JP5972656B2 - 磁気共鳴イメージング装置 - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、磁気共鳴イメージング装置に関する。
従来、磁気共鳴イメージング装置において、真空空間に傾斜磁場コイル全体を配置することで、傾斜磁場コイルの振動による騒音を低減させる静音化技術が知られている。かかる静音化技術では、例えば、円筒状に形成された静磁場磁石及びボアチューブそれぞれの側端に密閉カバーを固定することで、静磁場磁石とボアチューブとの間に配置された傾斜磁場コイルの周囲に密閉容器が形成される。そして、この密閉容器内の空気を真空ポンプで排出することで、傾斜磁場コイルの周囲に真空空間が形成される。しかしながら、上述した従来技術においては、静音性能に一定の限界があった。
特開平10−118043号公報
本発明が解決しようとする課題は、静音性能を向上させることができる磁気共鳴イメージング装置を提供することである。
実施形態の磁気共鳴イメージング装置は、静磁場磁石と、傾斜磁場コイルと、ボアチューブと、第1の弾性体と、調整手段とを備える。静磁場磁石は、略円筒状に形成され、円筒内の空間に静磁場を発生させる。傾斜磁場コイルは、略円筒状に形成され、前記静磁場磁石の円筒内に配置されて前記静磁場に傾斜磁場を付加する。ボアチューブは、略円筒状に形成され、前記傾斜磁場コイルの円筒内に配置される。第1の弾性体は、円環状かつ中空であり、前記静磁場磁石の内周側と前記傾斜磁場コイルの外周側との間隙、及び、前記傾斜磁場コイルの内周側と前記ボアチューブの外周側との間隙のうち少なくとも一方に配置され、前記間隙を密閉する。調整手段は、前記弾性体の中空内の圧力を動的に調整する。
図1は、第1の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の全体構成を示す図である。 図2Aは、従来技術に係る課題を説明するための第1の図である。 図2Bは、従来技術に係る課題を説明するための第2の図である。 図3Aは、第1の実施形態に係る静磁場磁石、傾斜磁場コイル及びボアチューブの構造を示す断面図である。 図3Bは、第1の実施形態に係る傾斜磁場コイル及びボアチューブの斜視図である。 図4Aは、第1の実施形態に係る傾斜磁場コイルの側端近傍の形状を示す第1の断面図である。 図4Bは、第1の実施形態に係る傾斜磁場コイルの側端近傍の形状を示す第2の断面図である。 図5は、第1の実施形態に係る静磁場磁石、傾斜磁場コイル及びボアチューブの側端近傍の構造を示す断面図である。 図6Aは、第1の実施形態に係る弾性体の中空の構造の一例を示す断面図である。 図6Bは、第1の実施形態に係る弾性体の中空の構造の一例を示す断面図である。 図6Cは、第1の実施形態に係る弾性体の中空の構造の一例を示す断面図である。 図6Dは、第1の実施形態に係る弾性体の中空の構造の一例を示す断面図である。 図6Eは、第1の実施形態に係る弾性体の構造の一例を示す断面図である。 図6Fは、第1の実施形態に係る弾性体の構造の一例を示す断面図である。 図7は、第1の実施形態に係る弾性体による支持構造の一例を示す断面図である。 図8は、第2の実施形態に係る静磁場磁石、傾斜磁場コイル及びボアチューブの構造を示す断面図である。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置100の全体構成を示す図である。なお、以下では、磁気共鳴イメージング装置をMRI(Magnetic Resonance Imaging)装置と呼ぶ。
図1に示すように、MRI装置100は、静磁場磁石1と、傾斜磁場コイル2と、RFコイル3と、天板4と、傾斜磁場電源5と、送信部6と、受信部7と、シーケンス制御装置8と、計算機システム9とを有する。
静磁場磁石1は、略円筒状に形成され、円筒内の空間に静磁場を発生させる。例えば、静磁場磁石1は、略円筒形状の真空容器1aと、真空容器1aの中で冷却液に浸漬された超伝導コイル1bとを有し、撮像領域であるボア(静磁場磁石1の円筒内の空間)内に静磁場を発生させる。
傾斜磁場コイル2は、略円筒状に形成され、静磁場磁石1の円筒内に配置されて静磁場に傾斜磁場を付加する。例えば、傾斜磁場コイル2は、メインコイル2aとシールドコイル2bとを有するASGC(Active Shield Gradient Coil)である。メインコイル2aは、傾斜磁場電源5から供給される電流によりX軸,Y軸,Z軸の方向に傾斜磁場を印加する。シールドコイル2bは、メインコイル2aの漏洩磁場をキャンセルする磁場を発生させる。
ここで、メインコイル2aとシールドコイル2bとの間には、シムトレイ挿入ガイド2cが形成されている。このシムトレイ挿入ガイド2cには、ボア内の磁場不均一を補正するための鉄シム2eを収納したシムトレイ2dが挿入される。なお、図1に示す傾斜磁場コイル2は、あくまでも一例であり、これに限られるものではない。
RFコイル3は、傾斜磁場コイル2の内側に、被検体Pを挟んで対向するように固定されている。このRFコイル3は、送信部6から送信されるRFパルスを被検体Pに照射し、また、水素原子核の励起によって被検体Pから放出される磁気共鳴信号を受信する。
天板4は、図示していない寝台に水平方向へ移動可能に設けられており、撮影時には被検体Pが載置されてボア内へ移動される。傾斜磁場電源5は、シーケンス制御装置8からの指示に基づいて、傾斜磁場コイル2に電流を供給する。
送信部6は、シーケンス制御装置8からの指示に基づいて、RFコイル3にRFパルスを送信する。受信部7は、RFコイル3によって受信された磁気共鳴信号を検出し、検出した磁気共鳴信号をデジタル化して得られる生データをシーケンス制御装置8に対して送信する。なお、受信部7は、静磁場磁石1や傾斜磁場コイル2などを備える架台装置側に備えられていてもよい。
シーケンス制御装置8は、計算機システム9による制御のもと、傾斜磁場電源5、送信部6及び受信部7をそれぞれ駆動することによって被検体Pの撮像を行う。そして、シーケンス制御装置8は、撮像を行った結果、受信部7から生データが送信されると、その生データを計算機システム9に送信する。
計算機システム9は、MRI装置100全体を制御する。具体的には、この計算機システム9は、操作者から各種入力を受け付ける入力部や、操作者から入力される撮像条件に基づいてシーケンス制御装置8に撮像を実行させるシーケンス制御部、シーケンス制御装置8から送信された生データに基づいて画像を再構成する画像再構成部、再構成された画像などを記憶する記憶部、再構成された画像など各種情報を表示する表示部、操作者からの指示に基づいて各機能部の動作を制御する主制御部などを有する。
以上、第1の実施形態に係るMRI装置100の全体構成について説明した。第1の実施形態に係るMRI装置100は、以下、詳細に説明する構成により、従来技術において一定の限界があった静音性能を向上させることを可能にする。ここで、まず、従来技術における静音性能について説明する。上述したように、従来技術においては、真空空間に傾斜磁場コイル全体を配置することで、傾斜磁場コイルの振動による騒音を低減させる静音化技術が知られている。
図2Aは、従来技術に係る課題を説明するための第1の図である。図2Aにおいては、静磁場磁石1、傾斜磁場コイル2、及び、図1では図示を省略したボアチューブ10の断面図を示す。ここで、図2Aは、傾斜磁場コイル2についてはシムトレイ挿入ガイドがある位置の断面を示し、静磁場磁石1については、外側の枠体のみを示す。
図2Aに示すように、傾斜磁場コイル2の円筒内には、ボアチューブ10が配置される。ボアチューブ10は、略円筒状に形成され、円筒内に被検体が置かれる空間を形成する。また、ボアチューブ10は、円筒内に置かれた被検体が傾斜磁場コイル2に接触することを防ぐ。また、図2Aに示すように、一方の端部が静磁場磁石1に固定され、他方の端部がボアチューブ10を支持するボアチューブ支持部11が設けられる。
従来技術においては、傾斜磁場コイル2は、例えば、図2Aに示すように、静磁場磁石1の内周面に設けられた傾斜磁場コイル支持部200により、静磁場磁石1の内周面から所定の高さだけ離れた位置に保持されるように支持される。そして、従来技術においては、例えば、図2Aに示すように、円筒状に形成された静磁場磁石1及びボアチューブ10の両端を端板210によって固定することで、静磁場磁石1の内周側とボアチューブ10の外周側との間に配置された傾斜磁場コイル2の周囲に密閉容器が形成される。そして、この密閉容器内の空気を図示しない真空ポンプで排出することで、傾斜磁場コイル2の周囲に真空空間220が形成される。
これにより、従来技術においては、傾斜磁場コイル2の振動によって発生する騒音の空気伝播を無くすことができ、検査時の騒音を低減することができるというものである。しかしながら、従来技術においては、騒音の空気伝播を無くすことはできるが、騒音の固体伝播を無くすことができない。具体的には、傾斜磁場コイル2が配置された密閉容器自体が振動の固体伝播の媒体となってしまい、騒音を低減することができない。図2Bは、従来技術に係る課題を説明するための第2の図である。図2Bにおいては、従来技術に係る静磁場磁石1、傾斜磁場コイル2、及び、ボアチューブ10を示す斜視図である。ここで、図2Bにおいては、端板210を示していないが、実際には、静磁場磁石1及びボアチューブ10の両端が端板210によって固定される。
