JP5992256B2 - ウェーハの分割方法 - Google Patents
ウェーハの分割方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5992256B2 JP5992256B2 JP2012185126A JP2012185126A JP5992256B2 JP 5992256 B2 JP5992256 B2 JP 5992256B2 JP 2012185126 A JP2012185126 A JP 2012185126A JP 2012185126 A JP2012185126 A JP 2012185126A JP 5992256 B2 JP5992256 B2 JP 5992256B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- resin
- dividing
- protective tape
- along
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
2 樹脂塗布装置
3 紫外光照射装置
4 ブレーキング装置
11 保持テーブル(保持手段)
12 加工ヘッド
21 ノズル
31 保持テーブル
32 紫外光源
41,41a,41b 支持刃
42 押圧刃(押圧手段)
43 カメラ
A 改質層(分割起点領域)
F フレーム
C チップ
D デバイス
R 樹脂
T 保護テープ
UV 紫外光
W ウェーハ
W1 表面
W2 裏面
W3 外周
Claims (1)
- 表面に分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウェーハを該分割予定ラインに沿って分割するウェーハの分割方法であって、
該表面側に保護テープを貼着する保護テープ貼着工程と、
該保護テープ貼着工程を実施した後に、該保護テープを保持手段に保持しウェーハの裏面から該分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射し分割する起点となる分割起点領域を形成するレーザー光線照射工程と、
該レーザー光線照射工程を実施した後に、ウェーハの露呈する裏面側から、外部刺激を与えることにより硬化する液状樹脂を供給しウェーハの外周全周に渡って該樹脂が該保護テープに至りウェーハ全体が該樹脂に埋没するまで樹脂を塗布し、該樹脂に外部刺激を与えて硬化させウェーハを樹脂で被覆する樹脂被覆工程と、
樹脂被覆工程の後に、押圧手段により該樹脂側から押圧することにより該分割予定ラインに沿って外力を付与しウェーハを該分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割する分割工程と、
該分割工程を実施した後に、ウェーハから該樹脂を剥離する樹脂除去工程と、
を備えるウェーハの分割方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012185126A JP5992256B2 (ja) | 2012-08-24 | 2012-08-24 | ウェーハの分割方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012185126A JP5992256B2 (ja) | 2012-08-24 | 2012-08-24 | ウェーハの分割方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014044995A JP2014044995A (ja) | 2014-03-13 |
JP5992256B2 true JP5992256B2 (ja) | 2016-09-14 |
Family
ID=50396085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012185126A Active JP5992256B2 (ja) | 2012-08-24 | 2012-08-24 | ウェーハの分割方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5992256B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017112268A (ja) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01228143A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエーハの分割方法 |
JP4409840B2 (ja) * | 2002-03-12 | 2010-02-03 | 浜松ホトニクス株式会社 | 加工対象物切断方法 |
JP2007266557A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
2012
- 2012-08-24 JP JP2012185126A patent/JP5992256B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014044995A (ja) | 2014-03-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6121116B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP6327532B2 (ja) | ウェハ分割方法 | |
JP7205810B2 (ja) | ウェハを処理する方法 | |
KR102210284B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
JP6325279B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP7056844B2 (ja) | ウェハの処理方法 | |
US9905453B2 (en) | Protective sheeting for use in processing a semiconductor-sized wafer and semiconductor-sized wafer processing method | |
JP6308632B2 (ja) | ウェハを分割する方法 | |
JP6067348B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
KR20130130834A (ko) | 웨이퍼 레벨 싱귤레이션 방법 및 시스템 | |
US10199253B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor devices through peeling using UV-ray | |
JP5992256B2 (ja) | ウェーハの分割方法 | |
JP2014096422A (ja) | 基板支持部材、基板処理装置、基板支持部材の製造方法、及び基板処理方法 | |
JP6057616B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP6233936B2 (ja) | ウェハをダイに分割する方法 | |
JP6624992B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP7241580B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6125170B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP5918639B2 (ja) | ウェーハの処理方法 | |
JP5559623B2 (ja) | 分割方法 | |
JP2014060290A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP7334063B2 (ja) | モールドチップの製造方法 | |
JP7106210B2 (ja) | 被加工物の加工方法 | |
US20220392762A1 (en) | Wafer processing method | |
JP2009289809A (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150724 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160713 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160719 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160817 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5992256 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |