JP6000004B2

JP6000004B2 - 板状触媒及び板状触媒の製造方法

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Publication number: JP6000004B2
Application number: JP2012160044A
Authority: JP
Inventors: 今田　尚美; 尚美今田; 加藤　泰良; 泰良加藤
Original assignee: Mitsubishi Hitachi Power Systems Ltd
Current assignee: Mitsubishi Power Ltd
Priority date: 2012-07-18
Filing date: 2012-07-18
Publication date: 2016-09-28
Anticipated expiration: 2032-07-18
Also published as: JP2014018740A

Description

本発明は、板状触媒及び板状触媒の製造方法に関する。

従来より、酸化チタンを主成分とする脱硝触媒は、活性が高く耐久性に優れていることから、ボイラなどの排煙処理に広く用いられている。

一方、米国東部炭などの高Ｓ含有炭を焚くボイラ排ガスの脱硝では、ＳＯ_２の酸化率が高くなると、後流にある空気予熱器への酸性硫安の析出量が増大して圧力損失の上昇を招いたり、煙突からＳＯ_３として排出され、紫煙や、二次公害の原因になるため、近年、特に低いＳＯ_２酸化率を有する脱硝触媒へのニーズが高まっている。他方、米国やヨーロッパでは、発電所などから排出されるＳＯｘやＮＯｘとともに、水銀（Ｈｇ）、鉛（Ｐｂ）、フッ素（Ｆ）などの各種微量成分の排出規制が強化されつつある。

特許文献１には、水銀の排出量を低減する試みとして、脱硝触媒を用いて排ガス中のＮＯｘをＮＨ_３で還元するとともに、揮発性の高い金属水銀を塩化水銀などの酸化形態に酸化し、後流にある電気集塵機や脱硫装置などで酸化形態となった水銀酸化物を燃焼灰や石膏とともに回収する技術が開示されている。この方法には、脱硝触媒として、酸化チタンにバナジウム（Ｖ）やタングステン（Ｗ）などの酸化物を活性成分として添加したものが使用される。

しかしながら、この種の触媒成分をハニカムや板状に成形した無垢の触媒は、触媒成分の使用量が多いことから高い脱硝率を得ることができるが、その分、ＳＯ_２酸化率も高くなる。また、実用的な強度を維持するためには、触媒成分の使用量を所定量以下に低減することが容易ではない。

これに対し、特許文献２では、所定の形状に成形された触媒基材成形体の表面部に脱硝率の高い、高濃度のバナジウム含有の脱硝触媒成分（以下、高バナジウム触媒層と称す。）を担持させた触媒構造が開示されている。この触媒構造によれば、高バナジウム触媒層の触媒使用量を少なくして高い脱硝率が得られるとともに、ＳＯ_２酸化率を低く抑えることができる。

特開２００５−１２５２１１号公報特開２００７−１４９６０号公報

しかしながら、特許文献２の触媒構造によれば、高バナジウム触媒層の担持量を所定量以上に増やすと、触媒基材成形体から高バナジウム触媒層が剥離しやすくなる。すなわち、触媒基材成形体に担持できる高バナジウム触媒層の量には限界があり、それに伴って所定以上の高い脱硝率を得ることが困難となる。

また、この種の触媒が排ガス中に長く曝されると、排ガスに同伴するダストが高バナジウム触媒層の触媒成分と接触することによって、高バナジウム触媒層が剥離、消失するため、初期の触媒性能を維持できなくなる。

本発明の課題は、触媒表面に担持する触媒層の剥離を抑制して、初期の触媒活性を維持することにある。

上記課題を解決するため、本発明の板状触媒は、基材と、この基材上に形成される触媒層と、基材と触媒層との間に形成される中間層とを有し、この中間層は、酸化チタン、シリカ、珪藻土、石膏のうち少なくとも一つを含むとともに、基材と反対側の表面に複数の溝が形成され、触媒層は、酸化チタンと、モリブデン、タングステン、バナジウムのうち少なくとも１つの元素の酸化物とを含み、中間層の基材と反対側の表面及び溝に担持されてなることを特徴とする。