図2Bに示すように、静磁場磁石1、傾斜磁場コイル2、及び、ボアチューブ10は、それぞれ略円筒状に形成されている。そして、従来技術においては、傾斜磁場コイル2は、静磁場磁石1の内周面の一部に設けられた傾斜磁場コイル支持部200によって支持される。ここで、傾斜磁場コイル2に振動が発生した場合には、この傾斜磁場コイル支持部200を介して静磁場磁石1に伝播される。さらに、静磁場磁石1に伝播された振動は、ボアチューブ支持部11を介してボアチューブ10に伝播される。その結果、ボアチューブ10に伝播された振動が、騒音の発生源になる。
このように、従来技術では、振動の固体伝播による騒音を無くすことができず、静音性能に一定の限界があった。加えて、従来技術では、静磁場磁石1及びボアチューブ10の両端を端板210によって固定することで、架台の長さが長くなってしまい、被検体への開放感を阻害する。
そこで、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、静音性能を向上させ、さらに、被検体への開放感を向上させることを目的とする。第1の実施形態に係るMRI装置100は、静磁場磁石1の内周側と傾斜磁場コイル2の外周側との間隙、及び、傾斜磁場コイル2の内周側とボアチューブ10の外周側との間隙のうち少なくとも一方に、円環状かつ中空の第1の弾性体が配置され、間隙を密閉する。
図3Aは、第1の実施形態に係る静磁場磁石1、傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10の構造を示す断面図である。図3Aに示すように、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、静磁場磁石1の内周側と傾斜磁場コイル2の外周側との間隙に弾性体12が配置される。ここで、弾性体12は、図3Aに示すように、中空12aを有し、静磁場磁石1及び傾斜磁場コイル2の両端に配置されることで、密閉空間14を形成する。
同様に、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、傾斜磁場コイル2の内周側とボアチューブ10の外周側との間隙に弾性体13が配置される。ここで、弾性体13は、図3Aに示すように、中空13aを有し、傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10の両端に配置されることで、密閉空間15を形成する。
弾性体12及び弾性体13は、柔軟性を備えた部材であればどのようなものであってもよく、例えば、ゴム製のリングなどが挙げられる。そして、弾性体12及び弾性体13の中空12a及び中空13aは、それぞれ水、油などの液体や、空気、各種ガスなどの気体が封入され、所定の内圧がかけられる。この内圧を変化させることにより、弾性体12及び弾性体13の硬度を任意に変化させることが可能である。すなわち、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、弾性体12と、静磁場磁石1及び傾斜磁場コイル2との密着度を向上させることができ、シール性能を向上させることが可能である。同様に、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、弾性体13と、傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10との密着度を向上させることができ、シール性能を向上させることが可能である。
そして、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、このような弾性体12及び弾性体13が傾斜磁場コイル2の外周側と内周側とに密着して配置される。図3Bは、第1の実施形態に係る傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10の斜視図である。図3Bに示すように、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、傾斜磁場コイル2の外周側の両端に円環状の弾性体12が配置される。また、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、傾斜磁場コイル2の内周側の両端に円環状の弾性体13が配置される。
このように、振動源となる傾斜磁場コイル2の外周側及び内周側に、中空内の内圧を変化させることで任意の強度を有することが可能な円環状の弾性体12及び弾性体13を配置することで、第1の実施形態に係るMRI装置100は、振動の固体伝播を低減することが可能である。さらに、図3Aにおいて図示していない真空ポンプにより密閉空間14及び密閉空間15を真空状態にすることで、第1の実施形態に係るMRI装置100は、振動の空気伝播を無くすことが可能である。なお、ここでいう真空状態には、真空に近い低圧状態も含まれる。また、第1の実施形態に係るMRI装置100においては、端板を用いることなく密閉空間を形成させ、真空状態にすることができ、架台の長さを短くすることができ、被検体への開放感を向上させることができる。
ここで、傾斜磁場コイル2の側端近傍の形状について、図4A及び図4Bを用いて説明する。図4Aは、第1の実施形態に係る傾斜磁場コイル2の側端近傍の形状を示す第1の断面図である。図4Bは、第1の実施形態に係る傾斜磁場コイル2の側端近傍の形状を示す第2の断面図である。図4A及び図4Bにおいては、図3Aの上側の傾斜磁場コイル2の側端近傍の形状を示す。
まず、密閉空間14及び密閉空間15を真空状態にする場合の傾斜磁場コイル2の形状について説明する。密閉空間14及び密閉空間15を真空状態にする場合には、例えば、図4Aに示すように、傾斜磁場コイル2において、弾性体12が当接する位置には溝部2fが形成され、弾性体13が当接する位置には溝部2gが形成される。この結果、弾性体12の傾斜磁場コイル2側の端部が溝部2fに係合し、弾性体13の傾斜磁場コイル2側の端部が溝部2gに係合する。これにより、例えば、密閉空間14を真空状態にするために真空ポンプによって密閉空間14の空気が吸引された場合でも、弾性体12が密閉空間14内の圧力低下によって密閉空間14の中央へ向かって引き寄せられるのを防ぐことができる。同様に、弾性体13が密閉空間15内の圧力低下によって密閉空間15の中央へ向かって引き寄せられるのを防ぐことができる。
一方、密閉空間14及び密閉空間15を真空状態にしない場合には、傾斜磁場コイル2に溝部2f及び溝部2gを設けなくてもよい。すなわち、図4Bに示すように、傾斜磁場コイル2の側端近傍が平らな状態であってもよい。かかる場合でも、密閉された空間内に傾斜磁場コイル2が配置されることで、傾斜磁場コイル2が発する騒音は低減できる。
なお、弾性体12及び弾性体13を境界にして、傾斜磁場コイル2の側端が密閉空間14及び密閉空間15の外側に位置し、これにより、傾斜磁場コイル2の側端が大気中に露出することになる。しかしながら、傾斜磁場コイル2の側端部は外周部及び内周部に比べて面積が小さいため、側端部から発せられる音響放射は小さい。したがって、傾斜磁場コイル2の側端部を大気中に露出することによる騒音の増加は小さい。
ここで、第1の実施形態に係るMRI装置100は、弾性体の中空内の圧力を調整する調整手段をさらに備えることも可能である。図5は、第1の実施形態に係る静磁場磁石、傾斜磁場コイル及びボアチューブの側端近傍の構造を示す断面図である。例えば、第1の実施形態に係るMRI装置100は、図5に示すように、アキュムレーター16を備える。アキュムレーター16は、図5に示すように、弾性体12及び弾性体13それぞれと接続され、中空12a及び中空13aの内圧を調整する。ここで、図5においては、一方の側の弾性体12及び弾性体13のみがアキュムレーター16に接続されているが、実際には、両側の弾性体12及び弾性体13がアキュムレーター16に接続されている。
一例を挙げると、アキュムレーター16は、計算機システム9とさらに接続され、撮像状況に応じて、中空12a及び中空13aの内圧を調整する。その結果、例えば、位置決めや、スクリーニングなどを行うための撮像の場合には、アキュムレーター16は、中空12a及び中空13aの内圧を低くするように調整する。その結果、弾性体12及び弾性体13は、より柔らかくなり、振動の伝播をより低減でき、騒音の発生をより抑止することができる。また、診断を行なうための本撮像の場合には、アキュムレーター16は、中空12a及び中空13aの内圧を高くするように調整する。その結果、弾性体12及び弾性体13は、一定の硬度を保ち、画像劣化を抑止することができる。
また、図5に示すように、第1の実施形態に係るMRI装置100は、ボアチューブ10とボアチューブ支持部11との間に防振材17を配置することが可能である。ここで、防振材17は、例えばゴムなどの弾性体で形成された部材である。これにより、傾斜磁場コイル2から静磁場磁石1に伝わった振動がボアチューブ支持部11を介してボアチューブ10に伝わるのを防ぐことができる。
第1の実施形態に係る弾性体12及び弾性体13の中空は、弾性体内に任意の数及び任意の形状で形成される。図6A〜図6Dは、第1の実施形態に係る弾性体の中空の構造の一例を示す断面図である。なお、図6A〜図6Dにおいては、弾性体12のみを示しているが、弾性体13についても、図6A〜図6Dに図示する構造を有することが可能である。
例えば、第1の実施形態に係る弾性体12は、図6Aに示すように、幅が一定の1つの中空12aが形成されてもよい。一例を挙げると、円環状の弾性体12は、断面の直径が一定の円環状の中空12aが形成される。或いは、第1の実施形態に係る弾性体12は、複数の中空が形成される場合であってもよい。例えば、第1の実施形態に係る弾性体12は、図6Bに示すように、幅が一定の中空12b及び中空12cの2つの中空が形成される。なお、中空の数は、任意に設計することができ、3つ以上であってもよい。
また、第1の実施形態に係る弾性体12は、部分的に幅が異なる中空が形成されてもよい。例えば、第1の実施形態に係る弾性体12は、図6Cに示すように、弾性体12の上部において幅が狭く、下部にいくに従って幅が広くなる中空12aが形成される。或いは、第1の実施形態に係る弾性体12は、複数の中空において、中空ごとに幅が異なる場合であってもよい。例えば、第1の実施形態に係る弾性体12は、図6Dに示すように、幅の狭い中空12bと、幅の広い中空12cとが形成される。なお、中空の数が3つ以上の場合においても、中空それぞれの幅を任意に設計することができる。
また、第1の実施形態に係る弾性体12は、太さを任意に設計することも可能である。図6E及び図6Fは、第1の実施形態に係る弾性体の構造の一例を示す断面図である。図6E及び図6Fは、図6Dの弾性体を矢印の位置で切断した場合の断面図を示す。なお、図6E及び図6Fにおいては、弾性体12のみを示しているが、弾性体13についても、図6E及び図6Fに図示する構造を有することが可能である。
例えば、第1の実施形態に係る弾性体12は、図6Eに示すように、円環の周方向において一定の太さで形成され、内部に幅の異なる中空が形成される。或いは、第1の実施形態に係る弾性体12は、中空の幅に応じて、太さを変えることも可能である。例えば、第1の実施形態に係る弾性体12は、図6Fに示すように、中空の幅が狭い部分を細く、中空の幅が広い部分を太くなるように形成される。
このように、第1の実施形態に係る弾性体12は、中空の数及び形状と、弾性体の太さとを任意に設計することができる。その結果、第1の実施形態に係る弾性体12は、傾斜磁場コイル2やボアチューブ10の荷重の支持を調整することが可能である。図7は、第1の実施形態に係る弾性体による支持構造の一例を示す断面図である。図7においては、弾性体12として図6Dに示す弾性体を用い、傾斜磁場コイル2の下側に幅の広い中空12cを配置し、中空12b及び中空12cの内圧を一定にした場合について示す。上述した場合には、例えば、図7に示すように、弾性体12は、傾斜磁場コイル2の荷重がかかる下側においてより広い面積で支持することが可能となる。
上述したように、第1の実施形態によれば、振動源となる傾斜磁場コイル2の外周側及び内周側に、中空内の内圧を変化させることで任意の強度を有することが可能な円環状の弾性体12及び弾性体13を配置することで、磁気共鳴イメージング装置100は、振動の固体伝播を低減することができる。また、第1の実施形態によれば、磁気共鳴イメージング装置100は、柔軟性のある弾性体を用いることで、シール性能を向上させることができ、振動の空気伝播をより無くすことが可能である。さらに、第1の実施形態によれば、磁気共鳴イメージング装置100は、架台の長さを短くすることができる。したがって、第1の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置100は、静音性能を向上させ、さらに、被検体への開放感を向上させることを可能にする。
また、第1の実施形態によれば、弾性体12及び弾性体13の中空は、当該弾性体内に任意の数及び任意の形状で形成される。したがって、第1の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置100は、弾性体12と、傾斜磁場コイル2及び静磁場磁石1との密着度、及び、弾性体13と、傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10との密着度を自在に調整することができ、振動の固体伝播及び空気伝播をより低減することを可能にする。また、第1の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置100は、傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10の支持を自在に調整することを可能にする。
また、第1の実施形態によれば、弾性体12及び弾性体13は、任意の太さで形成される。従って、第1の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置100は、弾性体12と、傾斜磁場コイル2及び静磁場磁石1との密着度、及び、弾性体13と、傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10との密着度をより自在に調整することができ、振動の固体伝播及び空気伝播をさらに低減することを可能にする。また、第1の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置100は、傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10の支持をより自在に調整することを可能にする。
また、第1の実施形態によれば、アキュムレーター16は、弾性体12及び弾性体13の中空12a及び中空13aの内圧を調整する。従って、第1の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置100は、撮像条件などの各種条件に応じて、中空12a及び中空13aの内圧を自在に制御することを可能にする。
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態について説明する。第2の実施形態では、第1の実施形態で示した密閉空間15に振動抑制弾性体を配置する場合について説明する。図8は、第2の実施形態に係る静磁場磁石1、傾斜磁場コイル2及びボアチューブ10の構造を示す断面図である。なお、第2の実施形態では、これまでに図示した要素と同じ要素については、同じ符号を付すこととして詳細な説明を省略する。
例えば、図8に示すように、弾性体13によって形成された密閉空間15に、円環状かつ中空の振動抑制弾性体18が配置される。振動抑制弾性体18は、弾性体12及び弾性体13と同様の構造を有する。すなわち、振動抑制弾性体18は、図6A〜図6Dに示すように、内部に任意の数及び任意の形状の中空18aが形成される。そして、振動抑制弾性体18は、図6E及び図6Fに示すように、任意の太さで設計される。中空18aは、水、油などの液体や、空気、各種ガスなどの気体が封入され、所定の内圧がかけられる。
ここで、密閉空間15が真空状態にされる場合には、傾斜磁場コイル2において、振動抑制弾性体18が当接する位置には溝部が形成され、振動抑制弾性体18の傾斜磁場コイル2側の端部が溝部に係合される。一方、密閉空間15が真空状態にされない場合には、傾斜磁場コイル2に溝部が形成されなくてもよい。
そして、振動抑制弾性体18は、図8に示すように、バルブユニット19を介して図示しないポンプと接続され、中空18aの内圧が調整される。バルブユニット19は、振動抑制弾性体18それぞれの中空18aの内圧を任意に調整するための複数のバルブを備える。すなわち、バルブユニット19が有する複数のバルブは、振動抑制弾性体18の中空18aそれぞれと1対1で接続される。そして、バルブユニット19は、内圧の調整が所望される中空18aと接続されるバルブのみを開けることで、当該中空18aのみの内圧を調整させることができる。
ここで、第2の実施形態に係るバルブユニット19は、計算機システム9と接続され、計算機システム9の制御のもと、バルブの開閉を行うことができる。そして、例えば、計算機システム9は、パルスシーケンスによって発生する振動周波数に応じて、振動抑制弾性体18の中空18a内の圧力を調整する。かかる場合には、例えば、計算機システム9は、撮像シーケンスごとに、振動周波数と、振動抑制弾性体18それぞれの中空18aにおける内圧とを対応付けたテーブルを予め記憶する。そして、計算機システム9は、現時点で実行される撮像シーケンスに応じて、振動抑制弾性体18それぞれの中空18aにおける内圧を調整する。
一般に、撮像シーケンスによって傾斜磁場コイル2の振動周波数が異なる。そして、撮像シーケンスの振動周波数と、ボアチューブ10を形成する材料の固有振動数が近くなると共振が発生するために、ボアチューブ10が振動して、騒音が増大される。そこで、第2の実施形態に係るMRI装置100は、上述した構造により、ボアチューブ10の振動を抑えることで、騒音を低減することができる。一例を挙げると、計算機システム9は、撮像シーケンスごとに、ボアチューブ10において共振が発生する位置(振動を強め合う腹の位置)に近接する振動抑制弾性体18を対応付けたテーブルを記憶する。そして、計算機システム9は、現時点で実行される撮像シーケンスに対応する振動抑制弾性体18の中空18aの内圧を上げることで、ボアチューブ10を押さえ、振動を抑制する。
第2の実施形態によれば、撮像シーケンスによって発生する振動周波数に応じて、ボアチューブ10の固有振動数を任意に変化させることができる。
(第3の実施形態)
さて、これまで第1及び第2の実施形態について説明したが、上述した第1及び第2の実施形態以外にも、種々の異なる形態にて実施されてよいものである。
上述した第1及び第2の実施形態では、弾性体12、13及び振動抑制弾性体18の円環の形状が円である場合について説明した。しかしながら、実施形態はこれに限定されるものではなく、例えば、楕円であってもよい。
また、上述した第1及び第2の実施形態では、環状を切断した場合の断面(例えば、図3Aを参照)が円形である弾性体を用いる場合について説明した。しかしながら、実施形態はこれに限定されるものではなく、例えば、断面が矩形となる弾性体を用いる場合であってもよい。
また、上述した第1及び第2の実施形態では、弾性体12及び弾性体13が配置される場合について説明した。しかしながら、実施形態はこれに限定されるものではなく、例えば、どちらか一方が配置される場合であってもよい。一例を挙げると、弾性体12の代わりに従来の傾斜磁場コイル支持部によって傾斜磁場コイル2が支持される場合であってもよい。
以上述べた少なくともひとつの実施形態の磁気共鳴イメージング装置によれば、静音性能を向上させることが可能となる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
100 MRI装置(磁気共鳴イメージング装置)
1 静磁場磁石
2 傾斜磁場コイル
10 ボアチューブ
12、13 弾性体

Claims (3)

  1. 略円筒状に形成され、円筒内の空間に静磁場を発生させる静磁場磁石と、
    略円筒状に形成され、前記静磁場磁石の円筒内に配置されて前記静磁場に傾斜磁場を付加する傾斜磁場コイルと、
    略円筒状に形成され、前記傾斜磁場コイルの円筒内に配置されたボアチューブと、
    円環状かつ中空であり、前記静磁場磁石の内周側と前記傾斜磁場コイルの外周側との間隙、及び、前記傾斜磁場コイルの内周側と前記ボアチューブの外周側との間隙のうち少なくとも一方に配置され、前記間隙を密閉する弾性体と、
    前記弾性体の中空内の圧力を動的に調整可能な調整手段と、
    を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  2. 略円筒状に形成され、円筒内の空間に静磁場を発生させる静磁場磁石と、
    略円筒状に形成され、前記静磁場磁石の円筒内に配置されて前記静磁場に傾斜磁場を付加する傾斜磁場コイルと、
    略円筒状に形成され、前記傾斜磁場コイルの円筒内に配置されたボアチューブと、
    円環状かつ中空であり、前記静磁場磁石の内周側と前記傾斜磁場コイルの外周側との間隙、及び、前記傾斜磁場コイルの内周側と前記ボアチューブの外周側との間隙のうち少なくとも一方に配置され、前記間隙を密閉する弾性体と、
    前記弾性体によって形成された密閉空間に配置される円環状かつ中空の振動抑制弾性体と、
    記弾性体及び前記振動抑制弾性体の中空内の圧力をそれぞれ所定に調整する調整手段と、
    を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  3. 前記調整手段は、パルスシーケンスによって発生する振動周波数に応じて、前記振動抑制弾性体の中空内の圧力を調整することを特徴とする請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
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