JP5954739B2 - 電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置 - Google Patents
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- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims description 100
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 28
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 10
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 claims description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000005441 electronic device fabrication Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N7/00—Analysing materials by measuring the pressure or volume of a gas or vapour
- G01N7/14—Analysing materials by measuring the pressure or volume of a gas or vapour by allowing the material to emit a gas or vapour, e.g. water vapour, and measuring a pressure or volume difference
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
- G01N33/0011—Sample conditioning
- G01N33/0016—Sample conditioning by regulating a physical variable, e.g. pressure or temperature
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/38—Diluting, dispersing or mixing samples
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/85978—With pump
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Immunology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
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Claims (11)
- スペースから採取されたサンプルガスをテストするための方法において、
テストすべきスペースから採取されたサンプルガスを加圧するステップと、
上記加圧されたサンプルガスの組成を決定するステップと、を含み、
上記加圧するステップは、分光分析による測定が正確ではない低い圧力から、分光分析によって正確にサンプルガスの組成を決定できる十分に高い適当な範囲内のより高い圧力へと加圧すること、
分離可能な分光分析測定側のチャンバにおいて上記サンプルガスに付加的なサンプルガスを加えることであって、上記付加的なサンプルガスをテストすべきスペースから可調整ブースターポンプを通してサンプルセルたる上記チャンバに加えること、及び
上記可調整ブースターポンプを制御することを並行して行うことを含む、方法。 - 上記可調整ブースターポンプを制御する段階はさらに、圧力監視装置からフィードバックを受け取る段階を含む、請求項1に記載の方法。
- 上記フィードバックに基づいて可調整ブースターポンプの動作を調整するステップをさらに含む、請求項2に記載の方法。
- 望ましい圧力範囲が達成されると前記分離可能な上記分光分析測定側のチャンバを分離するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 上記加圧されたサンプルガスの組成を決定するステップは、上記サンプルガスの加圧される前及び後に、上記サンプルガスの圧力を測定する段階を含む、請求項1に記載の方法。
- 上記測定された圧力が、上記サンプルガスの組成の正確な決定のために適したレベルに達しているかを決定するステップをさらに含む、請求項5に記載の方法。
- スペースから採取されたサンプルガスをテストするための装置において、
テストすべきガスを収容するように適応された分光分析測定側のチャンバと、
上記分光分析測定側のチャンバに結合され且つ上記分光分析測定側のチャンバへサンプルガスを分配するように適応されたフイッティングと、
分光分析による測定の前に、上記分光分析測定側のチャンバにおける上記サンプルガスを加圧するように適応されたコントローラと、を備え、
上記加圧は、分光分析による測定が正確ではない低い圧力から、分光分析によって正確にサンプルガスの組成を決定できる十分に高い適当な範囲内のより高い圧力へと加圧することを含み、
上記コントローラは、サンプルガス源に結合され、かつ上記コントローラに結合された可調整ブースターポンプを制御して上記分光分析測定側のチャンバにおいて上記サンプルガスに付加的なサンプルガスを供給することによって上記加圧するように適応されており、上記付加的なサンプルガスがテストすべきスペースから可調整ブースターポンプを通してサンプルセルたる上記チャンバに加えられる、装置。 - 上記コントローラは、圧力監視装置に結合されている、請求項7に記載の装置。
- 上記圧力監視装置は、圧力レベルについてのフィードバックを上記コントローラに提供するように適応されている、請求項8に記載の装置。
- スペースから採取されたサンプルガスをテストするためのシステムにおいて、
テストすべきサンプルガスを収容する複数の分離可能なスペースを有する処理ツールと、
テストすべきサンプルガスを収容するように適応された分光分析測定側のチャンバと、
上記分光分析測定側のチャンバを上記複数のスペースへ選択的に結合するためのフイッティングと、
上記分光分析測定側のチャンバにおける上記サンプルガスを加圧するように適応されたコントローラと、を備え、
上記加圧は、分光分析による測定が正確ではない低い圧力から、分光分析によって正確にサンプルガスの組成を決定できる十分に高い適当な範囲内のより高い圧力へと加圧することを含み、
上記コントローラは、サンプルガス源及び可変オリフィスに結合されており、
上記付加的なサンプルガスがテストすべきスペースからブースターポンプを通してサンプルセルたる上記チャンバに加えられる
システム。 - スペースから採取されたサンプルガスをテストするためのシステムにおいて、
テストすべきサンプルガスを収容する複数の分離可能なスペースを有する処理ツールと、
テストすべきサンプルガスを収容するように適応された分光分析測定側のチャンバと、
上記分光分析測定側のチャンバを上記複数のスペースへ選択的に結合するためのフイッティングと、
上記分光分析測定側のチャンバにおける上記サンプルガスを加圧するように適応されたコントローラと、を備え、
上記加圧は、分光分析による測定が正確ではない低い圧力から、分光分析によって正確にサンプルガスの組成を決定できる十分に高い適当な範囲内のより高い圧力へと加圧することを含み、
上記コントローラは、サンプルガス源に結合され、かつ上記コントローラに結合された可調整ブースターポンプを制御して上記分光分析測定側のチャンバにおいて上記サンプルガスに付加的なサンプルガスを供給することによって上記加圧するように適応されており、
上記付加的なサンプルガスがテストすべきスペースから上記可調整ブースターポンプを通してサンプルセルたる上記チャンバに加えられるシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US82095806P | 2006-07-31 | 2006-07-31 | |
US60/820,958 | 2006-07-31 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009522824A Division JP5323699B2 (ja) | 2006-07-31 | 2007-07-30 | 電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013174597A JP2013174597A (ja) | 2013-09-05 |
JP5954739B2 true JP5954739B2 (ja) | 2016-07-20 |
Family
ID=38997660
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009522824A Expired - Fee Related JP5323699B2 (ja) | 2006-07-31 | 2007-07-30 | 電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置 |
JP2013066525A Expired - Fee Related JP5954739B2 (ja) | 2006-07-31 | 2013-03-27 | 電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009522824A Expired - Fee Related JP5323699B2 (ja) | 2006-07-31 | 2007-07-30 | 電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7770431B2 (ja) |
JP (2) | JP5323699B2 (ja) |
KR (1) | KR101143080B1 (ja) |
CN (1) | CN101495849B (ja) |
DE (1) | DE112007001812T5 (ja) |
TW (1) | TWI372867B (ja) |
WO (1) | WO2008016569A2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101143080B1 (ko) | 2006-07-31 | 2012-05-08 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 전자 장치 제조 시스템에서 가스들의 인시튜 분석을 위한 방법 및 장치 |
JP5562539B2 (ja) * | 2008-08-21 | 2014-07-30 | 矢崎総業株式会社 | 濃度測定装置 |
US8272248B2 (en) * | 2010-04-09 | 2012-09-25 | Guenther Mark T | Emissions test system and method |
CN106896080A (zh) * | 2015-12-18 | 2017-06-27 | 有研国晶辉新材料有限公司 | 一种适用于高纯光纤用原材料的红外光谱在线取样检测系统及检测方法 |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3930756A (en) * | 1974-01-14 | 1976-01-06 | Cat Pumps Corporation | Metering pulse pump |
US4112736A (en) * | 1977-01-17 | 1978-09-12 | The Distillers Company (Carbon Dioxide) Ltd. | Gas detector |
JPS6182142A (ja) * | 1984-06-12 | 1986-04-25 | ザ・シコネクス・コ−ポレ−シヨン | ガス流中におけるガスの濃度測定装置 |
US4633083A (en) * | 1985-04-08 | 1986-12-30 | Washington State University Research Foundation, Inc. | Chemical analysis by time dispersive ion spectrometry |
DE59300480D1 (de) * | 1992-07-09 | 1995-09-21 | Elpatronic Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Prüfung von Flaschen auf Verunreinigungen. |
US5703365A (en) | 1994-03-25 | 1997-12-30 | Nippon Sanso Corporation | Infrared spectroscopic analysis method for gases and device employing the method therein |
FR2733319B1 (fr) * | 1995-04-21 | 1997-05-23 | Air Liquide | Procede et dispositif d'analyse de traces d'impuretes dans un echantillon de gaz au moyen d'une diode laser |
US5552600A (en) * | 1995-06-07 | 1996-09-03 | Barringer Research Limited | Pressure stabilized ion mobility spectrometer |
JPH09178656A (ja) * | 1995-12-26 | 1997-07-11 | Shimadzu Corp | 赤外線ガス分析計 |
US5880850A (en) | 1996-04-18 | 1999-03-09 | American Air Liquide Inc | Method and system for sensitive detection of molecular species in a vacuum by harmonic detection spectroscopy |
DK173073B1 (da) * | 1996-11-01 | 1999-12-20 | Foss Electric As | Fremgangsmåde og flowsystem til spektrometri og en kuvette til flowsystemet |
JPH10281988A (ja) | 1997-04-09 | 1998-10-23 | Nippon Sanso Kk | ガス分析方法及びガス分析装置 |
GB2324906B (en) | 1997-04-29 | 2002-01-09 | Masslab Ltd | Ion source for a mass analyser and method of providing a source of ions for analysis |
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JP3929185B2 (ja) | 1998-05-20 | 2007-06-13 | 株式会社荏原製作所 | 真空排気装置及び方法 |
JPH11350147A (ja) * | 1998-06-03 | 1999-12-21 | Canon Inc | 堆積膜形成方法及び装置 |
JP2000009639A (ja) * | 1998-06-23 | 2000-01-14 | Horiba Ltd | 赤外線ガス分析装置 |
JP3137953B2 (ja) * | 1999-03-30 | 2001-02-26 | 科学技術振興事業団 | エレクトロスプレー質量分析方法及びその装置 |
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CA2431615A1 (en) * | 2000-01-25 | 2001-08-02 | The State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Educ Ation On Behalf Of Portland State University | Method and apparatus for concentrating samples for analysis |
US6865926B2 (en) | 2000-01-25 | 2005-03-15 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Portland State University | Method and apparatus for sample analysis |
US6604051B1 (en) * | 2000-04-17 | 2003-08-05 | Southwest Research Institute | System and method to determine thermophysical properties of a multi-component gas |
JP2002323442A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Jasco Corp | ガスセル |
WO2003081216A2 (en) | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Tokyo Electron Limited | Process monitoring using infrared optical diagnostics |
SE524900C2 (sv) * | 2002-07-22 | 2004-10-19 | Senseair Ab | Gasanalyserande arrangemang |
JP2004184409A (ja) * | 2002-11-20 | 2004-07-02 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造装置及びガス濃度分析方法 |
JP3744903B2 (ja) * | 2003-01-20 | 2006-02-15 | セイコーエプソン株式会社 | 赤外吸収測定方法および赤外吸収測定装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
JP3705270B2 (ja) | 2003-01-20 | 2005-10-12 | セイコーエプソン株式会社 | 赤外吸収測定方法および赤外吸収測定装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
JP2004359496A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | リチウム化合物合成装置およびリチウム化合物の合成方法 |
US7629177B2 (en) | 2004-01-21 | 2009-12-08 | Siemens Industry, Inc. | Method and apparatus for introduction of high boiling point streams at low temperature |
KR20060042741A (ko) * | 2004-11-10 | 2006-05-15 | 삼성전자주식회사 | 상압 공정에 이용되는 가스 반응 분석 장치를 위한 샘플가스 공급 시스템 |
KR101143080B1 (ko) | 2006-07-31 | 2012-05-08 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 전자 장치 제조 시스템에서 가스들의 인시튜 분석을 위한 방법 및 장치 |
-
2007
- 2007-07-30 KR KR1020097003515A patent/KR101143080B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-07-30 JP JP2009522824A patent/JP5323699B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-30 DE DE200711001812 patent/DE112007001812T5/de not_active Withdrawn
- 2007-07-30 CN CN2007800284887A patent/CN101495849B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-30 US US11/830,832 patent/US7770431B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-30 WO PCT/US2007/017038 patent/WO2008016569A2/en active Application Filing
- 2007-07-31 TW TW096128087A patent/TWI372867B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-07-09 US US12/833,936 patent/US8020427B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-09-20 US US13/237,144 patent/US8813538B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-03-27 JP JP2013066525A patent/JP5954739B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8020427B2 (en) | 2011-09-20 |
CN101495849B (zh) | 2013-01-30 |
DE112007001812T5 (de) | 2009-06-04 |
KR20090046850A (ko) | 2009-05-11 |
US7770431B2 (en) | 2010-08-10 |
TWI372867B (en) | 2012-09-21 |
KR101143080B1 (ko) | 2012-05-08 |
US20120006092A1 (en) | 2012-01-12 |
US20080022751A1 (en) | 2008-01-31 |
JP2013174597A (ja) | 2013-09-05 |
TW200821580A (en) | 2008-05-16 |
CN101495849A (zh) | 2009-07-29 |
US20100275674A1 (en) | 2010-11-04 |
WO2008016569A3 (en) | 2008-03-27 |
US8813538B2 (en) | 2014-08-26 |
JP5323699B2 (ja) | 2013-10-23 |
JP2009545744A (ja) | 2009-12-24 |
WO2008016569A2 (en) | 2008-02-07 |
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Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131217 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140701 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141031 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20141111 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20150116 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151125 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160322 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160607 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5954739 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |