JP5987251B2 - 半導体レーザー - Google Patents
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Description
また、従来の光導波路デバイスは、DFBレーザ領域が導波路幅の狭い単一モード導波路であり、SOA領域及び分離領域からなるMMI導波路のうち分離領域に活性層を有しないため、電流を注入する面積が狭く、半導体レーザーの高出力化が実現できないという課題がある。
We=W1+(λ0/π)(nc/nr)2σ(nr 2−nc 2)-1/2
Lπ=4nrWe 2/3λ0 ・・・(1)
LMMI=(3/4N)Lπ(Nは正の整数) ・・・(2)
LMMI=(3/N)Lπ(Nは正の整数) ・・・(3)
LMMI=Lπ ・・・(4)
まず、通常のn−InP基板10上に、MOVPE(Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy:有機金属気相成長)法を用いて、n−InP膜21、InGaAsP/InGaAsP−1.55μm帯膜22、i−InP膜23、p−InP膜24、p−InGaAs膜25を順番に堆積し、積層を形成する(図4(a))。
また、本実施形態に係る製造方法においては、フォトリソグラフィ法にステッパを用いているが、必ずしもこれに限られるわけではなく、例えば、電子ビーム露光装置であっても適用可能である。
なお、本実施形態に係る半導体レーザー100においては、半導体レーザーの効率の指標である量子効率で評価すると、通常の半導体レーザーと同等の量子効率が得られていた。
d0=We/6 ・・・(5)
すなわち、基準偏心量d0は、多モード光干渉導波路3の実効導波路幅Weの1/6倍であり、偏心量dの最適な範囲(許容範囲)は、多モード光干渉導波路3の実効導波路幅Weの1/6を基準として、±0.3μm以内である。
なお、多モード光干渉導波路3の導波路長LMMIは、例えば、主干渉光(基本モード光)の波長λを850nmとした場合に、主干渉光(基本モード光)の波長λが1550nmである場合の導波路長LMMIの約1.82(=1550nm/850nm)倍になる。
図9(a)は第2の実施形態に係る半導体レーザーの概略構成の一例を示す平面図であり、図9(b)は図9(a)に示す半導体レーザーの矢視C−C’線の断面図であり、図9(c)は図9(a)に示す半導体レーザーの矢視C−C’線の他の断面図である。図9において、図1乃至図8と同じ符号は、同一または相当部分を示し、その説明を省略する。
なお、この半導体レーザー100の製造方法は、埋め込み層16を形成し(図5(b))、コンタクト層15の直上にあるマスク26を、有機溶剤及びアッシング法により除去する(図1(b)、図1(c))までは、第1の実施形態に係る半導体レーザー100の製造方法と同様であるので、説明を省略する。
そして、PN接合間に順バイアスを加えるための外部電極となる図示しないTi/Pt/Au層を、コンタクト層15上に電子ビーム蒸着法で形成する。
最後に、前方端面に低反射防止膜を形成し、後方端面に高反射膜を形成して、半導体レーザー100素子の製造を終了する。
図10(a)は第3の実施形態に係る3×1型多モード光干渉導波路を備える半導体レーザーの概略構成の一例を示す平面図であり、図10(b)は第3の実施形態に係る3×1型多モード光干渉導波路を備える半導体レーザーの概略構成の他の例を示す平面図である。図11(a)は第3の実施形態に係る4×1型多モード光干渉導波路を備える半導体レーザーの概略構成の一例を示す平面図であり、図11(b)は第3の実施形態に係る4×1型多モード光干渉導波路を備える半導体レーザーの概略構成の他の例を示す平面図である。図12(a)は図10(b)及び図11(b)に示す半導体レーザーの矢視D−D’線の断面図であり、図12(b)は図10(b)及び図11(b)に示す半導体レーザーの矢視E−E’線の断面図であり、図12(c)は図10(b)及び図11(b)に示す半導体レーザーの矢視F−F’線の断面図である。図13(a)は図10(a)に示す3×1型多モード光干渉導波路の導波路長をビート長の1/3倍にした場合における主干渉光波長λが1550nmの基本モード光の光強度をシミュレーションした光フィールドを示す説明図であり、図13(b)は図11(a)に示す4×1型多モード光干渉導波路の導波路長をビート長の1/4倍にした場合における主干渉光波長λが1550nmの基本モード光の光強度をシミュレーションした光フィールドを示す説明図である。図14は第3の実施形態に係る半導体レーザーの製造方法を説明するための図12(c)に対応する断面図である。図15は図14に示す半導体レーザーの製造方法の続きを説明するための断面図である。図10乃至図15において、図1乃至図9と同じ符号は、同一または相当部分を示し、その説明を省略する。なお、図12(c)、図14及び図15に示す断面図は、後方狭幅導波路1における導波方向に沿った断面図であり、図12(a)及び図12(b)に示す断面図は、前方狭幅導波路2及び多モード光干渉導波路3における導波方向に垂直な断面図であり、矢視線の方向が異なる。
例えば、図10に示すように、Mを3とする3×1型多モード光干渉導波路3であってもよいし、図11に示すように、Mを4とする4×1型多モード光干渉導波路3であってもよい。
3×1型多モード光干渉導波路3の前方ポート3bは、第1の実施形態において前述したように、中心線X2と3×1型多モード光干渉導波路3の中心線X0との間隔がWe/6となるように偏心して配設される。
また、第1の後方ポート101a及び第2の後方ポート102aは、第1の中心線X1a及び第2の中心線X1bが第1の基準線X3に対してWe/(3M)(但し、M=3)だけそれぞれ偏心し、第1の中心線X1a及び第2の中心線X1b間の間隔が2We/(3M)(但し、M=3)となるように偏心して、それぞれ配設される。
LMMI=Lπ/M(Mは正の整数) ・・・(6)
このため、3×1型多モード光干渉導波路3を備える半導体レーザー100は、第2の後方ポート102aに入射される光の位相を基準(0[rad])として、第1の後方ポート101aに入射される光の位相をπ/3[rad]ずらし、第3の後方ポート103aに入射される光の位相を−π/3[rad]ずらすように、後方狭幅導波路1を位相整合導波路として機能させる。
なお、この半導体レーザー100の製造方法は、埋め込み層16を形成し(図5(b))、コンタクト層15の直上にあるマスク26を、有機溶剤及びアッシング法により除去する(図1(b)、図1(c))までは、第1の実施形態に係る半導体レーザー100の製造方法と同様であるので、説明を省略する。
最後に、前方端面に低反射防止膜を形成し、後方端面に高反射膜を形成して、半導体レーザー100素子の製造を終了する。
4×1型多モード光干渉導波路3の前方ポート3bは、第1の実施形態において前述したように、中心線X2と4×1型多モード光干渉導波路3の中心線X0との間隔がWe/6となるように偏心して配設される。
また、第1の後方ポート101a及び第2の後方ポート102aは、第1の中心線X1a及び第2の中心線X1bが第1の基準線X3に対してWe/(3M)(但し、M=4)だけそれぞれ偏心し、第1の中心線X1a及び第2の中心線X1b間の間隔が2We/(3M)(但し、M=4)となるように偏心して、それぞれ配設される。
また、第3の後方ポート103a及び第4の後方ポート104aは、第3の中心線X1c及び第4の中心線X1dが第2の基準線X4に対してWe/(3M)(但し、M=4)だけそれぞれ偏心し、第3の中心線X1c及び第4の中心線X1d間の間隔が2We/(3M)(但し、M=4)となるように偏心して、それぞれ配設される。
このため、4×1型多モード光干渉導波路3を備える半導体レーザー100は、第2の後方ポート102a及び第3の後方ポート103aに入射される光の位相を基準(0[rad])として、第1の後方ポート101aに入射される光の位相をπ/4[rad]ずらし、第4の後方ポート104aに入射される光の位相を−π/4[rad]ずらすように、後方狭幅導波路1を位相整合導波路として機能させる。
図16(a)は第4の実施形態に係る3×1型多モード光干渉導波路を備える半導体レーザーの概略構成の一例を示す平面図であり、図16(b)は第4の実施形態に係る4×1型多モード光干渉導波路を備える半導体レーザーの概略構成の一例を示す平面図である。図17(a)は図16(a)に示す3×1型多モード光干渉導波路の導波路長をビート長に一致させた場合における主干渉光波長λが1550nmの基本モード光の光強度をシミュレーションした光フィールドを示す説明図であり、図17(b)は図16(b)に示す4×1型多モード光干渉導波路の導波路長をビート長の3/4倍にした場合における主干渉光波長λが1550nmの基本モード光の光強度をシミュレーションした光フィールドを示す説明図である。図16及び図17において、図1乃至図15と同じ符号は、同一または相当部分を示し、その説明を省略する。
3×1型多モード光干渉導波路3の前方ポート3bは、中心線X2と3×1型多モード光干渉導波路3の中心線X0との間隔がWe/3となるように偏心して配設される。
また、第1の後方ポート101a及び第3の後方ポート103aは、第1の中心線X1a及び第3の中心線X1cが3×1型多モード光干渉導波路3の中心線X0に対してWe/3だけそれぞれ偏心して配設される。特に、第1の後方ポート101aの第1の中心線X1aは、前方ポート3bの中心線X2と一致する。
LMMI=3×Lπ/M(Mは正の整数) ・・・(7)
4×1型多モード光干渉導波路3の前方ポート3bは、中心線X2と4×1型多モード光干渉導波路3の中心線X0との間隔が3We/8となるように偏心して配設される。
このため、半導体レーザー100としては、素子の小型化を図るうえで、複数の後方ポート3aが非対称(不均等)に配設されたM×1型多モード光干渉導波路3であることが好ましい。
1a 第1の後方狭幅導波路
1b 第2の後方狭幅導波路
1c 第3の後方狭幅導波路
1d 第4の後方狭幅導波路
2 前方狭幅導波路
3 M×N型多モード光干渉導波路,1×1型多モード光干渉導波路
3a 後方ポート
3b 前方ポート
4 仮想面
4a 結像点
4b 非結像領域
5 光吸収部
5a 凹部
5b 電気的分離溝
6a 位相調整領域
6b 導波路領域
10 基板,基板層
10a 一端面
10b 他端面
10c エッチング底面
11 バッファ層
12 発光層
13 第1のクラッド層
14 第2のクラッド層
15 コンタクト層
16 埋め込み層
21 n−InP膜
22 InGaAsP/InGaAsP−1.55μm帯膜
23 i−InP膜
24 p−InP膜
25 p−InGaAs膜
26 マスク
100 半導体レーザー
101a 第1の後方ポート
102a 第2の後方ポート
103a 第3の後方ポート
104a 第4の後方ポート
Claims (7)
- 一の前方ポート及び一又は複数の後方ポートが配設され、平面視における全領域に活性層を有する多モード光干渉導波路と、
前記前方ポート及び後方ポートにそれぞれ接続される狭幅光導波路と、
を備え、
前記前方ポートが、前記多モード光干渉導波路の導波方向に対して垂直な前記活性層における基本モード光が結像する結像点に対応し、平面視における前記多モード光干渉導波路の導波方向に沿う中心線から偏心して配設されることを特徴とする半導体レーザー。 - 前記請求項1に記載の半導体レーザーにおいて、
前記多モード光干渉導波路の中心線に対する前記前方ポートの中心線の偏心量が、前記多モード光干渉導波路の実効導波路幅の1/6を基準として、±0.3μm以内であることを特徴とする半導体レーザー。 - 前記請求項1又は2に記載の半導体レーザーにおいて、
前記多モード光干渉導波路の層構造が、ハイメサ構造であることを特徴とする半導体レーザー。 - 前記請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体レーザーにおいて、
前記後方ポートが、平面視における前記多モード光干渉導波路の導波方向に沿う中心線から偏心して配設され、平面視における前記前方ポートの中心線から偏心して配設されることを特徴とする半導体レーザー。 - 前記請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体レーザーにおいて、
前記狭幅光導波路が、高次モード光を遮断するシングルモード導波路であることを特徴とする半導体レーザー。 - 前記請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体レーザーにおいて、
前記狭幅光導波路が、2次モード光を遮断する2次モードカットオフ導波路であることを特徴とする半導体レーザー。 - 前記請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体レーザーにおいて、
前記多モード光干渉導波路の導波方向に対して垂直な前記活性層における基本モード光が結像する結像点を含む仮想面のうち当該結像点を除く非結像領域に、高次モード光を吸収する光吸収部を備えることを特徴とする半導体レーザー。
Applications Claiming Priority (3)
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