JP5933362B2 - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は液晶表示装置に関し、特に、視差バリア方式の液晶表示装置に関する。
液晶表示装置の表示面に対して左方向から視認される表示と右方向から視認される表示の2画面表示が可能な液晶表示装置(2画面LCD)が提案されている。
この2画面LCDは、自動車内の運転者と同乗者など、左右の異なる位置から見る場合に異なる画面を表示する表示装置や、一人の観察者の左右の目に異なる画面を表示することで立体表示を行う3次元(3D)表示装置に適用されている。
このような2画面LCDは、画像を表示する画素について、特定方向より視認できる画素と別の特定方向より視認できる画素とに光学的に分離することで実現されており、画素を視認できる方向(視野方向)を左右の2方向に限らずに多方向で視認できるように分離手段を変更することで、マルチ画面表示も可能となる。
この視野方向を光学的に分離する手段としては、レンズなどを用いる方法も提案されているが、異なる表示を行う画素に対応して1つの開口部(透過部)が形成された遮光膜(視差バリア)により、画素を視認できる視野方向を分離する視差バリア方式が一般的となりつつある。
例えば、特許文献1には、カラーフィルタ(CF)−ブラックマトリクス(BM)面を通過した光は、視差バリアによって、特定の視野方向以外の方向への進行が遮られるため、液晶表示装置の表示面に対して左方向から視認される表示と右方向から視認される表示とが異なる仕組みが開示されている。
また、視差バリアの形成について、従来は液晶セルとは別に視差バリアを形成したガラス基板を準備し、液晶セルの外側に貼り付ける方法を採っていたが、特許文献1では、CFガラス面に直接形成する方法が提案されている。
また、特許文献2では、特許文献1のように、CF基板の表面と裏面にそれぞれブラックマトリクスに用いる遮光膜と視差バリアに用いる遮光膜の両者を形成した後に液晶セルを組み立てるのではなく、液晶セルを形成した後に、CF基板の薄型化を実施し、その後に視差バリアを形成する方法が開示されている。
また、特許文献3では、CFガラス面に形成されたブラックマスク(ブラックマトリクス)に用いる遮光膜に関して、ごみの付着等に起因するピンホールの発生を抑制するために、2層の積層膜を採用し、下層の遮光膜を形成した後、上層の遮光膜を形成する前に、ごみ等を除去する洗浄を行う方法が開示されている。
特開2007−072476号公報 特開2011−128547号公報 特開平09−166777号公報
特許文献1および特許文献2に開示されるように、CFガラス面に視差バリアを直接形成する構成では、CF基板の裏面(すなわち表示装置の前面)に遮光膜で構成される視差バリアが配設されることとなる。
ところが、従来の遮光膜の製造方法では、遮光膜の形成前よりガラス基板上に残っている異物や遮光膜の形成時において付着した異物等により、遮光膜にピンホールが発生したり、パターン不良が発生する可能性がある。
このような、ピンホールやパターン不良部分は、輝点になる場合や、明るさにムラを生じさせる場合があり、表示品位を低下させることとなる。また、遮光膜が最外面に露出しているため、遮光膜形成後にキズ等が入りやすいという問題もある。遮光膜にキズが入ると遮光膜としての機能が損なわれるため、こちらも表示品位を落とす原因となる。
上記、異物などを起因とするピンホールやパターン不良については、特許文献3でも課題として認識されている。しかし、特許文献3は、CF基板における液晶パネルのセルの内側に配設されるブラックマスクに用いる遮光膜に関する発明であり、CF基板の裏面に形成される遮光膜に関する発明ではない。特許文献3では、液晶パネルのセルの形成後は、セルの内側にブラックマスクが存在することになるので、特許文献1や特許文献2のように、遮光膜がセルの外側に露出することによる問題は発生せず、液晶パネルのセルの外側に配設された遮光膜(視差バリア)におけるキズの発生という課題を解決する構成は、開示も示唆もされていない。
本発明は、上記のような問題点を解消するためになされたもので、視差バリアとして使用される遮光膜にピンホールやパターン不良、あるいはキズ等が発生しても、表示品位の低下を防止して、表示品位に優れた液晶表示装置を提供することを目的とする。
本発明に係る液晶表示装置の態様は、互いの主面が向き合うように間隔を開けて対向配置され、その間に液晶層を保持する第1および第2の透明基板と、前記第1の透明基板の光入射面となる内側の主面上に配設されるカラーフィルタと、前記カラーフィルタの間を遮光するブラックマトリクスと、前記第1の透明基板の外側の主面上に配設され、画像を表示する画素について、特定方向より視認できる画素と別の特定方向より視認できる画素とに光学的に分離する視差バリアと、前記第2の透明基板の内側の主面上に配列され、液晶を駆動する電圧を印加する複数のスイッチング素子とを備え、前記視差バリアは、複数配列して設けられ光を透過する透過部と、前記透過部の周囲に設けられ光を遮光する遮光部とを有し、前記透過部は、前記第1の透明基板の前記外側の主面から突出するように配設された透明膜によって構成され、前記透明膜の断面形状は、前記第1の透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状を有し、前記遮光部は、二層以上の遮光膜の積層膜を含んでいる。
本発明に係る液晶表示装置によれば、視差バリアの遮光部が、二層以上の遮光膜の積層膜を含んでいるので、上層の遮光膜にキズ等が発生しても、下層の遮光膜が、光透過を防止するので表示品位が低下することを防止して、表示品位に優れた液晶表示装置を得ることができる。また、遮光部の形状は逆テーパーとなり、第1の透明基板の下方から斜め方向に入射する光のうち、一部の光は逆テーパー状の遮光部によって遮光され、所定の方向でのコントラスト低下を防ぐなど、光学特性の向上が期待できる。
本発明に係る液晶表示装置における液晶パネルの平面図である。 本発明に係る液晶表示装置における液晶パネルの断面図である。 本発明に係る液晶表示装置における液晶パネルの組み立て工程を示すフローチャートである。 本発明に係る実施の形態1の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態1の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態1の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態1の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態1の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 テーパー形状を有する透明膜による効果を説明する図である。 遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口する場合の開口部の形状を示す平面図である。 遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口する場合の開口部の形状を示す平面図である。 遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口する場合の開口部の形状を示す断面図である。 遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口する場合の開口部の形状を示す断面図である。 遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口した場合に、保護膜を形成した状態を示す断面図である。 遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口した場合に、保護膜を形成した状態を示す断面図である。 本発明に係る実施の形態2の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態3の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態4の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態4の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態4の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。 本発明に係る実施の形態4の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
<実施の形態1>
<液晶パネルの全体構成>
本発明に係る実施の形態1の液晶表示装置における液晶パネル100の構成について、図1および図2を用いて説明する。
図1は、液晶パネル100の全体構成を示す平面図であり、図2は、図1におけるA−A断面線における断面図を示している。ここでは、一例としてTFT(Thin Film Transistor)方式の2画面ディスプレイ液晶パネルを例に採って説明するものとする。
図1に示されるように、液晶パネル100は、スイッチング素子としてTFTがアレイ状に配置されるTFTアレイ基板(以下、アレイ基板)110と、カラーフィルタなどが形成されるカラーフィルタ基板(以下、CF基板)120と、両者の間の間隙を密封するメインシールパターン130とを備えている。なお、図1において水平方向をX、垂直方向をYとする。
メインシールパターン130は、アレイ基板110とCF基板120との間において、液晶パネル100が動作した際に画像を表示する表示面に対応する領域である表示領域200を少なくとも囲うように配置されている。
また、図2に示すように、アレイ基板110とCF基板120との間には、基板間に所定範囲の間隙を形成し保持する柱状スペーサー133、換言すると、基板間の距離を一定範囲内に保持する柱状スペーサー133が表示領域200内に複数配置されている。なお、図2において水平方向をX、厚み方向をZとする。
このメインシールパターン130により密封され、柱状スペーサー133により保持されたCF基板120とアレイ基板110との間の間隙の少なくとも表示領域200に対応する領域に液晶材料が保持されることにより、液晶層140が形成されている。換言すると、液晶材料は、アレイ基板110とCF基板120とメインシールパターン130とで規定される空間(セル)内に封止されている。
ここでは、液晶材料として一般的なTN(Twisted Nematic)タイプの液晶材料を用いる。なお、表示領域200という文言については、液晶パネル100のアレイ基板110上、CF基板120上、あるいは両基板間に挟まれる領域の全てにおいて使用することとし、本明細書中においては全て同様の意味にて使用する。
アレイ基板110は、図1および図2に示されるように、透明基板である厚み0.7mm程度の一般的なガラスで構成されるガラス基板111の一方の主面(CF基板120と対向する側の主面)上に、液晶を駆動する電圧を印加する画素電極113、画素電極113に電圧を供給するスイッチング素子であるTFT114、TFT114を覆う絶縁膜115、TFT114に信号を供給する配線である複数のゲート配線116およびソース配線117、TFT114に供給される信号を外部から受け入れる信号端子118、信号端子118から入力された信号を対向電極123へ伝達するためのトランスファ電極(図示省略)などが配設されている。そして、ガラス基板111の上記一方の主面上の表示領域200に対応する領域には、液晶を配向させる配向膜112が設けられている。また、ガラス基板111の他方の主面上には偏光板134が設けられている。
CF基板120は、透明基板である厚み0.1mm程度の極薄ガラスよりなるガラス基板121の一方の主面(アレイ基板110と対向する側の主面)上に、カラーフィルタ124およびカラーフィルタ124間を遮光するため、あるいは表示領域200に対応する領域外側に配置される額縁領域を遮光するための遮光膜であるブラックマトリクス(BM:Black Matrix)125が設けられ、それらの上にアレイ基板110上の画素電極113との間に電界を生じさせて液晶を駆動する共通電極123が設けられ、共通電極123上に液晶を配向させる配向膜122が設けられている。
カラーフィルタ124としては、樹脂中に顔料などを分散させた色材層が選択でき、赤、緑、青などの特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能し、これら異なる色の色材層を規則的に配列して構成されている。
BM125は、カラーフィルタ124間以外に表示領域200外側の額縁領域にも配置され、CF基板120における額縁領域のほぼ全域に渡って形成されており、表示に不要な額縁領域におけるCF基板120中の光の透過を遮光している。
また、ガラス基板121の他方の主面上には、2画面LCDとして、視野方向を二方向に分離する遮光膜である視差バリア126が形成されている。そして、視差バリア126の上には保護膜132が設けられ、保護膜132上には偏光板135が設けられている。
視差バリア126は、光を透過する透過部126Tと、透過部126Tの周囲に設けられ光を遮光する遮光部126Bとで構成され、透過部126Tは、画素間(カラーフィルタ124間)に配置されるBM125の間のカラーフィルタ124とは平面方向での位置をずらして形成され、1つの透過部126Tに対して、二方向の視野方向に対応する一対のカラーフィルタ124が設けられている。なお、透過部126Tの平面視形状は、例えば、画素間に配置されるBM125の幅と概ね同じ幅を有した細長いスリット形状であり、一体に形成された遮光部126Bの形成領域内で、一対のカラーフィルタ124間に一つの割合で複数配列して設けられる。また、透過部126Tは、画素単位ごとの長さのスリット形状に設けても良いし、表示領域200の一辺の長さで連続して設けるなど、複数の画素の長さで連続したスリット形状に設けても良いが、何れにしても複数配列して設けられる。
なお、視差バリア126における透過部126Tと、BM125間のカラーフィルタ124の平面的な(水平方向での)位置関係と、視差バリア126とBM125を垂直方向に隔てる距離に対応するガラス基板121の厚み(本実施の形態では厚み0.1mm程度)によって、二方向の視野方向が決定され、水平方向での位置関係(解像度)などが一定であれば、ガラス基板121の厚みが薄いほど、二方向の視野方向の角度の差が大きくなる。
なお、車載用途などの運転席と助手席とで異なる画像を視認可能な2画面LCDにおいて、適当な視野方向となる20〜40度方向を一般的な画素解像度の範囲で実現するためには、ガラス基板121は厚みが0.05〜0.1mm程度の極薄ガラスを選択する。
ただし、視野方向や解像度に対する要求仕様によっては、ガラス基板121は0.3mm程度の一般的な厚みであっても良い。従って、ガラス基板121の厚みは、0.05〜0.5mmの範囲から適宜選択すれば良い。
また、視差バリア126を構成する遮光部126Bは、下層側(ガラス基板121側)となる遮光膜1261と上層側となる遮光膜1262との2層膜により構成され、透過部126Tは透明樹脂膜などで構成されている。
なお、BM125を構成する遮光膜としては、クロムと酸化クロムの積層膜などを用いた金属系の材料や樹脂中に黒色粒子を分散させた樹脂系の材料(樹脂BM)などを選択することができ、視差バリア126を構成する遮光部126Bとしては、後に説明するように、透過部126Tを形成後に遮光性の樹脂材を塗布して形成する方法により自己整合的に形成するので、樹脂系の材料を選択することが望ましい。
なお、配向膜より下層に、カラーフィルタ124とBM125を覆うように透明樹脂膜で構成されるオーバーコート層を設ける構成としても良い。
先に説明したように、アレイ基板110とCF基板120はメインシールパターン130を介して貼り合わされており、表示領域200に配置される柱状スペーサー133により所定の基板間隔に保持されている。
また、トランスファ電極(図示省略)と共通電極123とは、トランスファ材により電気的に接続されており、信号端子118から入力された信号が共通電極123に伝達される。トランスファ材については、メインシールパターン130中に導電性の粒子などを混合することにより代用でき、省略することも可能である。
なお、本実施の形態では、導電性の粒子などを混合したメインシールパターン130を用い、図1、図2に示されるようにメインシールパターン130と共通電極123は接触していることから、トランスファ電極をメインシールパターン130に平面的に重なるように配置し、メインシールパターン130と接触させることにより、トランスファ電極と共通電極123とをメインシールパターン130を介して電気的に接続した構成としている。
以上説明した構成の他に、液晶パネル100は、駆動信号を発生する制御基板136、制御基板136を信号端子118に電気的に接続するFFC(Flexible Flat Cable)137、光源となるバックライトユニット(通常は、表示面となるCF基板120側とは反対側に設けられたアレイ基板110の外側に、アレイ基板110の主面に対向して配置されるが、ここでは図示せず)などを備えている。そして、これら部材と共に表示面となる表示領域200におけるCF基板120の外側の部分が開口部となった筐体(図示せず)の中に収納されて本実施の形態に係る液晶表示装置を構成する。
<液晶表示装置の製造方法>
<全体的製造フロー>
次に、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶パネル100の製造方法について、図1、図2を参照しつつ、図3を用いて説明する。
通常、液晶パネルは最終形状よりも大きなマザー基板から、液晶パネルを1枚あるいは複数枚(多面取り)切り出して製造される。
図3は、液晶パネル100の組み立て工程を示すフローチャートである。まず、ステップS1において基板を準備する。すなわち、互いに貼り合わされる前のアレイ基板110を切り出すマザーアレイ基板と、CF基板120を切り出すマザーCF基板を準備する。
CF基板120は最終的にガラスを薄型化加工して極薄ガラスに形成されるが、マザーアレイ基板およびマザーCF基板については、以降の工程の実施が容易となるように、途中までは、厚み0.5〜1.5mm程度のガラスにより構成される。ここでは、マザーアレイ基板およびマザーCF基板を、共に厚み0.7mmのガラスにより構成されたガラス基板として準備される。
上述したマザーアレイ基板の準備工程には、図1、図2に示した画素電極113、TFT114、絶縁膜115、ゲート配線116、ソース配線117および信号端子118などを基板上に作り込む工程を含んでいるが、これらの作り込みは一般的な液晶パネルにおけるアレイ基板の製造方法と同様であるので、製造方法に関する詳細な説明は省略する。
また、マザーCF基板の準備工程には、図1、図2に示したカラーフィルタ124、BM125および共通電極123などを基板上に作り込む工程を含んでいるが、これらの作り込みは柱状スペーサーを用いた一般的な液晶パネルにおけるCF基板の製造方法と同様であるので、製造方法に関する詳細な説明は省略する。
続いて、ステップS2の基板洗浄工程において、ステップS1で準備されたマザーアレイ基板を洗浄する。
次に、ステップS3の配向膜材料塗布工程において、マザーアレイ基板の一方の主面に、配向膜材料を塗布する。この工程は、例えば、印刷法により有機材で構成される配向膜材料を塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる工程を含んでいる。
その後、ステップS4の配向処理工程において、配向膜材料にラビングを行い、配向膜材料の表面を配向処理して配向膜112を形成する。
ステップS4の配向処理は、液晶の配向方向を規定するための処理であり、液晶パネルを作る上で重要な工程である。
なお、マザーCF基板についても、ステップS2〜S4と同様の、基板洗浄工程、配向膜材料塗布工程および配向処理工程を施すことで、配向膜122を形成する。
