JP5976328B2 - ピストンリング - Google Patents
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Description
母材1としては、摺動部材10の母材として用いられている各種のものを挙げることができ、特に限定されない。例えば、ステンレススチール鋼としては、質量%にて、C:0.8〜0.95、Si:0.5以下、Mn:0.25〜0.40、Cr:17.00〜18.50、Mo:1.00〜1.25、V:0.08〜0.15、P:0.04以下、S:0.04以下、残部Fe及び不可避不純物、又は、C:0.6〜0.7、Si:0.25〜0.50、Mn:0.20〜0.50、Cr:13.00〜14.00、Mo:0.20〜0.40、P:0.03以下、S:0.03以下、残部Fe及び不可避不純物を用いることが好ましい。また、鋼材としては、C:0.5〜0.6、Si:1.2〜1.6、Mn:0.5〜0.8、Cr:0.5〜0.8、P:0.03以下、S:0.03以下、残部Fe及び不可避不純物を用いることが好ましい。また、母材1に予め窒化処理を施して窒化層(図示しない)が形成されているものや、母材1に予め皮膜(下記同様のCr−N系、Cr−B−N系等)が形成されているものも、母材1として適用できる。
耐摩耗性皮膜3は、摺動部材1の摺動面である最表面に設けられた皮膜であり、後述する下地層2上に設けられている。この耐摩耗性皮膜3は、図1及び図3(A)に示すように、後述する下地層2上に設けられていてもよいし、図3(B)に示すように、下地層2上に他の層4を介して設けられていてもよい。なお、摺動部材1がピストンリング15である場合には、図4に示すように、耐摩耗性皮膜3は、ピストンリング15の少なくとも外周摺動面11に形成されるが、その他の面、例えば上面12、下面13、内周面14にも任意に形成できる。例えば、図4(A)に示すように外周摺動面11のみに形成する場合、図4(B)に示すように外周摺動面11、上面12及び下面13に形成する場合、図示しないが外周摺動面11、上面12、下面13及び内周面14の全周に形成する場合等を挙げることができる。
下地層2は、図1に示すように、母材1と耐摩耗性皮膜3との間に形成されている。この下地層2を設けることにより、耐摩耗性皮膜3のクラックの発生を抑制することができる。下地層2は、下記式2を満たすことを条件にして、各種の層の中から選ばれる。
中間層4は、図3に示すように、本発明の趣旨を阻害しないことを条件に、摺動部材1の摺動面に任意に設けることができる。例えば、図3(A)に示すように、母材1と下地層2との間に設けてもよいし、図3(B)に示すように、下地層2と耐摩耗性皮膜3との間に設けてもよい。
C:0.85質量%、Si:0.4質量%、Mn:0.3質量%、Cr:17.5質量%、Mo:1.1質量%、V:0.1質量%、P:0.02質量%、S:0.02質量%、残部:鉄及び不可避不純物からなるSUS440B相当(17Crステンレス鋼)製で、予めガス窒化処理してなる母材1を使用した。この母材1上に、下地層2として、厚さ5μmのCr−B−N系合金のポーラスな柱状晶を形成した。このCr−B−N系合金皮膜は、アークイオンプレーティング装置を用い、クロム−ボロン合金ターゲットを使用し、窒素ガスをパージしたチャンバー内で、バイアス電圧を変化させる等して形成した。この下地層2の組成をEPMAで定量分析したところ、Bが1.1質量%、Nが34.3質量%、残部がCrであった。
実施例1と同じ母材1の外周摺動面11に、下地層2として、厚さ5μmのCr−N系皮膜を形成した。このCr−N系皮膜は、アークイオンプレーティング装置で形成した。この下地層2の組成をEPMAで定量分析したところ、Nが33.0質量%、残部がCrであった。
実施例1において、下地層2の厚さを5μmに変更し、耐摩耗性皮膜3の厚さを10μmに変更した他は、実施例1と同様にして実施例3の摺動部材1を作製した。
実施例2において、下地層2の厚さを5μmに変更し、耐摩耗性皮膜3の厚さを10μmに変更した他は、実施例2と同様にして実施例4の摺動部材1を作製した。
実施例1において、下地層2を設けないで、母材1上に厚さ10μmの耐摩耗性皮膜3を形成した他は、実施例1と同様にして、比較例1の摺動部材を作製した。こうして得られた摺動部材を断面研磨し、各部のヤング率とビッカース硬度を測定数n=5にて測定し、その平均値を求めた。母材1は、ヤング率が207GPa、ビッカース硬度が1100HV(0.05)であり、耐摩耗性皮膜3は、ヤング率が268GPa、ビッカース硬度が1800HV(0.05)であった。
実施例2において、下地層2を設けないで、母材1上に厚さ10μmの耐摩耗性皮膜3を形成した他は、実施例2と同様にして、比較例2の摺動部材を作製した。こうして得られた摺動部材を断面研磨し、各部のヤング率とビッカース硬度を測定数n=5にて測定し、その平均値を求めた。母材1は、ヤング率が207GPa、ビッカース硬度が1100HV(0.05)であり、耐摩耗性皮膜3は、ヤング率が241GPa、ビッカース硬度が1600HV(0.05)であった。
実施例1において、下地層2の厚さを13μmに変更し、耐摩耗性皮膜3の厚さを2μmに変更した他は、実施例1と同様にして比較例3の摺動部材を作製した。
実施例2において、下地層2の厚さを13μmに変更し、耐摩耗性皮膜3の厚さを2μmに変更した他は、実施例2と同様にして比較例4の摺動部材を作製した。
実施例1において、下地層2の厚さを1μmに変更し、耐摩耗性皮膜3の厚さを15μmに変更した他は、実施例1と同様にして比較例5の摺動部材を作製した。
実施例2において、下地層2の厚さを1μmに変更し、耐摩耗性皮膜3の厚さを15μmに変更した他は、実施例2と同様にして比較例6の摺動部材を作製した。
スクラッチ試験では、皮膜剥離が発生する限界荷重を求めて、剥離耐性を表すスクラッチ指数(耐剥離指数)を評価した。スクラッチ試験は、皮膜が形成された摺動面に対して平行(水平)に加わる力に対する試験方法であり、図6に示すスクラッチ試験装置20を使用して実施した。図6に示すスクラッチ試験装置20は、テーブル22上に載せた試料23(20mm×10mm×厚さ5mm)上から圧子21を押し当て、その状態で試料23を移動させ、そのときにAE(アコースティックエミッション)検出器24で検知するための装置である。ここでは、荷重負荷速度(100N/分)、テーブル速度(10mm/分)、AE感度(1.2)、圧子先端(R0.2mm)、の条件で測定した。評価は、スクラッチ試験によるAE発生を検知した時の荷重を剥離荷重(スクラッチ荷重)とした。
摩耗試験は、図7に示すアムスラー型摩耗試験機30を使用し、上記実施例1〜4及び比較例1〜6で得られた摺動部材1と同じ条件で得た供試材31(7mm×8mm×5mm)を固定片とし、相手材32(回転片)にはドーナツ状(外径40mm、内径16mm、厚さ10mm)のものを用い、供試材31と相手材32を接触させ、荷重Pを負荷して行った。各供試材31を用いた摩耗試験条件は、潤滑油23:クリセフH8(1号スピンドル油相当品)、油温:80℃、周速:1m/秒(478rpm)、荷重:1471.5N、試験時間:7時間の条件下で、ボロン鋳鉄を相手材32として行った。このボロン鋳鉄からなる相手材32は、所定形状に研削加工した後、研削砥石の細かさを変えて順次表面研削を行い、最終的に2μmRz(十点平均粗さ。JIS B 0601(1994)に準拠。)となるように調整した。評価は、試験前後の摩耗量で行った。
スカッフ試験も、上記の摩耗試験で使用したアムスラー型摩耗試験機30と、上記同様の供試材31を用い、その供試材に潤滑油を付着させ、スカッフ発生まで荷重(スカッフ発生荷重)を負荷させて行った。供試材としては、上記の摩耗試験で用いた供試材を用いてスカッフ試験を行い、耐スカッフ性の評価を行った。試験条件は、潤滑油:クリセフH8(1号スピンドル油相当品)、周速:1m/秒(478rpm)の条件下で、ボロン鋳鉄を相手材として行った。このボロン鋳鉄も上述の方法により最終的に2μmRzとなるように調整した。
ヤング率は、ナノインデンテーション法により測定した。測定荷重1mN〜100mNの範囲で負荷−除荷曲線を測定してヤング率を算出した。硬さ測定は、微小ビッカース硬さ試験機(株式会社アカシ製)を用いて測定した。厚さは、断面観察から算出した。なお、図5(A)は実施例1の摺動面の断面写真であり、図5(B)は比較例1の摺動面の断面写真であり、図5(C)は実施例1の摺動面のクラック非発生形態であり、図5(D)は比較例1の摺動面のクラック発生形態である。
2 下地層
3 耐摩耗性皮膜
4 中間層
10,10A,10B 摺動部材
11 外周摺動面
12 上面
13 下面
14 内周面
15,15A,15B ピストンリング
20 スクラッチ試験器
21 圧子
22 テーブル
23 試験片
24 AE検出器
30 回転式平面滑り摩擦試験機
31 試験片
32 相手材
33 潤滑油
P 荷重
Claims (2)
- 母材と、該母材上に設けられた下地層と、該下地層上に設けられた耐摩耗性皮膜とを有するピストンリングであって、
前記母材がステンレススチール鋼又は鋼材であり、
前記下地層及び前記耐摩耗性皮膜がCr−B−N系合金皮膜であり、
前記耐摩耗性皮膜が、220GPa以上300GPa以下のヤング率と、1000HV(0.05)以上2000HV(0.05)以下のビッカース硬度とを有し、
前記耐摩耗性皮膜の厚さT1と前記下地層の厚さT2とが下記式1の関係を満たし、且つ前記下地層のヤング率が下記式2の関係を満たすことを特徴とするピストンリング。
- 前記耐摩耗性皮膜の厚さT1が、0.5μm以上40μm以下である、請求項1に記載のピストンリング。
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