for sensing pressure/shear force |
| JP2010519768A (ja) | 2007-02-23 | 2010-06-03 | ケーエルエー−テンカー・コーポレーション | プロセス条件測定デバイス |
| JP4987546B2 (ja) | 2007-04-11 | 2012-07-25 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
| JP5251305B2 (ja) * | 2007-08-28 | 2013-07-31 | 山里産業株式会社 | 温度計測器の耐熱保護ボックス及びこれを用いた温度計測装置、並びに温度計測方法 |
| JP5098045B2 (ja) * | 2008-04-28 | 2012-12-12 | 東京電波株式会社 | 圧電温度センサとシリコンウエハ温度測定冶具 |
-
2011
- 2011-05-10 US US13/104,874 patent/US8681493B2/en active Active
-
2012
- 2012-04-09 EP EP12782219.5A patent/EP2707895A4/en not_active Withdrawn
- 2012-04-09 KR KR1020137032328A patent/KR101935070B1/ko active Active
- 2012-04-09 JP JP2014510315A patent/JP6000338B2/ja active Active
- 2012-04-09 CN CN201280029110.XA patent/CN103620735B/zh active Active
- 2012-04-09 WO PCT/US2012/032761 patent/WO2012154359A1/en not_active Ceased
- 2012-04-12 TW TW101113068A patent/TWI533411B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20140031297A (ko) | 2014-03-12 |
| US20120287574A1 (en) | 2012-11-15 |
| KR101935070B1 (ko) | 2019-01-03 |
| TW201246469A (en) | 2012-11-16 |
| JP2014519193A (ja) | 2014-08-07 |
| WO2012154359A1 (en) | 2012-11-15 |
| EP2707895A1 (en) | 2014-03-19 |
| CN103620735A (zh) | 2014-03-05 |
| US8681493B2 (en) | 2014-03-25 |
| TWI533411B (zh) | 2016-05-11 |
| CN103620735B (zh) | 2017-06-09 |
| EP2707895A4 (en) | 2015-08-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150408 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160324 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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|
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|
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|
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|
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