次に、ステップS5のシール剤塗布工程において、スクリーン印刷装置を用いて、マザーアレイ基板あるいはマザーCF基板の一方の主面に、シール剤を印刷ペーストとして塗布し、最終的に表示領域200を囲う形状のメインシールパターン130を形成する。
この段階では、メインシールパターン130には液晶を注入するための開口部である注入口が形成されている。
続いて、ステップS6の貼り合せ工程において、マザーアレイ基板とマザーCF基板とを貼り合せてマザーセル基板を形成する。その後、ステップS7のシール剤硬化工程でシールパターン130を完全に硬化する。
シールパターン130を硬化した後、ステップS8の薄型化研磨工程において、マザーアレイ基板とマザーCF基板の周辺部において、薬液が基板間に入ることを防止する周辺封止を実施した後、マザーアレイ基板のみに保護フィルムを貼付し、マザーセル基板全体をフッ酸系のエッチング液、例えば、HF(フッ化水素、フッ酸)を主成分とする薬液中に浸漬することでマザーCF基板の表面を削り、薄型化する。この結果、マザーCF基板のみが0.1mm程度の極薄ガラスに薄型化加工され、保護フィルムが貼付されたマザーアレイ基板は厚みを0.7mmに維持したマザーセル基板を得ることができる。
次に、ステップS9の視差バリア形成工程において、薄型化されたマザーCF基板の主面に2画面ディスプレイ液晶パネルとして機能させるための視差バリア126と保護膜132を形成する。この工程については後に説明する。
次に、ステップS10のセル切断工程において、視差バリア126形成後のマザーセル基板をスクライブラインに沿って切断し、個々の液晶パネルに分割する。
パネル外形寸法への切り出しと、CF基板120の不要部の切り出しを行った後、ステップS11の液晶注入工程においてアレイ基板110、CF基板120およびメインシールパターン130で規定されるセル内に液晶を充填する。
具体的には、切断した液晶パネルを真空チャンバー内に載置して、真空ポンプにより真空チャンバー内を真空状態とすることで、セル内を脱気する。その後、真空チャンバー内で液晶パネルの注入口(図示せず)に液晶を接触させてから、真空チャンバー内を大気圧に戻すことで、液晶パネルのセル内に液晶を吸引させる。
引き続いて、ステップS12の注入口封止工程において、注入口にUV硬化樹脂を塗布した後、UV(紫外)光を当てて樹脂を硬化させることで注入口を封止する。
その後、ステップS13の偏光板貼付け工程において、アレイ基板110およびCF基板120の最外面に、それぞれ偏光板134および135を貼付け、ステップS14の制御基板実装工程において、信号端子118にFFC137を圧着することで制御基板136を実装する。そして、制御基板136を実装した液晶パネル100を所定の筐体に組み込むことで、液晶表示装置が完成する。
<視差バリアの形成工程>
以下、視差バリア126の形成工程について図4〜図8を用いて説明する。なお、以下においては、より端的な説明を行うためと、図1、図2に示した液晶表示装置100への適用に限定されないために、簡略化された構成を用いて説明する。
まず、図4に示す工程において、透明基板4(図におけるガラス基板121に相当)上に、視差バリアの光を通したい領域(図における透過部126Tを形成する領域)に突起状の透明膜1を形成する。
具体的には、例えば、透明な感光性樹脂膜を透明基板4上に塗布形成し、当該感光性樹脂膜をフォトリソグラフィによりパターニングすることで突起状の透明膜1のパターンを形成する。なお、感光性樹脂膜としては、例えばアクリル樹脂を使用することができる。なお、図4に示す工程は、図3を用いて説明した製造フローでは、薄型化されたマザーCF基板の主面に感光性樹脂膜を塗布してパターニングする工程に相当する。
図4に示すように、透明膜1は、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状(順テーパー)を有している。なお、図4は透明膜1の幅方向の断面形状が判るように透明基板4を切断した図であるが、視差バリア126の透過部126Tが細長い形状であるなら、長手方向の断面においても上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状(順テーパー)を有している。
なお、この突起状の透明膜1により、視差バリアの透過部が形成されることとなるので、上記パターニング工程は重要な工程となる。従って、透明膜1の形成工程後には、パターン欠陥検査工程を入れることが望ましい。すなわち、パターン欠陥検査工程により、パターン不良なく正常に透明膜1が形成されたことが確認された透明基板4のみを次工程に進めることで、パターン不良に起因して表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを抑制することができる。
ここでのパターン欠陥検査工程は、基板上に形成された繰り返しパターンの画像を光学的に取り込んで、隣接する繰り返しパターン間の画像を二値化などの画像処理でパターンを単純化した上で比較して、隣接するパターンと相違する部分をパターン欠陥(パターン不良)として検出する、パターン比較を用いた一般的なパターン欠陥検査工程で良い。
なお、フォトリソグラフィにおける感光性樹脂膜の現像処理直後であれば、パターン不良があったものは、アルカリ系のレジスト剥離液で透明膜1を除去することが可能であり、再度、透明膜1の形成工程をやり直すリワーク処理ができるので、全体としての製造歩留まりの低下を防止することができる。
なお、透明膜1の形成予定領域以外に透明膜1が残るようなパターン残不良の場合には、後に形成されるべき遮光部が形成されずに透過部となってしまうので、上述したリワーク処理を実施することが望ましい。
一方、形成予定領域の透明膜1が欠けるようなパターン欠不良については、開口部に対して欠ける面積が小さい場合には、不良として視認されない場合もあるので、リワーク処理を省略することも可能である。
次に、図5に示す工程において、透明膜1がパターニングされた透明基板4上に遮光膜2(図1における遮光膜1261に相当)を形成する。その際、遮光膜2の膜厚は、透明膜1の膜厚より、薄くなるように形成する。
また、遮光膜2を形成する際には塗布条件を調整し、できるだけ遮光膜2が透明膜1の上に形成されないようにし、例え形成された場合でも、透明膜1上では、より薄くなるようにすることが、後の遮光膜の除去工程を省略することや、短時間で済ませることができるという点で好ましい。
例えば、遮光性の樹脂材などを透明基板4を回転させながら塗布形成することで、透明膜1間の凹部に自己整合的に遮光膜2が形成され、その際に塗布する樹脂材の量を調整することで上述した条件を満たすことができる。
ただし、後に表面を平坦化するドライエッチング処理やCMP(Chemical Mechanical Polishing)処理などを組合せることで、透明膜1上に形成された遮光膜を除去することも可能であるので、遮光2が透明膜1を覆うように形成された構成を排除するものではない。
また、このとき、図5に示しているように、遮光膜2にピンホールやパターン不良などの欠陥部14が発生していても構わない。
次に、図6に示す工程において、透明膜1および遮光膜2が形成された透明基板4上に、遮光膜2および透明膜1を覆うように(透明膜1の高さを超えるように)遮光膜3(図1における遮光膜1262に相当)を形成する。この遮光膜3も、遮光性の樹脂膜などを透明基板4を回転させながら塗布して形成すれば良い。
なお、遮光膜2および3の材料としては、一般的なブラックマトリクスの形成に用いられる樹脂中に黒色顔料(カーボンブラックやチタンブラック)を分散させた樹脂系の材料(樹脂BM)を使用すれば良く、同じ材質であっても良く、異なる材質であっても良い。
なお、上述した回転塗布により、図6に示されるように、遮光膜3の表面が平坦化されて形成されるので、透明膜1上では、遮光膜3は相対的に薄く形成される。従って、その後、図7に示す工程において、遮光膜3を等方的に研磨、もしくはエッチング等を行うことにより、遮光膜3を残存させたまま透明膜1の上端面を露出させることができ、透明膜1を視差バリアの透過部として得ることができ、また、透明膜1間には遮光膜2および3が自己整合的に積層された遮光部を得ることができ、視差バリアが完成することとなる。
なお、透明膜1の上に遮光2が形成されていた場合にも、上述した遮光膜3の研磨、もしくはエッチング等の工程によって同時に除去することが可能である。
また、図6および図7に示されるように、遮光膜2に発生していたピンホールやパターン不良などの欠陥部14については、上層に塗布形成される遮光膜3が埋め込まれることで、光を透過する不良部とはならない。
また、図7に示されるように、遮光膜3を形成する際にも、ピンホールやパターン不良などの欠陥部14が発生する可能性はあるが、遮光膜2に発生していたピンホールやパターン不良などの欠陥部14と同じ場所に遮光膜3の欠陥部14が発生する可能性は非常に低く、基本的には、遮光膜3の欠陥部14の下部には遮光膜2が形成されているので、この場合も光を透過する不良部となることはない。
すなわち、遮光膜2および3の何れにおいて欠陥部14が発生した場合でも、現実的に問題となる不良部となることはなく、2層の遮光膜による冗長性の効果が発揮される。
最後に、図8に示す工程において、上端面が露出した透明膜1および遮光膜3の上層に透明膜である保護膜15を形成する。
保護膜15としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂など透明樹脂膜の他に、無機絶縁膜(シリコン酸化膜、シリコン窒化膜など)を使用することができるが、本実施の形態では、表面のカバレッジ効果やキズ発生を防止する効果を勘案して、透明樹脂を透明基板4を回転させながら塗布形成することで保護膜15を形成した。
なお、図8に示す工程は、図3を用いて説明した製造フローでは、マザーアレイ基板とマザーCF基板とを貼り合わせたマザーセル基板の薄型化されたマザーCF基板上の視差バリア126上に保護膜132を形成する工程に相当し、マザーセル基板が完成する。
なお、マザーアレイ基板とマザーCF基板とを貼り合せる前のマザーCF基板に対して上述した図4〜図8に示す工程に基づいて視差バリア126と保護膜132とを形成し、その後にマザーアレイ基板とマザーCF基板とを貼り合せてマザーセル基板を完成させる方法を採ることもできる。
<効果>
以上説明したように、透明膜1と遮光膜2および3の積層膜とで構成される視差バリアの上部を保護膜15で覆うことで、視差バリア形成以降の工程、すなわち図3に示したステップS10以降の工程において、遮光膜2および3に対してキズが発生することを防止する効果が得られる。
上記効果は、保護膜15を遮光膜2および3と比較して強度が高い材料で構成することでより顕著に得られるが、遮光膜2および3間の密着力に比べて、遮光膜3と保護膜15との間の密着力を高く設定することで、仮に保護膜15が剥がれるほどの強力な外力が作用したとしても、保護膜15と強固に密着する遮光膜3のみが保護膜15と共に剥がれ、遮光膜3との密着力が相対的に低い遮光膜2は剥がれにくいという効果も得られる。この結果、遮光膜2が残ることで、キズなどによる光透過を防止して、表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを防止できる。
また、遮光膜3を形成した後、遮光膜3を等方的に研磨、もしくはエッチング等を行うことにより、遮光膜3を残存させたまま透明膜1の上端面を露出させ、透明膜1を視差バリアの透過部として得ることができる。
また、透明膜1間には遮光膜2および3が積層された遮光部を自己整合的に得ることができるので、平坦化されて凸凹が少ない視差バリアを得ることができる。このため、視差バリア上に偏光板(図1の偏光板135に相当)を直接に貼り付けるような場合には、偏光板との間に気泡や凸凹ムラなどが発生する可能性を低減できる。
また、透明基板4上に形成した突起状の透明膜1は、図4に示すように上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状(順テーパー)を有している場合、視差バリアの透過部となった場合に、光の入射側より出射側の面積が狭くなるが、図9に示すように、遮光膜2および3の形状は逆テーパーとなる。このため、図9に示すように、透明基板4の下方から斜め方向に入射する光13のうち、一部の光13は逆テーパー状の遮光膜2および3によって遮光され、所定の方向でのコントラスト低下を防ぐなど、光学特性の向上が期待できる。
また、突起状の透明膜1が順テーパー形状であることから、塗布される遮光膜のカバレッジが良くなり、カバレッジ不良(隙間などの形成)を起こさないという利点もある。
なお、このような順テーパー形状の透明膜1を得るには、例えば、透明な感光性樹脂膜として、LCD用材料として一般的な中程度の解像度の感光性樹脂膜を用い、一般的な150〜240℃程度のベーク温度範囲を設定することで、比較的容易に順テーパー形状を有した透明膜1を得ることができる。
<変形例1>
以上説明した本発明に係る実施の形態1においては、透明膜1と遮光膜2および3の積層膜とで構成される視差バリアの上部を保護膜15で覆った構成について説明したが、保護膜15(図1においては保護膜132)を設けない構成としても良い。
すなわち、遮光膜2および3による二層膜のみによっても、ある程度は、外的な接触などによるキズや剥離に対して表示品位の低下を防ぐ効果は得られる。
例えば、表層のみに外力がかかる程度の軽度なキズや剥離であれば、例え、上層に位置する遮光膜3にキズや剥離などを生じた場合でも、結果として、下層の遮光膜2が残ることで、キズなどによる光透過を生じず、表示品位が低下せずに不良とはならない。