このように基材と触媒層の間に中間層を形成し、この中間層の表面に溝を設けることにより、溝がいわばアンカーのような役割を果たして触媒層と中間層との密着性を高めることができる。したがって、触媒層は、排ガス中で長く曝されたとしても、中間層から剥離することなく、初期の触媒活性を維持することができる。

また、本発明によれば、中間層の溝内に触媒層が食い込む形で担持されるから、溝がない面に含浸や転着などによって触媒成分を担持する場合と比べて、触媒成分の担持量を増やすことができる。したがって、溝がない面に触媒成分を担持する場合と比べて、高い触媒活性（脱硝活性）を得ることができる。

この場合において、中間層は、無機繊維を含んでなるものとする。

これによれば、中間層の強度を高めることができるから、溝の形状を長く保持することができ、結果として触媒層の保持力を高めることができる。

また、上記課題を解決するため、帯状に形成された基材上に酸化チタンを含有する触媒成分を塗布する板状触媒の製造方法において、基材と、触媒成分の担体となる酸化物に水を加えて得られるペーストとを一対の加圧ローラ間に供給して基材の表面に酸化物を含む中間層を形成し、この中間層の基材と反対側の面に複数の溝を形成する第１の工程と、中間層の基材と反対側の面及び溝に、触媒成分を付着させて触媒層を形成する第２の工程とを含んでなることを特徴とする。

すなわち、基材と触媒層は、乾燥や焼成時の収縮率の差が大きく異なるから、例えば、基材の表面に触媒層を直接載せて乾燥や焼成を行うと、触媒層が剥離するおそれがあるが、本発明の場合、中間層と触媒層は、乾燥や焼成時の収縮率が非常に近いため、乾燥や焼成時において、触媒層が中間層から剥離するのを抑制することができる。したがって、本発明の製造方法によれば、生産効率を高めることができる。

この場合において、第１の工程は、２枚のメッシュクロス間に基材とペーストとを介在させて、この２枚のメッシュクロスを一対の加圧ローラ間に供給し、基材の表面に形成される中間層にメッシュクロスを押し付けるものとする。

これによれば、加圧ローラの回転に合わせて中間層の表面にメッシュクロスの模様を転写することができるため、互いに交差するような複雑な溝の模様を容易に形成することができる。

また、これに代えて、第１の工程は、表面に凸部を有する一対のローラ間に基材とペーストとを供給し、基材の表面に形成される中間層に凸部を押し付けるようにしてもよい。

これによれば、メッシュクロスを用いなくても中間層の表面に複雑な溝の模様を容易に形成することができるため、設備を簡単化することができ、設備費用を抑えることができる。

また、これらの方法のように複雑な溝の模様を形成することはできないが、例えば、一対のローラ間を通過して形成された中間層の移動面に、複数の突起を連続的に押し付けるようにしてもよい。これによれば、簡単な構成で、溝を形成することができ、しかも、突起の交換作業を容易に行うことができる。

本発明によれば、触媒表面に担持する触媒層の剥離を抑制して、初期の触媒活性を維持することができる。

本発明に係る板状触媒の製造方法の一例を示すフロー図である。本発明に係る板状触媒の中間層を形成する製造工程の実施の形態を示す斜視図である。本発明に係る板状触媒の断面図である。本発明に係る板状触媒の中間層を形成する製造工程の他の実施の形態を示す斜視図である。本発明に係る板状触媒の中間層を形成する製造工程の他の実施の形態を示す斜視図である。

以下、本発明を適用してなる板状触媒の製造方法の実施の形態について図面を参照して具体的に説明する。

本実施の形態の板状触媒の製造方法は、帯状の基材の表面（裏表の両面）に後述する酸化物を含む中間層を形成し、中間層の表面（基材１と反対側の面）に溝を形成する第１の工程と、中間層の基材の表面及び溝に触媒成分を付着させて触媒層を形成する第２の工程を含むことを特徴としている。

具体的に、本実施の形態の板状触媒は、図１の基本フローに従って連続的に製造される。帯状の基材１（メタルラス基材）は、ロール３に巻き付けられた状態で製造ラインに供給され、ロール３から巻き出された基材１に、中間層、触媒層が順次形成される。

まず、第１の工程では、基材１が、別に調整された酸化物を含有するペースト５とともに、一対の加圧ローラ７間に供給される。加圧ローラ７間を通過した基材１の表面には、基材１の編み目と表面を埋めるように、ペースト５が圧着されて酸化物を含む中間層が担持される。

ここで重要なことは、基材１とペースト５は、２枚のメッシュクロス９間に挟まれた状態で、加圧ローラ７間に供給されることにある。図２に示すように、ペースト５は、基材１とメッシュクロス９との間に介在する状態で、一対の加圧ローラ７間を通過する。その結果、ペースト５が、基材１の表面に圧着されて中間層１１が形成（成形）され、その中間層１１の基材と反対側の面にメッシュクロス９の編み目の模様が転写され、多数の溝が形成される。このように、メッシュクロス９を用いることにより、中間層１１には、互いに交差するような複雑な溝を簡単に形成することができる。

メッシュクロス９は、無端の帯状に形成されることが好ましいが、一対の加圧ローラ７の回転に応じてローラ７間に連続的に供給できるものであれば、どのような形状、供給方法であっても構わない。メッシュクロス９の材質は、特に限定されないが、酸に強く、連続使用に耐えうる強度（耐久性）を有していることが好ましく、例えば、テフロン（登録商標）、ステンレス、ポリプロピレン、ポリエチレンなどの材質から選択することができる。メッシュクロス９の目開きや糸径、平織や綾織などの織り方については、中間層１１に担持される触媒層の担持量などによって決定することができ、特に限定されないが、糸径は、２０μｍ以上２０００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以上１０００μｍ以下の範囲であれば、耐久性の高い板状触媒を得ることができる。

続いて、第２の工程では、図１に示すように、中間層１１が形成された基材１を、触媒成分を含むスラリ１３中に連続的に浸漬させることで、中間層１１の外側に触媒成分を含む触媒層（後述）が担持される。なお、本実施の形態では、第２の工程として、スラリ１３中に基板１を浸漬する方法（ウォッシュコート法）を説明するが、これに限られず、例えば、スラリ１３を一旦弾性を有するローラに付着させた後、ローラを中間層表面と接触させてスラリを転着する方法（特開２００７−１４９６０号公報）や、中間層とスラリ１３を一対のコーティングローラ又はコーティングベルト間に供給することで、中間層の表面にスラリを圧着する方法（特開１１−５７４９５号公報）など、種々の方法を採用することができる。

こうして触媒層が担持された板状触媒は、プレス成形機１５で積層した場合にスペーサとなる波型が付けられた後、切断機１７で所定長さのエレメント１９に切断される。続いてエレメント１９が積層され、触媒ユニットとして組み付けられる。この触媒ユニットは、通気乾燥後、焼成炉で焼成することにより、ユニット状に組み付けられた板状触媒２１が得られる。

なお、本実施の形態では、第２の工程を経て、触媒層が形成された板状触媒をユニット状に組み付けてから、乾燥、焼成を行う手順を説明したが、これに限られず、例えば、第１の工程を経て中間層１１が形成された板状触媒をユニット状に組み付けた後、ユニットごとスラリ１３中に浸漬させて、触媒層を形成した後、乾燥、焼成を行うようにしてもよい。

本実施の形態で中間層１１を形成するペースト５は、酸化物に水を加えて調整される。酸化物には、通常、触媒成分の担体として用いられるものであれば、どのようなものでもよいが、中間層の表面に形成される触媒層の触媒成分が、次第に中間層に移動するのを抑制するため、例えば、表面積が小さい不活性な酸化チタン、シリカ、珪藻土、石膏のうち、少なくとも一つを含ませることが好ましい。また、酸化物としては、例えば、タングステン、モリブデン、バナジウムなどが担持された酸化チタン（いわゆる脱硝触媒）を用いれば、中間層１１自体に脱硝活性や水銀酸化活性を持たせることができる。さらに、ペースト５中には、これらの酸化物の他、シリカゾルなどのバインダ、無機繊維などの強化部材（成形助剤）を添加することもできる。

また、本実施の形態で触媒層を形成するスラリ１３は、触媒成分に水を加えて調整される。触媒成分には、通常の脱硝触媒原料となる酸化チタン或いはその前駆体と、モリブデン、タングステン、バナジウムのうち少なくとも１つの元素の酸化物（例えば可溶性塩類）とを含むことが好ましい。特に、バナジウム酸化物の含有量を高めることで、高い脱硝率を得ることができる。また、触媒層の強度を増すためには、シリカゾルなどのバインダ成分を添加することが好ましい。

次に、このようにして製造された板状触媒２１の断面構成を図３に示す。本実施の形態の板状触媒２１は、基材１と、中間層１１と、触媒層２３から構成される。中間層１１は、基材１の表面に担持され、基材１と反対側の面には複数の溝２５が形成される。触媒層２３は、中間層１１の基材と反対側の面及び溝２５に担持される。

本実施の形態の板状触媒２１は、中間層１１の触媒層２３を担持する面に複数の溝２５を設けているため、触媒層２３を中間層１１の溝内に担持することができ、触媒層２３と中間層１１の密着性を高めることができる。したがって、板状触媒２１を排ガス中で長期間使用する場合でも、ダストが衝突することによる触媒層２３の剥離を抑制することができ、初期の触媒活性を長く維持することができる。溝２５の形状は、溝２５同士が交差していることが好ましいが、これに限定されるものではなく、例えば、格子状、鹿の子状、互いに平行な線状に形成することができる。

また、板状触媒２１は、触媒層２３の触媒成分を中間層１１の溝２５内に担持することができるから、溝２５を有しない平らな面（多孔質の面を含む）に含浸や転着などによって触媒成分を担持する場合と比べて、板状触媒２３自体の厚みの増加分を少なくして、触媒成分の担持量を増やすことができる。したがって、溝２５がない場合と比べて、触媒活性（脱硝活性）を向上させることができ、触媒成分を適宜選択することにより、高脱硝率と低ＳＯ_２酸化率との両立も可能である。

また、中間層１１と触媒層２３は、乾燥及び焼成時の収縮率が非常に近いため、乾燥及び焼成時において、両者の密着度を高めることができ、触媒層２３が中間層１１から剥離するのを抑制することができる。

以下、本発明を適用してなる板状触媒の製造方法において、第１の工程の他の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、以下に示す実施の形態は、基本的には上述した実施の形態と同様である。したがって以下では、各実施の形態の特徴的な構成についてだけ説明し、上述した実施の形態と共通する構成については説明を省略する。

図４に示すように、本実施の形態では、第１の工程において、メッシュクロス９に代えて、表面に凸部２７を有する加圧ローラ２９を用いている点で、図２の実施の形態と構成が相違する。本実施の形態では、表面に凸部２７を有する一対の加圧ローラ２９間に、基材１とペースト５を供給して基材１の表面に中間層１１を形成し、これとともに中間層１１の表面に凸部２７を押し付けて、溝２５を形成するものである。

本実施の形態によれば、メッシュクロス９を用いることなく、中間層１１に複雑な溝２５の模様を形成することができる。しかも、メッシュクロス９や、その供給設備が不要になるため、設備をコンパクト化することができ、設備費用の低減化を図ることができる。

また、第１の工程は、図２や図４の構成に代えて、図５に示す構成を採用することもできる。本実施の形態では、図２と同じ一対のローラ７を用いているが、メッシュクロス９に代えて、複数の爪を備えたブラシ３１を用いる点で、図２の実施の形態と構成が相違する。本実施の形態では、一対の加圧ローラ７間に基材１とペースト５を供給して基材１の表面に中間層１１を形成し、一対の加圧ローラ７間を出て移動する中間層１１の移動面に、ブラシ３１の爪を連続的に押し付けて溝２５を形成するものである。

本実施の形態では、図２や図４の実施の形態のように、互いに交差するような溝２５を形成することはできないが、図４の場合と同様、メッシュクロス９やその供給設備などが不要となるため、設備費用の低減化を図ることができる。また、ブラシ３１の爪が摩耗したときなど、ブラシ３１の交換作業が容易になるから、作業性の向上を図ることができる。

次に、本発明について、具体例を用いて詳細に説明する。

［実施例１］
酸化チタン（石原産業製、比表面積１００ｍ^２／ｇ）１２００ｋｇ、シリカゾル（日産化学製、ＯＳゾル、ＳｉＯ^２として２０ｗｔ％含有）１２０ｋｇ、水をニーダに入れて６０分混練した後、シリカアルミナ系セラミックス繊維（ニチアス製）１８０ｋｇを徐々に添加しながら３０分間混練して水分３０％のペースト５を得た。

得られたぺースト５を、厚さ０.２ｍｍのＳＵＳ４３０製鋼板をメタルラス加工した厚さ０.７ｍｍの基材１の上に置き、これらを２枚のテフロン（登録商標）製メッシュクロス９（平織り、目開き１０００μｍ、糸径４００μｍ）間に挟んで、１対の加圧ローラ７間に通し、メタルラス基材の網目を埋めるように塗布して中間層１１を形成した。

これとは別に、酸化チタン粉末２０ｋｇ、モリブデン酸アンモニウム（（ＮＨ_４）^６・Ｍｏ_７Ｏ_２４・４Ｈ_２Ｏ）２.５ｋｇ、メタバナジン酸アンモニウム２.３３ｋｇに水を加えて混練したものを、直径３ｍｍの柱状に造粒後、流動層乾燥器で乾燥、５００℃で２時間焼成し、続いてハンマーミルで粉砕して１μｍ以下の粒子が５０％以上含まれる触媒粉末を得た。得られた触媒成分粉末５０ｇを、水：コロイダルシリカ（日産化学製ＯＳゾル）が１：２の水溶液１００ｇと混合して高Ｖ含有触媒成分のスラリ１３を得た。このスラリ１３中の触媒組成は、原子比で、Ｔｉ／Ｍｏ／Ｖ＝８８／５／７である。

上記の中間層を形成した直後の未だ中間層１１が湿っているうちに、中間層１１をスラリ１３中に含浸させて、液切りし、中間層１１の表面に薄い触媒層２３を形成した。その後、これを乾燥し、５００℃で２時間焼成して板状触媒２１を得た。このときの触媒層２３の担持量は、約１００ｇ／ｍ^２、厚みは、溝２５を除いて約５０μｍであった。

［実施例２−４］
実施例１のペースト５中の酸化チタンを、シリカ（ヒューズレックス、比表面積１６ｍ^２／ｇ、龍森）、珪藻土(ラジオライト♯１０００）、無水石膏（比表面積２４ｍ^２／ｇ、キシダ化学）にそれぞれ代えた以外は、実施例１と同様に板状触媒２１を得た。このときの触媒層２３の担持量は、いずれも約１００ｇ／ｍ^２、厚みは、溝２５を除いて約５０μｍであった。

［実施例５］
酸化チタン（石原産業製、比表面積１００ｍ^２／ｇ）１２００ｋｇ、三酸化モリブデン１７.９ｋｇ、メタバナジン酸アンモニウム８.７８ｋｇ、シリカゾル（日産化学製、ＯＳゾル、ＳｉＯ^２として２０ｗｔ％含有）１２２．５ｋｇ、水をニーダに入れて６０分混練した後、シリカアルミナ系セラミックス繊維（ニチアス）１８３.７ｋｇを徐々に添加しながら３０分間混練して水分３０％のペースト５を得た。

得られたぺースト５を、厚さ０.２ｍｍのＳＵＳ４３０製鋼板をメタルラス加工した厚さ０.７ｍｍの基材の上に置き、これらを２枚のテフロン（登録商標）製メッシュクロス（平織り、目開き１０００μｍ、糸径４００μｍ）間に挟んで、１対の加圧ローラ７を通して、メタルラス基材の網目を埋めるように塗布して中間層１１を得た。この中間層１１の組成は、原子比で、Ｔｉ／Ｍｏ／Ｖ＝１００／０.８３／０.５である。

これとは別に、酸化チタン粉末２０ｋｇ、モリブデン酸アンモニウム（（ＮＨ_４）^６・Ｍｏ_７Ｏ_２４・４Ｈ_２Ｏ）２.５ｋｇ、メタバナジン酸アンモニウム２.３３ｋｇに水を加えて混練したものを直径３ｍｍの柱状に造流後、流動層乾燥器で乾燥、５００℃で２時間焼成し、続いてハンマーミルで粉砕して１μｍ以下の粒子が５０％以上含まれる触媒粉末を得た。得られた触媒成分粉末５０ｇを、水：コロイダルシリカ（日産化学製ＯＳゾル）が１：２の水溶液１００ｇと混合して高Ｖ含有触媒成分のスラリ１３を得た。本スラリ１３中の触媒組成は、原子比で、Ｔｉ／Ｍｏ／Ｖ＝８８／５／７である。

上記の中間層１１を形成した直後の未だ中間層１１が湿っているうちに、中間層１１をスラリ１３中に含浸後、液切りして、中間層１１の表面に薄い触媒層２３を形成した。その後、これを乾燥し、さらに５００℃で２時間焼成して板状触媒２１を得た。このときの触媒層２３の担持量は、約１００ｇ／ｍ^２、厚みは、溝２５を除いて約５０μｍであった。

[比較例１]
実施例１において、２枚のテフロン（登録商標）製メッシュクロスを用いない以外は、実施例１と同様にして中間層を形成し、これに実施例１のスラリ１３を実施例１と同様に担持した後、乾燥、焼成して触媒を得た。このときの触媒層２３の担持量は、約６０ｇ／ｍ^２、厚みは、約５０μｍであった。

[比較例２]
実施例１において、メッシュクロス９を用いないで中間層１１を得た。
これとは別に、酸化チタン粉末２０ｋｇ、モリブデン酸アンモニウム（（ＮＨ_４）^６・Ｍｏ_７Ｏ_２４・４Ｈ_２Ｏ）２.５ｋｇ、メタバナジン酸アンモニウム２.３３ｋｇに水を加えて混練したものを直径３ｍｍの柱状に造粒後、流動層乾燥器で乾燥し、５００℃で２時間焼成し、続いてハンマーミルで粉砕して１μｍ以下の粒子が５０％以上の含まれる触媒粉末を得た。得られた触媒成分粉末５０ｇを、水：コロイダルシリカ（日産化学製ＯＳゾル）が１：２の水溶液７０ｇと混合して高Ｖ含有触媒成分のスラリ１３を得た。本スラリ中の触媒組成は、原子比で、Ｔｉ／Ｍｏ／Ｖ＝８８／５／７である。

上記中間層１１を形成した直後の未だ中間層１１が湿っているうちに、中間層１１をスラリ１３中に含浸後、液切りして、中間層１１の表面に触媒層２３を形成した。しかし、その後の乾燥段階で、触媒層２３がところどころ剥離した。触媒層２３の担持量は、約１５０ｍ^２／ｇであり、触媒層２３が担持された部分の厚みは、約８０μｍであった。

[比較例３]
実施例５の中間層１１に触媒層２３を担持しないで、乾燥、５００℃で２時間焼成して触媒を得た。

[実施例６]
実施例５のペースト５の原料である三酸化モリブデンを、当モルのメタタングステン酸アンモニウムに変えた以外は、実施例５と同様にして板状触媒２１を得た。このときの中間層１１の組成は、原子比で、Ｔｉ／Ｗ／Ｖ＝１００／０.８３／０.５、触媒層２３の担持量は、約１００ｍ^２／ｇ、触媒層２３が担持された部分の厚みは、溝２５を除いて約５０μｍであった。

[実施例７]
実施例１のスラリ１３の原料であるモリブデン酸アンモニウムを、当モルのメタタングステン酸アンモニウムに変えた以外は、実施例１と同様にして板状触媒２１を得た。このときの触媒層２３の組成は、原子比で、Ｔｉ／Ｗ／Ｖ＝８８／５／７、触媒層２３の担持量は、約１２０ｍ^２／ｇ、触媒層２３が担持された部分の厚みは、溝２５を除いて約５０μｍであった。

[試験例]
実施例１−６及び比較例１−３で得られた触媒の性能を評価するため、１０ｍｍ×１００ｍｍの短冊状のテストピースを切り出し、表１に示す条件で脱硝性能及びＨｇ酸化性能を、表２に示す条件でＳＯ_２酸化性能をそれぞれ測定した。また、実施例１−７及び比較例３、４の触媒の耐剥離性を評価するため、作成した１００ｍｍ×１００ｍｍ角のテストピースを高さ１ｍから鋼板上に１０回落としたときの触媒の剥離量を測定した。試験により得られた結果を表３に示す。

表３に示すように、各実施例の触媒は、いずれも各比較例の触媒とほぼ同等のＳＯ_２酸化率であるにもかかわらず、脱硝率及びＨｇ酸化率が比較例１よりも高く、触媒剥離量が格段に少なくなっている。したがって、本実施例の板状触媒を用いれば、優れた触媒活性（脱硝活性）を発揮することができ、しかも、触媒活性を長く維持することができる。

１基材
３ロール
５ペースト
７，２９加圧ローラ
９メッシュクロス
１１中間層
１３スラリ
１５プレス成形機
１７切断機
１９エレメント
２１板状触媒
２３触媒層
２５溝
２７凸部
３１ブラシ

Claims

帯状に形成された基材上に酸化チタンを含有する触媒成分を塗布する板状触媒の製造方法において、
前記基材と、前記触媒成分の担体となる酸化物に水を加えて得られるペーストとを一対の加圧ローラ間に供給して前記基材の表面に前記酸化物を含む中間層を形成し、この中間層の前記基材と反対側の面に複数の溝を形成する第１の工程と、前記中間層の前記基材と反対側の面及び前記溝に、前記触媒成分を付着させて触媒層を形成する第２の工程とを含むことを特徴とする板状触媒の製造方法。
前記第１の工程は、２枚のメッシュクロス間に前記基材と前記ペーストとを介在させて、この２枚のメッシュクロスを前記一対の加圧ローラ間に供給し、前記基材の表面に形成される前記中間層に前記メッシュクロスを押し付けることを特徴とする請求項１に記載の板状触媒の製造方法。
前記第１の工程は、表面に凸部を有する前記一対のローラ間に前記基材と前記ペーストとを供給し、前記基材の表面に形成される前記中間層に前記凸部を押し付けることを特徴とする請求項１に記載の板状触媒の製造方法。
前記第１の工程は、前記一対のローラ間を通過して形成された前記中間層の移動面に、複数の突起を連続的に押し付けることを特徴とする請求項１に記載の板状触媒の製造方法。
前記酸化物は、酸化チタン、二酸化珪素のうち少なくとも一方を含んでなる請求項１乃至４のいずれかに記載の板状触媒の製造方法。