JP5951223B2 - 電子顕微法、電子顕微鏡および観察標体作製装置 - Google Patents
電子顕微法、電子顕微鏡および観察標体作製装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5951223B2 JP5951223B2 JP2011241040A JP2011241040A JP5951223B2 JP 5951223 B2 JP5951223 B2 JP 5951223B2 JP 2011241040 A JP2011241040 A JP 2011241040A JP 2011241040 A JP2011241040 A JP 2011241040A JP 5951223 B2 JP5951223 B2 JP 5951223B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ionic liquid
- electron
- medium containing
- liquid medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/026—Means for avoiding or neutralising unwanted electrical charges on tube components
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/004—Charge control of objects or beams
- H01J2237/0041—Neutralising arrangements
- H01J2237/0044—Neutralising arrangements of objects being observed or treated
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24273—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including aperture
- Y10T428/24322—Composite web or sheet
- Y10T428/24331—Composite web or sheet including nonapertured component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/261—In terms of molecular thickness or light wave length
Landscapes
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
図18に、本実施例における電子顕微法の観察標体作製装置の構成図を示す。電子顕微法の観察標体作製装置は試料121、試料を支持する試料支持部122、オゾン照射源123、オゾン照射源制御部124、イオン液体吐出部125、吐出制御部126、イオン液体吐出部125を移動させる駆動機構127、イオン液体吐出部125の位置と移動速度を制御する駆動制御部128、イオン液体と該イオン液体以外の物質を混合するイオン液体調整部129、イオン液体の調整を制御するイオン液体調整制御部140、バルブ141、排気機構142、排気室143、排気制御部144、ヒーター145、温度制御部146により構成されている。なお、電子顕微法の観察標体作製装置の構成は、電子顕微鏡の試料室もしくは排気室に設置された構成であってもよい。
3 イオン液体を含む液状媒体
5 一次電子
6 一次電子の到達領域
10 電子源
11 コンデンサレンズ
12 絞り
13 偏向器
14 対物レンズ
15 試料ステージ
16 試料ホルダ
17 試料
18 検出器
19 パルス形成部
20 電子源制御部
21 コンデンサレンズ制御部
22 偏向信号制御部
23 検出信号処理部
24 画像形成部
25 画像表示部
26 SEM制御部
27 操作インターフェース
28 電流計
29 基板電流解析部
30 パルス制御部
31 検出器制御部
32 試料室
72 イオン液体調整部
73 イオン液体吐出部
74 試料
75 試料ホルダ
76 試料保持部
77 試料保持部回転機構
80 バルブ
81 排気機構
82 排気室
84 イオン液体調整制御部
85 吐出制御部
86 回転制御部
87 排気制御部
91 レジストの二次電子放出率の加速電圧依存性
92 イオン液体の二次電子放出率の加速電圧依存性
101 試料
102 試料支持部
103 駆動部
104 駆動制御部
105 イオン液体または該イオン液体以外の物質を混合したイオン液体
106 イオン液体調整部
107 イオン液体調整制御部
108 液槽
111 試料
112 試料支持部
113 ヒーター
114 温度制御部
115 イオン液体フィルム
116 フィルム支持部
117 駆動部
118 駆動制御部
121 試料
122 試料支持部
123 オゾン照射源
124 オゾン照射源制御部
125 イオン液体吐出部
126 吐出制御部
127 駆動機構
128 駆動制御部
129 イオン液体調整部
130,131,132 ウィンドウ
140 イオン液体調整制御部
141 バルブ
142 排気機構
143 排気室
144 排気制御部
145 ヒーター
146 温度制御部
Claims (14)
- 試料上の薄膜状または網膜状のイオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する工程と、
前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚に基づき一次電子の照射条件を制御する工程と、
前記一次電子の照射条件で一次電子を照射し前記試料の形態を画像化する工程と、
を備えることを特徴とする電子顕微法。 - 請求項1記載の電子顕微法において、更に、
イオン液体を含む液状媒体を試料の観察面に塗布する工程と、
前記イオン液体を含む液状媒体を前記試料上に薄膜化する工程と、
を備えることを特徴とする電子顕微法。 - 請求項2記載の電子顕微法において、
前記イオン液体を含む液状媒体を前記試料の観察面に塗布する工程と、
前記イオン液体を含む液状媒体を前記試料上に薄膜化する工程と、