また、例えば、上層に設けられる遮光膜3をキズに強い膜、具体的には、遮光膜2に比べて強度が高い材料で構成することで、外力によるキズが遮光膜2にまで及ぶ可能性を抑制できる。
あるいは、遮光膜2と遮光膜3との間の密着力を、透明基板4遮光膜2との間の密着力に比べて低く設定することで、仮に遮光膜3が剥がれるほどの強力な外力が作用したとしても、遮光膜3との密着力が相対的に低い遮光膜2は剥がれにくいという効果が得られる。この結果、遮光膜2が残ることで、キズなどによる光透過を防止して、表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを防止できる。
このように、保護膜15を設けない構成であっても、少なくとも二層の遮光膜が積層された構成を有していれば、実施の形態1と同様の効果を得ることができる。なお、視差バリアの遮光部を二層の遮光膜で構成する場合は、最も少ない製造コストで済むという利点がある。
なお、上記効果は視差バリアの遮光膜が三層以上の多層構造である場合にも得ることができることは言うまでもない。
<変形例2>
以上説明した本発明に係る実施の形態1においては、透明基板4上に透明膜1をパターニングした後、遮光膜2および3を順次に積層することで、視差バリアの遮光部を自己整合的に得る方法を開示したが、以下の方法を採っても良い。
すなわち、透明基板4上に遮光膜2および3を順次に積層した後、遮光膜2および3に対して、フォトリソグラフィにより視差バリアの透過部に対応する領域を開口するパターニングを行い、得られた開口部を透過部として使用する構成としても良い。
また、このような構成においても、遮光膜2および3の上部に保護膜15を設けることで、実施の形態1と同様の効果を得ることができ、また、保護膜15を設けない場合であっても、上述した変形例1と同様の効果を得ることができる。
<開口部を2回のパターニングで形成>
また、以上説明した変形例2に係る構成を採る場合は、視差バリアの透過部に対応する領域を開口する際に、遮光膜2および3に対して1つのフォトマスクを用いて同時に開口する構成としても良いが、遮光膜2および3に対して、それぞれ別のフォトマスクを用いて個別に開口する構成としても良い。
すなわち、透明基板4上に遮光膜2を形成した後、遮光膜2に対してフォトリソグラフィにより視差バリアの透過部に対応する領域を開口する第1のパターニング工程を行って第1の開口部を形成する。その後、遮光膜2上に遮光膜3を形成した後、遮光膜3に対してフォトリソグラフィにより視差バリアの透過部に対応する領域を開口する第2のパターニング工程を行って第2の開口部を形成する。この場合、第1の開口部と第2の開口部とは、ほぼ同じ位置に形成されるので、遮光膜2および3を貫通する1つの開口部となる。
この方法では、遮光膜2および3をそれぞれ開口する第1および第2のパターニング工程において、露光不良やパターニングに用いたレジストに欠損などを生じたとしても、第1のパターニング工程と第2のパターニング工程とで、遮光膜2あるいは遮光膜3に形成される不良部分が一致する可能性は殆どないと言える。このため、パターニング不良に対しても、二層の遮光膜による冗長性が有効に発揮されることとなる。
<開口部の面積の設定について>
また、以上説明したように、遮光膜2および3に対して、それぞれ別のフォトマスクを用いて個別に開口する場合、第1のパターニング工程において遮光膜2に形成された第1の開口部に対して、ほぼ同じ位置に第2のパターニング工程において遮光膜3に第2の開口部を形成することとなるが、第1の開口部と第2の開口部とで面積を同じにしても良いし、異なる面積としても良い。
すなわち、図10に示すように、遮光膜2の開口部5と遮光膜3の開口部6とで面積を同じとしても良いし、図11に示すように、先に形成される遮光膜2の開口部5の面積より、後で形成される遮光膜3の開口部6の面積を大きくしても良い。何れを選択した場合にも、パターニング不良に対する、二層の遮光膜による冗長性が有効に発揮されることとなるが、これ以外にも以下のような効果が得られる。
<同じ開口面積とする場合のさらなる効果>
遮光膜2の開口部5と遮光膜3の開口部6とで面積を同じとする場合、開口部5の形成時と遮光膜3の開口部6の形成時とで、フォトマスクの重ね合わせ位置がずれたような場合は、図10に示すように、開口部5と開口部6とで形成位置がずれることとなる。この場合、実効的な開口面積は、開口部5と開口部6とが重なりあった部分の面積となる。
このように、遮光膜2および3に対して、それぞれ別のフォトマスクを用いて個別に開口する場合であって、開口部5と開口部6とで同じ面積にする場合には、製造上のばらつきにより、視差バリアの透過部の面積にばらつきを生ずることとなるが、フォトマスクの重ね合わせ位置については、アライメント技術が格段に進歩した昨今においては大きなずれが生じる可能性はないと言える。すなわち、昨今の半導体メモリなどの製造に使用されるフォトマスクのアライメントの精度に比べれば、視差バリアの透過部を形成するためのフォトマスクのアライメントの精度はより低いもので充分であり、アライメントずれの問題は生じない。
それよりも、遮光膜2の開口部5と遮光膜3の開口部6とで面積を同じとした場合には、遮光膜2の開口部5の形成時と遮光膜3の開口部6の形成時とで共通のフォトマスクを使用することができ、製造工程が簡略化でき、製造コストを低減できるという効果の方がより重要である。
<異なる開口面積とする場合のさらなる効果>
一方、遮光膜2の開口部5と遮光膜3の開口部6とで異なる面積とする場合、小さく形成する遮光膜2の開口部5の面積を、視差バリアの透過部の形成面積と設定し、大きく形成する遮光膜3の開口部6の面積を、製造工程上のばらつき(開口幅のずれやアライメントすれなど)を考慮して設定することで、製造工程上のばらつきが生じた場合でも、開口部5上に開口部6の端縁部が重なることで開口部5の面積が実質的に減少することを回避できるという利点がある。
図12および図13は、遮光膜2の開口部5と遮光膜3の開口部6とを形成した状態の断面図であり、図11におけるA−A線での断面図に相当する。なお、図12および図13においては、遮光膜2に欠陥部14が存在する例を併せて示している。
図12に示すように、遮光膜2に開口部5を形成した後、遮光膜2上に遮光膜3を形成するが、その際に遮光膜2に存在する欠陥部14にも遮光膜3が埋め込まれるので、パターニング不良に対する二層の遮光膜による冗長性が有効に発揮される。
また、図13に示すように、遮光膜2の開口部5を視差バリアの透過部の形成面積よりも広めに形成し、遮光膜3に開口部6を形成する際に、開口部6の断面形状をクレーター状とすることで、視差バリアの透過部の形成面積に近づける構成としても良い。この場合も、遮光膜2に存在する欠陥部14にも遮光膜3が埋め込まれるので、パターニング不良に対する二層の遮光膜による冗長性が有効に発揮される。
以上説明した変形例2によれば、遮光膜2に発生した欠陥部14は遮光膜3により埋め込まれるので光透過を防止して、表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを防止でき、また遮光膜3に発生した欠陥部14は、下層に遮光膜2が存在するので光透過を防止でき、表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを防止できる。
その結果、遮光膜のリペアなどを行わなくとも高歩留まりを維持することができるので、視差バリアを備えた液晶表示装置を低コストで製造することができる。
また、図14には、図12の構成を採る場合に、遮光膜2および3の上層に保護膜15を形成した例を示しており、図15には、図13の構成を採る場合に、遮光膜2および3の上層に保護膜15を形成した例を示している。
このように、遮光膜2および3の上層に保護膜15が形成されることによって、視差バリアの形成以降の工程において、遮光膜2および3に対してキズが発生することを効果的に防止できるという効果は、実施の形態1と同様である。
<実施の形態2>
以上説明した実施の形態1においては、図6を用いて説明したように、透明膜1の高さを超えるように遮光膜3を形成する例を示したが、遮光膜3の膜厚は、透明膜1の高さを超えない厚さに設定しても良い。
図16には、透明膜1および遮光膜2が形成された透明基板4上に、遮光膜2を覆うように(透明膜1の高さを超えないように)遮光膜3が形成された例を示している。このこの結果、透明膜1の膜厚が遮光膜2と遮光膜3とを合わせた厚みより厚くなる。
この場合も図7を用いて説明したように、透明膜1を等方的に研磨、もしくはエッチング等を行うことにより、遮光膜3の上面と透明膜1の上端面とが同一平面内となるようにしても良い。
このような平坦化を行うことで、平坦化されて凸凹が少ない視差バリアを得ることができ、視差バリア上に設ける偏光板(図1の偏光板135に相当)との間に気泡や凸凹ムラなどが発生する可能性を低減できる。
また、遮光膜3の厚みを薄くすることで、遮光膜材料の使用量を減らすことができ、さらなる低コスト化が実現できる。
<実施の形態3>
以上説明した実施の形態1および2においては、透明膜1は例えばアクリル樹脂で形成するものとして説明したが、アクリル樹脂の屈折率は1.49であり、ガラス基板である透明基板4の屈折率よりは若干高い屈折率を有していた。
これに対して、実施の形態3の液晶表示装置においては、透明膜1の屈折率が、透明基板4の屈折率に比べて同じ、あるいは低い屈折率となるように透明膜1の材料を選択する。
これにより、図17に示すように、透明基板4の下方から斜め方向に入射する光13は、透明基板4と透明膜1との屈折率の違いにより、外側方向への屈折角度が大きくなって、所定方向でのコントラスト低下を防ぐなど、光学特性の向上を図ることができる。
なお、透明基板4より低い屈折率を有する材料としては、例えば、フッ素樹脂のPTFE(屈折率1.35)、FEP(屈折率1.34)、テトラフルオロエチレン(屈折率1.35)などを使用することができる。
<実施の形態4>
以上説明した実施の形態1〜3においては、透明基板4上にアクリル樹脂やフッ素樹脂で透明膜1を形成するものとして説明したが、視差バリアの遮光部に相当する領域の透明基板4をエッチングにより突起状に加工した構成を採っても良い。以下、この製造方法について図18〜図21を用いて説明する。
まず、図18に示す工程において透明基板4を準備する。この透明基板4は、図3を用いて説明したステップ8の薄型化研磨工程後のマザーCF基板に相当するが、この研磨工程では、視差バリアの透過部の厚さに相当する分だけの厚みを余分に残すようにマザーCF基板を薄型化する。
次に、図19に示す工程において、透明基板4の視差バリアの透過部に対応する領域の上部がレジスト材で覆われるようにレジストマスクRMを形成し、当該レジストマスクRMをエッチングマスクとして透明基板4をウエットエッチングすることで、突起部12を選択的に形成する。
この場合のエッチング条件としては、例えば、透明基板4がガラス基板である場合、ガラスを研磨加工するのに一般的なエッチング液であるフッ酸系のエッチング液(バッファードフッ酸、希フッ酸など)を用いる。そして、使用するエッチング液によるガラスのエッチングレートと、形成したい突起部12の高さ(視差バリアの厚みに相当する2、3μm程度)に応じてエッチング時間等を設定する。
なお、上記方法によりエッチングを行う場合には、透明基板4の上主面に近いほどエッチングに曝される時間が長くなるために、結果として突起部12は上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状(順テーパー)となる。
レジストマスクRMを除去した後、図20に示す工程において、突起部12がパターニングされた透明基板4上に遮光膜2(図1における遮光膜1261に相当)を形成する。その際、遮光膜2の膜厚は、突起部12の膜厚より、薄くなるように形成する。なお、遮光膜2の材質や形成方法は実施の形態1や実施の形態2と同じである。
次に、図21に示す工程において、突起部12および遮光膜2が形成された透明基板4上に、遮光膜2および突起部12を覆うように(突起部12の高さを超えるように)遮光膜3(図1における遮光膜1262に相当)を形成する。なお、遮光膜3の材質や形成方法は実施の形態1や実施の形態2と同じである。その後、遮光膜3を等方的に研磨、もしくはエッチング等を行うことにより、遮光膜3を残存させたまま突起部12の上端面を露出させることで、突起部12を視差バリアの透過部として得ることができ、また、突起部12間には遮光膜2および3が積層された遮光部を自己整合的に得ることで、視差バリアが完成することとなる。
なお、突起部12の形成方法は上述した方法に限定されるものではなく、機械的な研磨により形成することもでき、また、ドライエッチングを用いた方法により形成することもできる。例えば、エッチングガス種に酸素などのレジストを削るガス種を混入してエッチング処理することで、レジストマスクが小さくなりながら、透明基板4の深さ方向にもエッチングが進み、順テーパーの突起部12を得ることも可能である。
このようにして形成された突起部12は、透明基板4と一体に形成される。この場合、透明基板4と突起部12との間に境界部が形成されないことから、図21に示されるように、境界部での光13の反射が発生せず、光13の利用効率を向上できる。
また、突起部12は、順テーパー形状であるので、その形状による効果は先に説明した透明膜1と同じであり、また、透明基板4の屈折率と同じ屈折率を有することで、所定方向でのコントラスト低下を防ぐなど、光学特性の向上を図ることができる。
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
1 透明膜、2,3 遮光膜、4 透明基板、12 突起部、15 保護膜、100 液晶パネル、110 アレイ基板、120 CF基板、126 視差バリア、126B 遮光部、126T 透過部、140 液晶層。

Claims (14)

  1. 液晶表示装置であって、
    互いの主面が向き合うように間隔を開けて対向配置され、その間に液晶層を保持する第1および第2の透明基板と、
    光源側となる前記第1の透明基板の内側の主面上に配設されるカラーフィルタと、
    前記カラーフィルタの間を遮光するブラックマトリクスと、
    前記第1の透明基板の外側の主面上に配設され、画像を表示する画素について、特定方向より視認できる画素と別の特定方向より視認できる画素とに光学的に分離する視差バリアと、
    前記第2の透明基板の内側の主面上に配列され、液晶を駆動する電圧を印加する複数のスイッチング素子と、を備え、
    前記視差バリアは、
    複数配列して設けられ光を透過する透過部と、前記透過部の周囲に設けられ光を遮光する遮光部と、を有し、
    前記透過部は、前記第1の透明基板の前記外側の主面から突出するように配設された透明膜によって構成され、
    前記透明膜の断面形状は、前記第1の透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状を有し、
    前記遮光部は、二層以上の遮光膜の積層膜を含む、液晶表示装置。
  2. 前記特定方向および前記別の特定方向は、
    前記視差バリアと前記カラーフィルタとの水平方向での位置関係と、
    前記視差バリアと前記ブラックマトリクスを垂直方向に隔てる距離に対応する前記第1の透明基板の厚みによって決定される、請求項1記載の液晶表示装置。
  3. 前記透明膜の断面形状は、前記第1の透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなった台形状を有する、請求項1または請求項2記載の液晶表示装置。
  4. 前記透明膜は、前記第1の透明基板の屈折率に比べて同じ、あるいは低い屈折率の材料で構成される、請求項1記載の液晶表示装置。
  5. 液晶表示装置であって、
    互いの主面が向き合うように間隔を開けて対向配置され、その間に液晶層を保持する第1および第2の透明基板と、
    光源側となる前記第1の透明基板の内側の主面上に配設されるカラーフィルタと、
    前記カラーフィルタの間を遮光するブラックマトリクスと、
    前記第1の透明基板の外側の主面上に配設され、画像を表示する画素について、特定方向より視認できる画素と別の特定方向より視認できる画素とに光学的に分離する視差バリアと、
    前記第2の透明基板の内側の主面上に配列され、液晶を駆動する電圧を印加する複数のスイッチング素子と、を備え、
    前記視差バリアは、
    複数配列して設けられ光を透過する透過部と、前記透過部の周囲に設けられ光を遮光する遮光部と、を有し、
    前記透過部は、
    前記第1の透明基板の前記外側の主面から突出し前記第1の透明基板と一体をなす突起部によって構成され、
    前記突起部の断面形状は、前記第1の透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状を有し、
    前記遮光部は、二層以上の遮光膜の積層膜を含む、液晶表示装置。
  6. 前記遮光部は、下層側となる第1の遮光膜と上層側となる第2の遮光膜との二層膜で構成される、請求項1または請求項2記載の液晶表示装置。
  7. 前記視差バリア上に配設された透明な保護膜をさらに備える、請求項1〜の何れか1項に記載の液晶表示装置。
  8. 前記透過部および前記遮光部は、それらの上端面が同一平面をなすように平坦化され、
    平坦化された前記視差バリア上に偏光板が配設される、請求項1〜6の何れか1項に記載の液晶表示装置。
  9. 請求項1記載の液晶表示装置の製造方法であって、
    (a)前記第1の透明基板の前記外側の主面上の前記視差バリアの前記透過部に対応する領域において突出するように透明膜を形成する工程と、
    (b)前記透明膜が形成された前記第1の透明基板の前記外側の主面上に、二層以上の遮光膜の積層膜を形成することで、前記視差バリアの前記遮光部を形成する工程と、を備え、
    前記工程(a)は、
    前記透明膜の断面形状が、前記第1の透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状となるように、前記透明膜をパターニングする工程を含む、液晶表示装置の製造方法。
  10. 前記工程(b)は、
    前記遮光膜の積層膜の厚さが、前記透明膜の厚さよりも薄くなるように前記遮光膜の積層膜を形成する工程を含む、請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。
  11. 前記工程(b)の後に、
    (c)前記透明膜の上端面が露出するように、前記遮光膜の積層膜が形成された前記第1の透明基板の前記外側の主面上を平坦化する工程をさらに備える、請求項9または請求項11記載の液晶表示装置の製造方法。
  12. 請求項5記載の液晶表示装置の製造方法であって、
    (a)前記第1の透明基板の前記外側の主面上の前記視差バリアの前記透過部に対応する領域に前記第1の透明基板と一体をなす突起部を形成する工程と、
    (b)前記突起部が形成された前記第1の透明基板の前記外側の主面上に、二層以上の遮光膜の積層膜を形成することで、前記視差バリアの前記遮光部を形成する工程と、を備え、
    前記工程(a)は、
    前記突起部の断面形状が、前記第1の透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状となるように、前記第1の透明基板をパターニングする工程を含む、液晶表示装置の製造方法。
  13. 前記工程(b)
    前記遮光膜の積層膜の厚さが、前記突起部の厚さよりも薄くなるように前記遮光膜の積層膜を形成する工程を含む、請求項12記載の液晶表示装置の製造方法。
  14. 前記工程(b)の後に
    (c)前記突起部の上端面が露出するように、前記遮光膜の積層膜が形成された前記第1の透明基板の前記外側の主面上を平坦化する工程をさらに備える、請求項12または請求項13記載の液晶表示装置の製造方法。
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