前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する工程と、
が複数回処理されることを特徴とする電子顕微法。 - 請求項1記載の電子顕微法において、
前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する工程は、
前記試料の観察面へパルス電子を照射する工程と、
前記パルス電子により放出される二次電子信号を検出する工程と、
前記二次電子信号から二次電子放出率の一次電子加速電圧依存性を解析する工程と、
からなることを特徴とする電子顕微法。 - 請求項1記載の電子顕微法において、
前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する工程は、
前記試料の観察面へ一次電子を照射したときに誘起される基板電流を計測する工程と、
計測された基板電流の一次電子加速電圧依存性を解析する工程と、
からなることを特徴とする電子顕微法。 - 請求項1記載の電子顕微法において、
前記イオン液体の1分子層の厚さを1モノレイヤーとし、
前記イオン液体を含む液状媒体が塗布されている部分の膜厚は1モノレイヤー以上、100モノレイヤー以下であることを特徴とする電子顕微法。 - 一次電子を放出する電子源と、
試料を保持する試料ホルダと、
前記試料ホルダを設置して排気を行う排気室と、
前記一次電子を前記試料に集束するレンズ系と、
前記一次電子を走査する偏向器と、
前記一次電子により前記試料から放出された二次電子を検出する検出器と、
前記二次電子により画像を形成する画像生成部と、
前記試料ホルダを設置する試料室と、
前記試料上の薄膜状または網膜状のイオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する計測機構と、
前記試料上のイオン液体を含む液状媒体の膜厚に基づく前記一次電子の照射条件制御部と、
を備えることを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項7記載の電子顕微鏡において、
前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する計測機構は、
前記一次電子をパルス化したパルス電子を形成するパルス形成部と、
前記パルス電子により前記試料から放出された二次電子信号から二次電子放出率を解析する二次電子信号解析部と、
前記二次電子放出率の一次電子加速電圧依存性を解析する二次電子放出率解析部と、
を備えることを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項7記載の電子顕微鏡において、
前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する計測機構は、
前記一次電子を前記試料に照射したとき誘起される基板電流を計測する基板電流計測部と、
前記基板電流の一次電子加速電圧依存性を解析する基板電流解析部と、
を備えることを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項7記載の電子顕微鏡において、
前記試料を保持する前記試料ホルダもしくは前記試料室に、
前記イオン液体を含む液状媒体を前記試料の観察面に塗布する塗布部を備えることを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項10記載の電子顕微鏡において、
前記試料を保持する前記試料ホルダもしくは前記試料室に、
前記試料上に塗布した前記イオン液体を含む液状媒体を薄膜化する機構を備えることを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求項7記載の電子顕微鏡において、
前記イオン液体の1分子層の厚さを1モノレイヤーとし、
前記イオン液体を含む液状媒体が塗布されている部分の膜厚は1モノレイヤー以上、100モノレイヤー以下であることを特徴とする電子顕微鏡。 - 試料と、前記試料上にある薄膜状または網膜状のイオン液体を含む液状媒体と、を含み、前記イオン液体の1分子層の厚さを1モノレイヤーとし、前記イオン液体を含む液状媒体が塗布されている部分の膜厚は1モノレイヤー以上、100モノレイヤー以下である電子顕微鏡法の観察標体を作製する観察標体作製装置であって、
排気室と、
排気機構と、
前記イオン液体を含む液状媒体を前記試料の観察面に塗布する塗布部と、
前記試料上の前記イオン液体を含む液状媒体を薄膜化する機構と、
前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する膜厚計測機構と、
を備え、
前記膜厚計測機構は、
一次電子を放出する電子源と、
前記一次電子を前記試料に照射したとき誘起される基板電流を計測する基板電流計測部と、
前記基板電流の一次電子加速電圧依存性を解析する基板電流解析部と、
を備えることを特徴とする観察標体作製装置。 - 試料と、前記試料上にある薄膜状または網膜状のイオン液体を含む液状媒体と、を含み、前記イオン液体の1分子層の厚さを1モノレイヤーとし、前記イオン液体を含む液状媒体が塗布されている部分の膜厚は1モノレイヤー以上、100モノレイヤー以下である電子顕微鏡法の観察標体を作製する観察標体作製装置であって、
排気室と、
排気機構と、
前記イオン液体を含む液状媒体を前記試料の観察面に塗布する塗布部と、
前記試料上の前記イオン液体を含む液状媒体を薄膜化する機構と、
前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する膜厚計測機構と、
を備え、
前記膜厚計測機構は、
前記試料の観察面へパルス電子を照射するパルス電子照射部と、
前記パルス電子により放出される二次電子信号を検出する検出器と、
前記検出された二次電子信号から二次電子放出率の一次電子加速電圧依存性を解析する二次電子放出率解析部と、
を備えることを特徴とする観察標体作製装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011241040A JP5951223B2 (ja) | 2011-11-02 | 2011-11-02 | 電子顕微法、電子顕微鏡および観察標体作製装置 |
CN201280051975.6A CN103907004B (zh) | 2011-11-02 | 2012-10-16 | 电子显微法的观察样品、电子显微法、电子显微镜以及观察样品制作装置 |
DE112012004204.2T DE112012004204B4 (de) | 2011-11-02 | 2012-10-16 | Elektronenmikroskopisches Verfahren und Elektronenmikroskop |
US14/354,917 US9202668B2 (en) | 2011-11-02 | 2012-10-16 | Observation specimen for use in electron microscopy, electron microscopy, electron microscope, and device for producing observation specimen |
PCT/JP2012/076704 WO2013065475A1 (ja) | 2011-11-02 | 2012-10-16 | 電子顕微法の観察標体、電子顕微法、電子顕微鏡および観察標体作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011241040A JP5951223B2 (ja) | 2011-11-02 | 2011-11-02 | 電子顕微法、電子顕微鏡および観察標体作製装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013096890A JP2013096890A (ja) | 2013-05-20 |
JP2013096890A5 JP2013096890A5 (ja) | 2014-11-27 |
JP5951223B2 true JP5951223B2 (ja) | 2016-07-13 |
Family
ID=48191832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011241040A Active JP5951223B2 (ja) | 2011-11-02 | 2011-11-02 | 電子顕微法、電子顕微鏡および観察標体作製装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9202668B2 (ja) |
JP (1) | JP5951223B2 (ja) |
CN (1) | CN103907004B (ja) |
DE (1) | DE112012004204B4 (ja) |
WO (1) | WO2013065475A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5723801B2 (ja) | 2012-02-06 | 2015-05-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置および配線方法 |
WO2013133012A1 (ja) * | 2012-03-09 | 2013-09-12 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 試料観察方法および試料前処理方法 |
EP3062082B1 (en) * | 2015-02-25 | 2018-04-18 | Fei Company | Preparation of sample for charged-particle microscopy |
WO2016170663A1 (ja) * | 2015-04-24 | 2016-10-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオン液体を用いた試料の観察方法及び標本の生産方法 |
US9633816B2 (en) * | 2015-05-18 | 2017-04-25 | Fei Company | Electron beam microscope with improved imaging gas and method of use |
TWI594288B (zh) * | 2016-03-14 | 2017-08-01 | 台灣電鏡儀器股份有限公司 | 電子顯微鏡 |
CN107608141B (zh) * | 2017-09-13 | 2020-10-09 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000195459A (ja) | 1998-12-24 | 2000-07-14 | Canon Inc | 試料観察方法および走査型電子顕微鏡 |
JP2000338017A (ja) * | 1999-05-27 | 2000-12-08 | Canon Inc | 走査電子顕微鏡観察用試料の前処理装置及び前処理方法 |
CN100360708C (zh) * | 2004-05-12 | 2008-01-09 | 中国科学院金属研究所 | 透射电镜用薄膜样品的制备方法 |
EP3078962B1 (en) * | 2006-01-20 | 2018-06-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Liquid medium for preventing charge-up in electron microscope and method of observing sample using the same |
JP5474312B2 (ja) * | 2007-06-20 | 2014-04-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置及びその制御方法 |
CN101458180B (zh) * | 2007-12-13 | 2011-10-05 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 预处理tem样品以及对样品进行tem测试的方法 |
JP5226378B2 (ja) * | 2008-04-28 | 2013-07-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 透過型電子顕微鏡、及び試料観察方法 |
JP2010025656A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Jeol Ltd | イオン液体を用いた試料の処理方法及び処理システム |
JP2010118564A (ja) * | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Hitachi High-Technologies Corp | パターンの検査装置、およびパターンの検査方法 |
CN101776543A (zh) * | 2009-01-13 | 2010-07-14 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 透射电子显微镜检测样片的制备方法 |
JP5442417B2 (ja) * | 2009-12-14 | 2014-03-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
JP5707082B2 (ja) * | 2010-10-08 | 2015-04-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 液体の表面を浮遊する試料の走査電子顕微鏡観察方法 |
-
2011
- 2011-11-02 JP JP2011241040A patent/JP5951223B2/ja active Active
-
2012
- 2012-10-16 DE DE112012004204.2T patent/DE112012004204B4/de active Active
- 2012-10-16 WO PCT/JP2012/076704 patent/WO2013065475A1/ja active Application Filing
- 2012-10-16 CN CN201280051975.6A patent/CN103907004B/zh active Active
- 2012-10-16 US US14/354,917 patent/US9202668B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140264018A1 (en) | 2014-09-18 |
CN103907004A (zh) | 2014-07-02 |
WO2013065475A1 (ja) | 2013-05-10 |
JP2013096890A (ja) | 2013-05-20 |
DE112012004204T5 (de) | 2014-09-11 |
US9202668B2 (en) | 2015-12-01 |
CN103907004B (zh) | 2016-10-26 |
DE112012004204B4 (de) | 2020-08-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5951223B2 (ja) | 電子顕微法、電子顕微鏡および観察標体作製装置 | |
TWI631343B (zh) | 檢測帶電荷試件表面的方法及裝置 | |
JP5696198B2 (ja) | 試料の検査,測定方法、及び走査電子顕微鏡 | |
EP1777729B1 (en) | Scanning type electron microscope | |
JP4500646B2 (ja) | 試料観察方法及び電子顕微鏡 | |
US20110278454A1 (en) | Scanning electron microscope | |
JP7149906B2 (ja) | 走査電子顕微鏡及びパタン計測方法 | |
JP2013096890A5 (ja) | ||
JP4089580B2 (ja) | 薄膜の厚さ及び厚さ分布の評価方法 | |
WO2018134870A1 (ja) | 走査電子顕微鏡および走査電子顕微鏡による試料観察方法 | |
US11688583B2 (en) | Operating a particle beam apparatus with an object holder | |
JP5406308B2 (ja) | 電子線を用いた試料観察方法及び電子顕微鏡 | |
JP6433515B2 (ja) | ミラーイオン顕微鏡およびイオンビーム制御方法 | |
JP5074262B2 (ja) | 帯電電位測定方法、及び荷電粒子顕微鏡 | |
JPH08313244A (ja) | 薄膜の膜厚測定方法 | |
JP4658783B2 (ja) | 試料像形成方法 | |
JP6012319B2 (ja) | 走査電子顕微鏡および試料の予備帯電条件設定方法 | |
JP2013213747A (ja) | イオンビーム装置、試料観察方法、および試料作製装置 | |
US20140291509A1 (en) | Charged particle beam apparatus and method for forming observation image | |
JP2014149921A (ja) | イオンビーム装置、および試料観察方法 | |
JP5592136B2 (ja) | チップ先端構造検査方法 | |
Ohta et al. | Development of micro focus X-ray microscope equipped with high brightness Li/W< 111> field emitter | |
JP2009187851A (ja) | 荷電粒子ビーム装置、及び試料の表面の帯電状態を知る方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141009 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141009 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151027 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160608 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5951223 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |