JP2020134871A - 表示装置及び表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】視野角内から観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たず、輝点欠陥となる画素に隣接する画素が隠されにくく、高い表示品位を有する表示装置を提供する。
【解決手段】表示パネルは、光が出射する複数の画素領域を有する。第２の基板は、表示媒体層を挟んで第１の基板に対向し、透明であり、０．３ｍｍ未満の厚さを有する部分を備え、第１の基板が配置される側と反対の側にある主面を有する。遮光膜は、上述した主面上に配置され、上述した部分上に配置され、表示パネルの厚さ方向から平面視された場合に欠陥画素領域と重なり欠陥画素領域から幅Ｗだけはみ出す。幅Ｗは、視野角内から表示パネルが観察された場合に欠陥画素領域から出射する光が視認されなくなる幅Ｗ１以上である。
【選択図】図５

Description

本発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に関する。

表示装置は、複数の画素を有する。複数の画素に含まれる各画素においては、各画素から出射する光の輝度が制御される。これにより、表示装置は、複数の画素から出射する光の輝度に応じた画像を表示する。

近年においては、表示装置の大型化及び高精細化に伴い、表示装置の画素数が増加している。一方で、表示装置が製造される場合は、表示装置の画素数が増加するほど、製造された表示装置に占める、欠陥となる画素を有する表示装置の割合も増加する。このため、近年において表示装置の画素数が増加していることは、製造の歩留りの向上を阻害している。

欠陥となる画素は、画素から出射する光の輝度を制御するための電極の短絡等により当該輝度を制御することができなくなることにより生じる。欠陥となる画素は、常に発光状態となっている輝点欠陥となる画素等である。輝点欠陥となる画素は、黒色の背景中で目立ち、容易に認識され、表示装置の表示品位を低下させる。

輝点欠陥となる画素を目立たなくする加工を表示装置に対して行うことにより、表示装置を出荷可能な品質とすることができる場合がしばしばある。そして、当該加工を表示装置に対して行うことにより表示装置を出荷可能な品質とすることができた場合は、表示装置の良品率を向上することができ、表示装置の価格を低下させることができる。

特許文献１に記載された技術においては、常に光が透過するという欠陥を生じている絵素の位置が特定される（第３頁 左上欄 第２行目−第３行目）。遮光性材料が欠陥絵素に対応する基板の偏光板側に塗布される（第３頁 左上欄 第５行目−第６行目）。遮光性材料によって遮光膜が形成される（第３頁 左上欄 第７行目−第８行目）。これにより、輝点の修正が行われる（第３頁 右上欄 第２０行目）。

特許文献２に記載された技術においては、偏光板における輝点欠陥に対応する部位に凹部又は貫通孔が形成される（段落００２２）。凹部又は貫通孔に対して遮光材料が充填される（段落００２４）。これにより、輝点欠陥が修復される（段落００２７）。

特許文献３に記載された技術においては、第２基板の外表面の欠陥画素領域に対応する位置に遮光膜が形成される（段落００２４）。遮光膜のサイズは、画素領域のサイズより大きい（段落００２４）。遮光膜は、第１の領域及び第２の領域を覆うように形成される（段落００２６）。第１の領域は、欠陥画素領域の外形を第２基板の表面に投影した領域である（段落００２６）。第２領域は、第１領域の周辺の領域である（段落００２６）。遮光膜は、第１領域に比べて第２領域において、透過率が大きくなっている（段落００２７）。これにより、画素欠陥を目立たなくすることができる（段落００２９）。また、遮光膜が大きな黒点として認識される度合いを低下させることができる（段落００２９）。欠陥画素領域から出射して斜めに進行する光は、遮光膜の第２領域によって適度に遮断されるので、斜めから見た観察者にとっても輝点として認識されにくい（段落００３０）。一方、画素領域から正面に向かって進行する光は、遮光膜の第２領域をある程度透過することができるので、完全に遮断されるわけではない（段落００３０）。

特開平３−２４３９１７号公報 特開２００６−１７１０５７号公報 特開２０１５−１２１６０２号公報

表示装置は、視野角を有する。このため、表示装置には、正面から観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たないことだけでなく、視野角内において斜めから観察された場合にも輝点欠陥となる画素が目立たないことが望まれる。

しかし、従来の技術においては、表示装置が視野角内において斜めから観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立つ場合がある。また、輝点欠陥となる画素に隣接する画素が隠される場合がある。

例えば、特許文献１に記載された技術においては、欠陥絵素から斜め方向に出射する光が遮光されない。このため、液晶表示装置が視野角内において斜めから観察された場合に欠陥絵素が目立つ。

また、特許文献２に記載された技術においては、輝点欠陥から斜め方向に出射する光が遮光されない。このため、液晶表示装置が視野角内において斜めから観察された場合に輝点欠陥が目立つ。

また、特許文献３に記載された技術においては、遮光膜のサイズ及び光が出射する方向によっては、欠陥画素領域から斜め方向に出射する光が遮光されない場合がある。このため、表示装置が視野角内において斜めから観察された場合に欠陥画素領域が目立つ場合がある。また、特許文献３に記載された技術においては、遮光膜のサイズによっては、欠陥画素領域に隣接する画素領域が隠される場合がある。

この問題は、横電界方式の液晶表示パネルを備える液晶表示装置等の広い視野角を有する表示装置において特に問題となる。

本発明は、これらの問題に鑑みてなされた。本発明が解決しようとする課題は、視野角内から観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たず、輝点欠陥となる画素に隣接する画素が隠されにくく、高い表示品位を有する表示装置を提供することである。

本発明は、表示装置に向けられる。

表示装置は、表示パネル及び遮光膜を備える。

表示パネルは、光が出射する複数の画素領域を有する。複数の画素領域は、輝点欠陥が生じた欠陥画素領域を含む。

表示パネルは、第１の基板、表示媒体層及び第２の基板を備える。第２の基板は、表示媒体層を挟んで第１の基板に対向する。第２の基板は、透明である。第２の基板は、０．３ｍｍ未満の厚さを有する部分を備える。第２の基板は、第１の基板が配置される側と反対の側にある主面を有する。

遮光膜は、上述した主面上に配置され、上述した部分上に配置される。遮光膜は、表示パネルの厚さ方向から平面視された場合に、欠陥画素領域と重なり、欠陥画素領域から幅Ｗだけはみ出す。幅Ｗは、視野角内から表示パネルが観察された場合に欠陥画素領域から出射する光が視認されなくなる幅Ｗ１以上である。

本発明は、表示装置の製造方法にも向けられる。

本発明によれば、視野角内から表示パネルが観察された場合に欠陥画素領域から出射する光が視認されない。このため、視野角内から表示パネルが観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たない。また、遮光膜を著しく大きくしなくても視野角内から表示パネルが観察された場合に欠陥画素領域から出射する光が視認されない。このため、輝点欠陥となる画素に隣接する画素が隠されにくい。これにより、高い表示品位を有する表示装置を提供することができる。

本発明の目的、特徴、局面及び利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。

実施の形態１及び２の液晶表示装置に行われる輝点欠陥の修正と同様の輝点欠陥の修正が行われる表示装置の主要部を模式的に図示する分解斜視図である。 実施の形態１及び２の液晶表示装置に行われる輝点欠陥の修正と同様の輝点欠陥の修正が行われる液晶表示装置の主要部を模式的に図示する拡大断面図である。 実施の形態１の液晶表示装置を模式的に図示する断面図である。 実施の形態１の液晶表示装置に備えられる液晶表示パネルの主要部を模式的に図示する斜視図である。 実施の形態１の液晶表示装置の主要部を模式的に図示する拡大断面図である。 実施の形態１の液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。 実施の形態１の液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。 実施の形態２の液晶表示装置を模式的に図示する断面図である。 実施の形態２の液晶表示装置の主要部を模式的に図示する拡大断面図である。

１ 輝点欠陥の修正が行われる表示装置
図１は、実施の形態１及び２の液晶表示装置に行われる輝点欠陥の修正と同様の輝点欠陥の修正が行われる表示装置の主要部を模式的に図示する分解斜視図である。

図１に表示される表示装置１は、第１の基板１３０及び第２の基板１５０を備える。また、表示装置１は、図示されない第１の層及び第２の層を備える。

第２の基板１５０は、第１の基板１３０に対向する。第１の基板１３０は、内側主面１３０ｉを有する。内側主面１３０ｉは、第２の基板１５０が配置される側にある。内側主面１３０ｉは、表示領域ＤＲを有する。表示領域ＤＲは、複数の画素領域ＰＲに区画される。複数の画素領域ＰＲは、規則的に配列される。複数の画素領域ＰＲには、欠陥画素領域ＤＰＲが混入している。

第１の層は、第１の基板１３０上に配置される。第２の層は、第２の基板１５０上に配置される。

２ 輝点欠陥の修正が行われる液晶表示装置
２．１ 液晶表示装置
図２は、実施の形態１及び２の液晶表示装置に行われる輝点欠陥の修正と同様の輝点欠陥の修正が行われる液晶表示装置の主要部を模式的に図示する拡大断面図である。図２は、ふたつの画素を構成する部分を図示する。

図２に図示される液晶表示装置２は、図１に図示される表示装置１の例である。表示装置１が、液晶表示装置２以外の表示装置であってもよい。

液晶表示装置２は、液晶表示パネル１０を備える。また、液晶表示装置２は、図示されないバックライトを備える。

液晶表示パネル１０は、広い視野角を有する横電界方式の液晶表示パネルである。液晶表示パネル１０が広い視野角を有する横電界方式の液晶表示パネルである場合は、下述する輝点欠陥の修正が液晶表示パネル１０に行われた場合に当該欠陥の修正の効果が顕著に現れる。ただし、液晶表示パネル１０が縦電界方式の液晶表示パネルであってもよい。例えば、液晶表示パネル１０が、比較的に広い視野角を有する垂直配向（ＶＡ）方式の液晶表示パネルであってもよい。また、液晶表示パネル１０が、一般的には広い視野角を有しないが視野角補正用（ワイドビュ）フィルム等が追加されることにより広い視野角を有するように改良されたねじれネマティック（ＴＮ）方式の液晶表示パネルであってもよい。

液晶表示パネル１０は、横電界方式のひとつであるフリンジ電界スイッチング（ＦＦＳ）方式の液晶表示パネルである。ただし、液晶表示パネル１０がＦＦＳ方式以外の方式の液晶表示パネルであってもよい。例えば、液晶表示パネル１０が面内スイッチング（ＩＰＳ（登録商標））方式の液晶表示パネルであってもよい。

バックライトは、光を発する。液晶表示パネル１０は、発せられた光の一部を透過させる。また、液晶表示パネル１０は、入力された信号に応じた光透過率の面内分布を有する。これにより、液晶表示装置２は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた映像を表示する。

２．２ 液晶表示パネル
液晶表示パネル１０は、図２に図示されるように、表示領域ＤＲを有する。また、液晶表示パネル１０は、図示されない額縁領域を有する。表示領域ＤＲには、映像が表示される。額縁領域は、表示領域ＤＲの外側に配置され、表示領域ＤＲを囲む。

液晶表示パネル１０は、図２に図示されるように、液晶セル１００を備える。液晶セル１００は、図２に図示されるように、アレイ基板１１０、対向基板１１１及び液晶層１１２を備える。また、液晶セル１００は、図示されないシール材及びスペーサを備える。

対向基板１１１は、アレイ基板１１０に対向する。液晶層１１２、シール材及びスペーサは、アレイ基板１１０と対向基板１１１とに挟まれる。液晶層１１２及びスペーサは、表示領域ＤＲに配置される。シール材は、額縁領域に配置される。シール材は、アレイ基板１１０及び対向基板１１１を互いに貼り合わせ、アレイ基板１１０と対向基板１１１との間の間隙に液晶層１１２を封止する。スペーサは、当該間隙の幅を特定の幅に維持する。

アレイ基板１１０は、図２に図示されるように、第１の透明基板１３０を備える。

第１の透明基板１３０は、基体となる。第１の透明基板１３０は、透明であり絶縁性を有する材料からなる。透明であり絶縁性を有する材料は、ガラス、石英、プラスチック等である。

第１の透明基板１３０は、内側主面１３０ｉ及び外側主面１３０ｅを有する。内側主面１３０ｉは、下述する第２の透明基板１５０が配置される側にある。外側主面１３０ｅは、下述する第２の透明基板１５０が配置される側と反対の側にある。

アレイ基板１１０は、図２に図示されるように、画素電極１３２、電極間絶縁膜１３９、共通電極１３４及び配向膜１３６を備える。また、アレイ基板１１０は、図示されない層を備える。

画素電極１３２、電極間絶縁膜１３９、共通電極１３４及び配向膜１３６は、第１の透明基板１３０の内側主面１３０ｉ上に配置される。

画素電極１３２は、第１の透明基板１３０の内側主面１３０ｉ上に配置される。画素電極１３２は、透明であり導電性を有する材料からなる。透明であり導電性を有する材料は、酸化インジウムスズ（ITO：Indium Tin Oxide）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ：Indium Zinc Oxide なお、「IZO」は出光興産株式会社の登録商標）等である。

電極間絶縁膜１３９は、画素電極１３２に重ねて第１の透明基板１３０の内側主面１３０ｉ上に配置され、画素電極１３２を覆う。電極間絶縁膜１３９は、透明であり絶縁性を有する材料からなる。透明であり絶縁性を有する材料は、窒化ケイ素、酸化ケイ素等である。電極間絶縁膜１３９は、画素電極１３２及び共通電極１３４を互いに隔て、画素電極１３２及び共通電極１３４を互いに電気的に絶縁する。

共通電極１３４は、電極間絶縁膜１３９上に配置される。共通電極１３４は、スリット電極１４０を備える。スリット電極１４０は、複数の開口部１４０ｏを有する。スリット電極１４０は、アレイ基板１１０の厚さ方向から平面視された場合に画素電極１３２に重なり、電極間絶縁膜１３９を挟んで画素電極１３２に対向する。複数の開口部１４０ｏの各々は、スリット状の形状を有する。共通電極１３４は、透明であり導電性を有する材料からなる。透明であり導電性を有する材料は、ＩＴＯ、ＩＺＯ等である。

配向膜１３６は、共通電極１３４に重ねて電極間絶縁膜１３９上に配置され、共通電極１３４を覆う。配向膜１３６は、ポリイミド等からなる。配向膜１３６には、分子配向処理が行われている。分子配向処理は、ラビング、光照射等である。配向膜１３６は、液晶層１１２に含まれる液晶分子を配向させる。

対向基板１１１は、図２に図示されるように、第２の透明基板１５０を備える。

第２の透明基板１５０は、基体となる。第２の透明基板１５０は、液晶層１１２を挟んで第１の透明基板１３０に対向する。第２の透明基板１５０は、透明であり絶縁性を有する材料からなる。透明であり絶縁性を有する材料は、ガラス、石英、プラスチック等である。

第２の透明基板１５０は、内側主面１５０ｉ及び外側主面１５０ｅを有する。内側主面１５０ｉは、第１の透明基板１３０が配置される側にある。外側主面１５０ｅは、第１の透明基板１３０が配置される側と反対の側にある。

対向基板１１１は、図２に図示されるように、遮光層１５１、着色層１５２、オーバーコート（ＯＣ）層１５３及び配向膜１５４を備える。また、対向基板１１１は、図示されない層を備える。

遮光層１５１、着色層１５２、ＯＣ層１５３及び配向膜１５４は、第２の透明基板１５０の内側主面１５０ｉ上に配置される。

遮光層１５１は、第２の透明基板１５０の内側主面１５０ｉ上に配置される。遮光層１５１は、光を遮光する。遮光層１５１は、複数の開口部１５１ｏを有する。

着色層１５２は、第２の透明基板１５０の内側主面１５０ｉ上に配置され、遮光層１５１の開口部１５１ｏを塞ぐ。着色層１５２は、特定の色を有する光を選択的に透過させる。

ＯＣ層１５３は、遮光層１５１及び着色層１５２上に配置される。ＯＣ層１５３は、透明である樹脂からなる。透明である樹脂は、フォトレジスト等である。ＯＣ層１５３は、遮光層１５１及び着色層１５２により形成される段差を覆って平坦面を提供し、遮光層１５１及び着色層１５２から液晶層１１２への不純物の流出を遮断する。

配向膜１５４は、ＯＣ層１５３上に配置される。配向膜１５４は、ポリイミド等からなる。配向膜１５４には、分子配向処理が行われている。分子配向処理は、ラビング、光照射等である。配向膜１５４は、配向膜１３６が液晶層１１２に含まれる液晶分子を配向させる方位と同じ方位に液晶層１１２に含まれる液晶分子を配向させる。

対向基板１１１は、図示されない透明導電膜を備える。

透明導電膜は、第２の透明基板１５０の外側主面１５０ｅ上に配置される。透明導電膜は、画素電極１３２及び共通電極１３４と同様に、透明であり導電性を有する材料からなる。透明であり導電性を有する材料は、ＩＴＯ、ＩＺＯ等である。透明導電膜は、電気的に接地される。透明導電膜は、静電気による帯電、外部電界による表示不良等を防止する。

液晶表示パネル１０は、図示されない第１の偏光板、第１の粘着層、第２の偏光板及び第２の粘着層を備える。

第１の偏光板及び第１の粘着層は、第１の透明基板１３０の外側主面１３０ｅ上に配置される。第２の偏光板及び第２の粘着層は、第２の透明基板１５０の外側主面１５０ｅ上に配置される。第１の偏光板及び第２の偏光板は、表示領域ＤＲの全体に配置される。

第１の粘着層は、第１の偏光板を第１の透明基板１３０の外側主面１３０ｅに貼り付ける。第２の粘着層は、第２の偏光板を第２の透明基板１５０の外側主面１５０ｅに貼り付ける。

第１の偏光板は、特定の偏光方向を有する偏光を選択的に透過させる。液晶セル１００は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じて透過する光の偏光方向を変調する。第２の偏光板は、特定の偏光方向を有する偏光を選択的に透過させる。これにより、液晶表示パネル１０は、入力された信号に応じた光透過率の面内分布を有する。

液晶表示パネル１０に信号が入力された場合は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた画素電位が画素電極１３２に与えられる。また、共通電位が共通電極１３４に与えられる。これにより、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた電位差が画素電極１３２と共通電極１３４との間に与えられる。また、与えられた電位差に応じた電界が画素電極１３２と画素電極１３２に対向するスリット電極１４０との間に生じる。生じた電界は、スリット電極１４０の開口部１４０ｏ及び液晶層１１２を通る。液晶層１１２を通る電界は、第１の透明基板１３０の内側主面１３０ｉと平行をなす横電界を含む。横電界は、液晶層１１２に含まれる液晶分子の配向状態を変化させる。これにより、液晶セル１００は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じて透過する光の偏光方向を変調する。

液晶層１１２は、液晶層１１２に含まれる液晶分子の配向状態が変化させられることにより潜像が形成される表示媒体層となる。形成された潜像は、第１の偏光板及び第２の偏光板により顕像化される。

液晶セル１００に入射した光は、アレイ基板１１０、液晶層１１２、配向膜１５４及びＯＣ層１５３を順次に透過して遮光層１５１及び遮光層１５１の開口部１５１ｏに到達する。遮光層１５１に到達した光は、遮光層１５１に遮光される。開口部１５１ｏに到達した光は、着色層１５２及び第２の透明基板１５０を順次に透過して液晶セル１００から出射する。したがって、遮光層１５１が配置される領域は、映像を構成する光が出射しない黒色領域となる。また、複数の開口部１５１ｏが配置される領域は、映像を構成する光が出射する複数の画素領域となる。黒色領域は、複数の画素領域に含まれる隣接する画素領域を互いに隔てる。

３ 実施の形態１
３．１ 液晶表示装置
図３は、実施の形態１の液晶表示装置を模式的に図示する断面図である。図４は、実施の形態１の液晶表示装置に備えられる液晶表示パネルの主要部を模式的に図示する斜視図である。

図３に図示される実施の形態１の液晶表示装置３には、下述する輝点欠陥の修正が行われている。

液晶表示装置３は、湾曲型の液晶表示装置である。

液晶表示装置３は、図３に図示されるように、液晶表示パネル１０、透明保護カバー１１及び透明粘着シート１２を備える。また、液晶表示装置３は、図示されないバックライト、光学シート及び筐体を備える。

液晶表示パネル１０、透明保護カバー１１、透明粘着シート１２、バックライト及び光学シートは、湾曲形状を有する。湾曲形状を有する液晶表示パネル１０は、平坦形状を有する液晶表示パネル１０を変形させて元々湾曲形状を有する透明保護カバー１１に固定することにより得られる。液晶表示パネル１０、透明保護カバー１１、透明粘着シート１２、バックライト及び光学シートは、湾曲方向ＣＤに湾曲している。

液晶表示パネル１０は、正面１０ｆ及び正面１０ｂを有する。正面１０ｆは、表示面１０ｄを有する。表示面１０ｄには、映像が表示される。表示面１０ｄは、湾曲方向ＣＤに湾曲した湾曲形状を有する。

透明保護カバー１１は、透明粘着シート１２を挟んで液晶表示パネル１０の正面１０ｆに対向する。バックライトは、光学シートを挟んで液晶表示パネル１０の背面１０ｂに対向する。

液晶表示パネル１０、透明保護カバー１１、透明粘着シート１２、バックライト及び光学シートは、筐体に収容される。筐体は、開口部を有する。開口部には、透明保護カバー１１及び透明粘着シート１２を介して液晶表示パネル１０の表示面１０ｄが対向させられる。

液晶表示パネル１０は、横電界方式の液晶表示パネルである。横電界方式の液晶表示パネルは、広い視野角を有する。このため、下述する輝点欠陥の修正が液晶表示パネル１０に行われた場合は、当該輝点欠陥の修正の効果が顕著に現れる。

液晶表示パネル１０は、横電界方式のひとつであるＦＦＳ方式の液晶表示パネルである。

透明保護カバー１１は、保持面１１ｈを有する。保持面１１ｈは、湾曲方向ＣＤに湾曲し、特定の曲率を有する。透明保護カバー１１は、液晶表示パネル１０を覆う。

透明粘着シート１２は、液晶表示パネル１０を透明保護カバー１１の保持面１１ｈに貼り付ける。これにより、液晶表示パネル１０は、変形されて湾曲形状を有する状態で透明保護カバー１１に固定される。

液晶表示装置３が透明保護カバー１１及び透明粘着シート１２を備えることにより、液晶表示パネル１０の正面１０ｆ側から加えられる外圧に対する液晶表示装置３の耐性、及び液晶表示装置３の耐湿性が向上する。

バックライトは、光を発する。光学シートは、発せられた光を透過させる。光学シートは、透過する光の偏光状態、指向性等を制御する。液晶表示パネル１０は、偏光状態、指向性等が制御された光の一部を透過させる。また、液晶表示パネル１０は、入力された信号に応じた光透過率の面内分布を有する。これにより、液晶表示装置３は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた映像を表示する。表示された映像は、透明保護カバー１１及び透明粘着シート１２越しに筐体の開口部を経由して視認される。

３．２ 液晶表示パネル
液晶表示パネル１０は、図３及び図４に図示されるように、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、表示領域ＤＲ及び額縁領域ＦＲを有する。表示領域ＤＲには、映像が表示される。額縁領域ＦＲは、表示領域ＤＲの外側に配置され、表示領域ＤＲを囲む。液晶表示パネル１０は、複数の画素を有する。複数の画素は、表示領域ＤＲに配置される。

液晶表示パネル１０は、図３及び図４に図示されるように、液晶セル１００を備える。液晶セル１００は、図３及び図４に図示されるように、アレイ基板１１０、対向基板１１１、液晶層１１２及びシール材１１３を備える。また、液晶セル１００は、図示されない柱状スペーサを備える。

対向基板１１１は、アレイ基板１１０に対向する。アレイ基板１１０は、液晶表示パネル１０の背面１０ｂ側に配置される。対向基板１１１は、液晶表示パネル１０の正面１０ｆ側に配置される。液晶層１１２、シール材１１３及び柱状スペーサは、アレイ基板１１０と対向基板１１１とに挟まれる。液晶層１１２及び柱状スペーサは、表示領域ＤＲに配置される。シール材１１３は、額縁領域ＦＲに配置される。シール材１１３は、アレイ基板１１０及び対向基板１１１を互いに貼り合わせ、アレイ基板１１０と対向基板１１１との間の間隙に液晶層１１２を封止する。柱状スペーサは、当該間隙の幅を特定の幅に維持する。

アレイ基板１１０は、ＴＦＴ１３１を備えるＴＦＴアレイ基板である。対向基板１１１は、カラーフィルタ１５２を備えるカラーフィルタ基板である。

アレイ基板１１０は、内側主面１１０ｉ及び外側主面１１０ｅを有する。内側主面１１０ｉは、対向基板１１１が配置される側にある。外側主面１１０ｅは、対向基板１１１が配置される側と反対の側にある。対向基板１１１は、内側主面１１１ｉ及び外側主面１１１ｅを有する。内側主面１１１ｉは、アレイ基板１１０が配置される側にある。外側主面１１１ｅは、アレイ基板１１０が配置される側と反対の側にある。

アレイ基板１１０及び対向基板１１１は、矩形状の平面形状等を有する。アレイ基板１１０は、対向基板１１１の平面形状より大きい平面形状を有する。このため、アレイ基板１１０は、図３及び図４に図示されるように、重ね合わせ部１２０及び突出部１２１を備える。重ね合わせ部１２０は、対向基板１１１に重ね合わされる。突出部１２１は、対向基板１１１の端部から突出する。突出部１２１は、図３及び図４に図示されるように、突出部１２１Ｘ及び突出部１２１Ｙを含む。突出部１２１Ｘは、対向基板１１１の右端部から突出し、アレイ基板１１０の右端部に備えられる。突出部１２１Ｙは、対向基板１１１の下端部から突出し、アレイ基板１１０の下端部に備えられる。アレイ基板１１０の右端部及び下端部は、互いに隣接する。対向基板１１１の右端部及び下端部は、互いに隣接する。

対向基板１１１の外側主面１１１ｅは、表示面１１１ｄを有する。表示面１１１ｄは、表示領域ＤＲに配置される。液晶表示パネル１０は、対向基板１１１の外側主面１１１ｅ及び表示面１１１ｄが凹面となり特定の曲率を有するように湾曲する。液晶表示装置３の用途によっては、対向基板１１１の外側主面１１１ｅ及び表示面１１１ｄが凸面となるように液晶表示パネル１０が湾曲してもよい。

湾曲方向ＣＤは、最大の曲率を有する方向である。湾曲方向ＣＤは、液晶セル１００の長手方向と平行をなす。アレイ基板１１０及び対向基板１１１が矩形状の平面形状を有する場合は、液晶セル１００の長手方向は、矩形状の平面形状を構成する長辺が延びる方向である。

シール材１１３は、樹脂等からなる。

柱状スペーサは、望ましくは、デュアルスペーサ構造を有する。デュアルスペーサ構造を有する柱状スペーサは、互いに異なる２種類の柱状スペーサを含む。互いに異なる２種類の柱状スペーサは、メインスペーサ及びサブスペーサからなる。メインスペーサ及びサブスペーサは、混在する。メインスペーサは、相対的に高い高さを有するスペーサ、又はアレイ基板１１０の内側主面１１０ｉ及び対向基板１１１の内側主面１１１ｉと垂直をなす方向について相対的に長い長さを有するスペーサである。サブスペーサは、相対的に低い高さを有するスペーサ、又はアレイ基板１１０の内側主面１１０ｉ及び対向基板１１１の内側主面１１１ｉと垂直をなす方向について相対的に短い長さを有するスペーサである。柱状スペーサが対向基板１１１に固定されている場合は、通常時には、メインスペーサが、アレイ基板１１０に当たり、間隙の幅の維持に寄与する。しかし、サブスペーサは、アレイ基板１１０に当たらず、間隙の幅の維持に寄与しない。サブスペーサは、外力等により間隙の幅が狭められた場合のみ、アレイ基板１１０に当たり、間隙の幅の維持に寄与する。

３．３ アレイ基板
アレイ基板１１０は、図３に図示されるように、第１の透明基板１３０を備える。

第１の透明基板１３０は、基体となる。第１の透明基板１３０は、透明であり絶縁性を有する材料からなる。透明であり絶縁性を有する材料は、ガラス、石英、プラスチック等である。以下では、透明であり絶縁性を有する材料がガラスであり、第１の透明基板１３０が第１のガラス基板であるとする。

第１のガラス基板１３０は、内側主面１３０ｉ及び外側主面１３０ｅを有する。内側主面１３０ｉは、下述する第２のガラス基板１５０が配置される側にある。外側主面１３０ｅは、下述する第２のガラス基板１５０が配置される側と反対の側にある。

アレイ基板１１０は、図３に図示されるように、スイッチング素子１３１、画素電極１３２、共通電極１３４、絶縁膜１３５及び配向膜１３６を備える。また、アレイ基板１１０は、図示されない複数の走査信号線及び複数の映像信号線を備える。

スイッチング素子１３１、画素電極１３２、共通電極１３４、絶縁膜１３５及び配向膜１３６は、第１のガラス基板１３０の内側主面１３０ｉ上に配置される。スイッチング素子１３１、画素電極１３２、共通電極１３４、絶縁膜１３５及び配向膜１３６は、表示領域ＤＲに配置される。

走査信号線、映像信号線及びスイッチング素子１３１は、第１のガラス基板１３０の内側主面１３０ｉ上に配置される。走査信号線は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた走査信号を伝送する。映像信号線は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた映像信号を伝送する。スイッチング素子１３１は、伝送されてきた走査信号にしたがって伝送された映像信号をスイッチングし、スイッチングされた映像信号に応じた画素電位を画素電極１３２に与える。これにより、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた画素電位が画素電極１３２に与えられる。走査信号線及び映像信号線は、金属膜からなる。したがって、走査信号線及び映像信号線は、遮光層となる。以下では、走査信号線がゲート配線であり、映像信号線がソース配線であり、スイッチング素子１３１がＴＦＴであるとする。

ＴＦＴ１３１は、図示されない半導体層、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を備える。

半導体層は、能動層となる。ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極は、半導体層に重ねられる。ゲート電極は、ゲート配線に電気的に接続される。ゲート電極がゲート配線の一部であってもよい。ソース電極は、ソース配線に電気的に接続される。ドレイン電極は、画素電極１３２に電気的に接続される。図３においては、ドレイン電極と画素電極１３２との間の電気的な接続が、ＴＦＴ１３１と画素電極１３２とを結ぶ線により概念的に描かれている。ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極は、金属膜からなる。したがって、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極は、遮光層となる。

画素電極１３２は、第１のガラス基板１３０の内側主面１３０ｉ上に配置される。画素電極１３２は、平板形状を有する平板電極である。画素電極１３２は、透明であり導電性を有する材料からなる。透明であり導電性を有する材料は、ＩＴＯ、ＩＺＯ等である。

絶縁膜１３５は、ゲート配線、ソース配線、ＴＦＴ１３１及び画素電極１３２に重ねて第１のガラス基板１３０の内側主面１３０ｉ上に配置され、ゲート配線、ソース配線、ＴＦＴ１３１及び画素電極１３２を覆う。絶縁膜１３５は、透明であり絶縁性を有する材料からなる。

絶縁膜１３５は、ＴＦＴ１３１を構成する半導体層、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を互いに隔て半導体層、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を互いに電気的に絶縁する絶縁膜を含む。また、絶縁膜１３５は、ＴＦＴ１３１を覆う絶縁膜を含む。また、絶縁膜１３５は、画素電極１３２及び共通電極１３４を互いに隔て画素電極１３２及び共通電極１３４を互いに電気的に絶縁する電極間絶縁膜を含む。図３においては、これらの絶縁膜の集合がひとつの絶縁膜で描かれている。これらの絶縁膜の各々は、ひとつの絶縁膜からなる単層膜であってもよいし、複数の絶縁膜からなる積層膜であってもよい。

共通電極１３４は、絶縁膜１３５上に配置される。このため、共通電極１３４は、画素電極１３２より上層に配置される。共通電極１３４は、スリット電極１４０を備える。スリット電極１４０は、複数の開口部１４０ｏを有する。スリット電極１４０は、アレイ基板１１０の厚さ方向から平面視された場合に画素電極１３２と重なり、絶縁膜１３５を挟んで画素電極１３２に対向する。複数の開口部１４０ｏの各々は、スリット状の形状を有する。共通電極１３４が、アレイ基板１１０の厚さ方向から平面視された場合にＴＦＴ１１５と重なる開口部を有してもよい。共通電極１３４は、透明であり導電性を有する材料からなる。透明であり導電性を有する材料は、ＩＴＯ、ＩＺＯ等である。

画素電極１３２及び共通電極１３４の両方が、横電界方式の液晶表示パネルに一般的に備えられる、櫛歯状の形状を有する櫛歯電極であってもよい。画素電極１３２が共通電極１３４より上層に配置され、画素電極１３２がスリット電極であり、共通電極１３４が平板電極を備えてもよい。

配向膜１３６は、共通電極１３４に重ねて絶縁膜１３５上に配置され、共通電極１３４を覆う。配向膜１３６は、ポリイミド等からなる。配向膜１３６には、分子配向処理が行われている。分子配向処理は、ラビング、光照射等である。配向膜１３６は、液晶層１１２に含まれる液晶分子を配向させる。

３．４ 対向基板
対向基板１１１は、図３に図示されるように、第２の透明基板１５０を備える。

第２の透明基板１５０は、基体となる。第２の透明基板１５０は、液晶層１１２を挟んで第１の透明基板１３０に対向する。第２の透明基板１５０は、透明であり絶縁性を有する材料からなる。透明であり絶縁性を有する材料は、ガラス、石英、プラスチック等である。以下では、透明であり絶縁性を有する材料がガラスであり、第２の透明基板１５０が第２のガラス基板であるとする。

第２のガラス基板１５０は、内側主面１５０ｉ及び外側主面１５０ｅを有する。内側主面１５０ｉは、第１のガラス基板１３０が配置される側にある。外側主面１５０ｅは、第１のガラス基板１３０が配置される側と反対の側にある。

対向基板１１１は、図３に図示されるように、遮光層１５１、着色層１５２、ＯＣ層１５３及び配向膜１５４を備える。

遮光層１５１、着色層１５２、ＯＣ層１５３及び配向膜１５４は、第２のガラス基板１５０の内側主面１５０ｉ上に配置される。着色層１５２及び配向膜１５４は、表示領域ＤＲに配置される。遮光層１５１及びＯＣ層１５３は、表示領域ＤＲ及び額縁領域ＦＲに配置される。

遮光層１５１は、第２のガラス基板１５０の内側主面１５０ｉ上に配置される。遮光層１５１は、光を遮る。遮光層１５１は、隣接する着色層１５２が配置される領域の間の領域、及び額縁領域ＦＲを遮光する。遮光層１５１は、ブラックマトリックスとも呼ばれる。ブラックマトリックス１５１は、複数の開口部１５１ｏを有する。

着色層１５２は、第２のガラス基板１５０の内側主面１５０ｉ上に配置され、ブラックマトリックス１５１の開口部１５１ｏを塞ぐ。着色層１５２は、特定の色を有する光を選択的に透過させる。着色層１５２は、カラーフィルタとも呼ばれる。カラーフィルタ１５２は、３原色である赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）をそれぞれ選択的に透過させる３種類のカラーフィルタを含む。３種類のカラーフィルタは、直線的に配列される。

ＯＣ層１５３は、ブラックマトリックス１５１及びカラーフィルタ１５２上に配置される。ＯＣ層１５３は、透明である樹脂からなる。透明である樹脂は、フォトレジスト等である。ＯＣ層１５３は、ブラックマトリックス１５１及びカラーフィルタ１５２により形成される段差を覆って平坦面を提供し、遮光層１５１及びカラーフィルタ１５２から液晶層１１２への不純物の流出を遮断する。

配向膜１５４は、ＯＣ層１５３上に配置される。配向膜１５４は、ポリイミド等からなる。配向膜１５４には、分子配向処理が行われている。分子配向処理は、ラビング、光照射等である。配向膜１５４は、配向膜１３６が液晶層１１２に含まれる液晶分子を配向させる方位と同じ方位に液晶層１１２に含まれる液晶分子を配向させる。

上述した柱状スペーサは、対向基板１１１の内側主面１１１ｉに固着され、ＯＣ層１５３の表面に固着される。

対向基板１１１は、図３に図示されるように、透明導電膜１５５を備える。

透明導電膜１５５は、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に配置される。透明導電膜１５５は、表示領域ＤＲの全体に配置される。透明導電膜１５５は、透明であり導電性を有する材料からなる。透明であり導電性を有する材料は、ＩＴＯ、ＩＺＯ等である。透明導電膜１５５は、電気的に接地される。透明導電膜１５５は、「裏面ＩＴＯ」等とも呼ばれ、静電気による帯電、外部電界による表示不良等を防止する。

３．５ ガラス基板の厚さ
第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０は、望ましくは、０．２ｍｍ未満の厚さを有する。これにより、第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０の可撓性が向上し、平坦形状を有する液晶表示パネル１０を変形させることにより湾曲形状を有する液晶表示パネル１０を得ることが容易になる。０．２ｍｍ未満の厚さを有する第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０は、ガラス基板を薄板化すること等により得ることができる。第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０は、さらに望ましくは、約０．１５ｍｍの厚さを有する。この場合は、中心値が０．１５ｍｍでありばらつきが中心値の±２０％の範囲内に収まるように第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０の厚さが管理される。第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０がこのように極めて薄い厚さを有することにより、平坦形状を有する液晶表示パネル１０を容易に変形させることができ、下述する輝点欠陥の効果を効果的に発揮させることができる。

３．６ 走査信号及び映像信号の供給
液晶表示パネル１０は、図３及び図４に図示されるように、制御基板１３及びフレキシブルフラットケーブル（ＦＦＣ）１４を備える。アレイ基板１１０は、図３及び図４に図示されるように、信号端子１３７を備える。また、アレイ基板１１０は、図示されない駆動集積回路（ＩＣ）チップ及び引き出し配線を備える。制御基板１３は、図示されない制御ＩＣチップを備える。制御基板１３は、図４に図示されるように、制御基板１３Ｘ及び制御基板１３Ｙを含む。ＦＦＣ１４は、図４に図示されるように、ＦＦＣ１４Ｘ及びＦＦＣ１４Ｙを含む。信号端子１３７は、図４に図示されるように、信号端子１３７Ｘ及び信号端子１３７Ｙを含む。駆動ＩＣチップは、図示されないゲート配線用の駆動ＩＣチップ及びソース配線用の駆動ＩＣチップを含む。引き出し配線は、図示されないゲート配線用の引き出し配線及びソース配線用の引き出し配線を含む。

信号端子１３７、駆動ＩＣチップ及び引き出し配線は、第１のガラス基板１３０の内側主面１３０ｉ上に配置される。信号端子１３７及び駆動ＩＣチップは、額縁領域ＦＲに配置され、突出部１２１に備えられる。信号端子１３７は、複数のパッドを備える。複数のパッドは、アレイ基板１１０の端面が延びる方向に配列される。複数のパッドの各々は、矩形状の平面形状を有する。

信号端子１３７Ｘ及びゲート配線用の駆動ＩＣチップは、突出部１２１Ｘに備えられる。信号端子１３７Ｙ及びソース配線用の駆動ＩＣチップは、突出部１２１Ｙに備えられる。

制御基板１３Ｘは、ＦＦＣ１４Ｘを介して信号端子１３７Ｘに備えられる複数のパッドに電気的に接続される。信号端子１３７Ｘに備えられる複数のパッドは、ゲート配線用の駆動ＩＣチップの入力側に電気的に接続される。ゲート配線用の駆動ＩＣチップの出力側は、ゲート配線用の引き出し配線を介してゲート配線に電気的に接続される。制御基板１３Ｙは、ＦＦＣ１４Ｙを介して信号端子１３７Ｙに備えられる複数のパッドに電気的に接続される。信号端子１３７Ｙに備えられる複数のパッドは、ソース配線用の駆動ＩＣチップの入力側に電気的に接続される。ソース配線用の駆動ＩＣチップの出力側は、ソース配線用の引き出し配線を介してソース配線に電気的に接続される。

制御基板１３Ｘに備えられる制御ＩＣチップは、互いに異なる複数の信号を含む制御信号を生成する。ＦＦＣ１４Ｘは、生成された制御信号を制御基板１３Ｘから信号端子１３７Ｘまで伝送する。ゲート配線用の駆動ＩＣチップは、伝送されてきた制御信号に応じた走査信号を生成する。ゲート配線用の引き出し配線は、生成された走査信号をゲート配線用の駆動ＩＣチップからゲート配線まで伝送する。これにより、ゲート配線に走査信号が供給される。制御基板１３Ｙに備えられる制御ＩＣチップは、互いに異なる複数の信号を含む制御信号を生成する。ＦＦＣ１４Ｙは、生成された制御信号を制御基板１３Ｙから信号端子１３７Ｙまで伝送する。ソース配線用の駆動ＩＣチップは、伝送されてきた制御信号に応じた映像信号を生成する。ソース配線用の引き出し配線は、生成された映像信号をソース配線用の駆動ＩＣチップからソース配線まで伝送する。これにより、ソース配線に映像信号が供給される。

ＦＦＣ１４が他の種類の接続配線に置き換えられてもよい。

走査信号を供給するための制御基板１３Ｘ、ＦＦＣ１４Ｘ及び信号端子１３７Ｘからなる要素群、並びに映像信号を供給するための制御基板１３Ｙ、ＦＦＣ１４Ｙ及び信号端子１３７Ｙからなる要素群からなる２種類の要素群が、走査信号及び映像信号を供給するための制御基板、ＦＦＣ及び信号端子からなる１種類の要素群に置き換えられてもよい。当該１種類の要素群を構成する信号端子は、突出部１２１Ｘ及び突出部１２１Ｙのいずれに備えられてもよい。

３．７ 透明導電膜の接地
液晶表示パネル１０は、図示されない導電テープを備える。アレイ基板１１０は、図示されないアースパッドを備える。アースパッドは、突出部１２１に備えられる。

導電テープの一端は、アースパッドに貼り付けられる。導電テープの他端は、透明導電膜１５５に貼り付けられる。これにより、透明導電膜１５５は、導電テープを介してアースパッドに電気的に接続される。これにより、透明導電層１５５が接地される。

導電テープは、母材及び導電接着剤層を備える。母材は、金属箔からなる。金属箔は、アルミニウム（Ａｌ）箔、銅（Ｃｕ）箔等である。導電接着剤層は、母材上に配置される。導電接着剤層は、導電接着剤を母材上に塗布することにより形成される。導電テープは、市販されている一般的な導電テープであってもよい。

導電テープが、導電ペースト膜に置き換えられてもよい。導電ペースト膜は、透明導電層１５５及びアースパッドに跨って設置される。導電ペースト膜は、導電ペーストを透明導電層１５５からアースパッドに渡って塗布することにより形成される。導電ペーストは、銀ペースト等の一般的な導電ペーストであってもよい。

３．８ 偏光板
液晶表示パネル１０は、第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２を備える。また、液晶表示パネル１０は、図示されない第１の粘着層及び第２の粘着層を備える。

第１の偏光板１０１及び第１の粘着層は、第１の透明基板１３０の外側主面１３０ｅ上に配置される。第２の偏光板１０２及び第２の粘着層は、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に配置される。第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２は、表示領域ＤＲの全体に配置される。

第１の粘着層は、第１の偏光板１０１を第１の透明基板１３０の外側主面１３０ｅに貼り付ける。第２の粘着層は、第２の偏光板１０２を第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅに貼り付ける。

第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２の各々は、ひとつの光学部材からなる単板であってもよいし、複数の光学部材からなる積層板であってもよい。複数の光学部材は、互いに貼り合わされる。複数の光学部材は、偏光板（偏光フィルム層）を含む。複数の光学部材が保護層（ＴＡＣ層）、位相差板、視野角補正用（ワイドビュ）フィルム等を含んでもよい。

３．９ 光の偏光方向の変調
第１の偏光板１０１は、特定の偏光方向を有する偏光を選択的に透過させる。液晶セル１００は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じて透過する光の偏光方向を変調する。第２の偏光板１０２は、特定の偏光方向を有する偏光を選択的に透過させる。これにより、液晶表示パネル１０は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた光透過率の面内分布を有する。

制御基板１３２から液晶セル１００に制御信号が入力された場合は、液晶セル１００に入力された制御信号に応じた画素電位が画素電極１３２に与えられる。また、共通電位が共通電極１３４に与えられる。これにより、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じた電位差が画素電極１３２と共通電極１３４との間に与えられる。また、与えられた電位差に応じた強さを有する電界が画素電極１３２とスリット電極１４０との間に生じる。生じた電界は、スリット電極１４０の開口部１４０ｏ及び液晶層１１２を通る。液晶層１１２を通る電界は、第１のガラス基板１３０の内側主面１３０ｉと平行をなす横電界を含む。横電界は、液晶層１１２に含まれる液晶分子の配向状態を変化させる。これにより、液晶セル１００は、液晶表示パネル１０に入力された信号に応じて透過する光の偏光方向を変調する。

３．１０ 画素領域及び黒色領域
液晶セル１００に入射した光は、アレイ基板１１０、液晶層１１２、配向膜１５４及びＯＣ層１５３を順次に透過してブラックマトリクス１５１及びブラックマトリクス１５１の開口部１５１ｏに到達する。ブラックマトリクス１５１に到達した光は、ブラックマトリクス１５１に遮光される。開口部１５１ｏに到達した光は、カラーフィルタ１５２及び第２のガラス基板１５０を順次に透過して液晶セル１００から出射する。したがって、ブラックマトリクス１５１が配置される領域は、映像を構成する光が出射しない黒色領域となる。また、複数の開口部１５１ｏが配置される領域は、映像を構成する光が出射する複数の画素領域となる。黒色領域は、複数の画素領域に含まれる隣接する画素領域を互いに隔てる。

３．１１ 表示媒体層
液晶層１１２は、液晶層１１２に含まれる液晶分子の配向状態が変化させられることにより潜像が形成される表示媒体層となる。形成された潜像は、バックライト、第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２により顕像化される。

３．１２ 輝点欠陥の修復により得られる構造
図５は、実施の形態１の液晶表示装置の主要部を模式的に図示する拡大断面図である。図５は、ふたつの画素を構成する部分を図示する。

液晶表示装置３は、図５に図示されるように、液晶表示パネル１０及び遮光膜１５を備える。

液晶表示パネル１０は、図５に図示されるように、複数の画素領域ＰＲ及び黒色領域ＢＲを有する。複数の画素領域ＰＲからは、映像を構成する光が出射する。黒色領域ＢＲからは、映像を構成する光が出射しない。複数の画素領域ＰＲは、上述したように、ブラックマトリクス１５１の複数の開口部１５１ｏが配置される領域である。黒色領域ＢＲは、上述したように、ブラックマトリクス１５１が配置される領域である。

複数の画素領域ＰＲは、図５に図示されるように、欠陥画素領域ＤＰＲ及び隣接画素領域ＡＰＲを含む。欠陥画素領域ＤＰＲには、輝点欠陥が生じている。隣接画素領域ＡＰＲには、輝点欠陥が生じていない。隣接画素領域ＡＰＲは、欠陥画素領域ＤＰＲに隣接する。黒色領域ＢＲは、欠陥画素領域ＤＰＲと隣接画素領域ＡＰＲとを互いに隔て、幅Ｗ２を有する。

欠陥画素領域ＤＰＲは、液晶表示パネル１０に入力される信号にかかわらず常に光が出射する、正常でない画素領域である。欠陥画素領域ＤＰＲにおいては、欠陥画素領域ＤＰＲを有する画素に備えられるＴＦＴ１３１等の異常により当該ＴＦＴ１３１に備えられるゲート電極又はソース電極に与えられた電位がそのまま当該画素に備えられる画素電極１３２に与えられる。このため、欠陥画素領域ＤＰＲにおいては、液晶表示パネル１０に入力される信号にかかわらず、当該画素に備えられる画素電極１３２と当該画素に備えられるスリット電極１４０との間に電位差が与えられ、液晶層１１２を通る横電界が生じ、当該画素が常に高い光透過率を有する。他の原因により当該画素が常に高い光透過率を有する場合もある。

隣接画素領域ＡＰＲは、液晶表示パネル１０に入力される信号に応じた輝度を有する光が出射する、正常な画素領域である。

液晶表示パネル１０は、保証された視野角を有する。このため、液晶表示パネル１０は、正面から観察されるだけでなく、斜めからも観察される。このため、液晶表示装置３には、正面から観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たないことが求められるだけでなく、斜めから観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たないことも求められる。また、液晶表示パネル１０は、広い視野角を有する横電界方式の液晶表示パネルである。このため、液晶表示装置３は、広い視野角内において優れたコントラスト特性及びカラーバランス特性を有し、広い視野角内において高い表示品位を有する。このため、液晶表示パネル１０は、広い視野角内において斜めから観察される。このため、液晶表示装置３には、広い視野角内において斜めから観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たないことが求められる。

遮光膜１５は、輝点欠陥となる画素を目立なくする輝点欠陥の修正のために設けられる。遮光膜１５は、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に配置される。遮光膜１５は、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、欠陥画素領域ＤＰＲと重なり、欠陥画素領域ＤＰＲから幅Ｗだけはみ出す。このため、遮光膜１５は、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、欠陥画素領域ＤＰＲと重なり、欠陥画素領域ＤＰＲに隣接し欠陥画素領域ＤＰＲを囲み幅Ｗを有する周辺領域ＰＥＲとも重なる。また、遮光膜１５は、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、輝点欠陥となる画素内のブラックマトリクス１５１の開口部１５１ｏと重なり、輝点欠陥となる画素内のブラックマトリクス１５１とも重なる。液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に遮光膜１５が欠陥画素領域ＤＰＲと重なることにより、欠陥画素領域ＤＰＲから正面方向に出射した光は、遮光膜１５により遮光される。これにより、正面から液晶表示パネル１０が観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たなくなる。また、液晶表示パネル１０が厚さ方向から平面視された場合に遮光膜１５が周辺領域ＰＥＲと重なることにより、欠陥画素領域ＤＰＲから斜め方向に出射した光は、遮光膜１５により遮光又は減光される。これにより、斜めから液晶表示パネル１０が観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たなくなる。

遮光膜１５は、遮光性を有する材料からなる。遮光性を有する材料は、黒インク、黒色レジスト等である。遮光性を有する材料が、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に配置される要素の一部を変質させることにより得られる材料であってもよい。例えば、遮光性を有する材料が、第２の偏光板１０２の一部を変質させることにより得られる材料であってもよい。変質させられる要素は、望ましくは、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅに近い要素であり、さらに望ましくは、偏光板１４２を構成する保護層（ＴＡＣ層）、粘着層等である。

欠陥画素領域ＤＰＲから斜め方向に出射する光は、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗが大きくなるほど、強く遮光又は減光される。このため、欠陥画素領域ＤＰＲから斜め方向に出射する光は、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗが大きくなるほど、視認されにくくなる。そこで、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗは、視野角内から液晶表示パネル１０が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されなくなる下限値の幅Ｗ１以上にされる。遮光膜１５が形成される際には、遮光膜１５を形成するプロセスにおいて生じる遮光膜１５の位置精度及び寸法精度が考慮され、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗが下限値の幅Ｗ１より小さくならない範囲内において周辺領域ＰＥＲの幅Ｗの狙い値が最小の狙い値に設定される。

一方、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗが著しく大きくなった場合は、隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が遮光又は減光される。このため、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗが著しく大きくなった場合は、隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が視認されにくくなる。そこで、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗは、望ましくは、隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が視認されにくくならない上限値の幅以下にされる。そして、上限値の幅を黒色領域ＢＲの幅Ｗ２とすることにより、液晶表示パネル１０が厚さ方向から平面視された場合に遮光膜１５が隣接画素領域ＡＰＲと重ならず、液晶表示パネル１０が厚さ方向から平面視された場合に遮光膜１５が輝点欠陥とならない画素内のブラックマトリクス１５１の開口部１５１ｏと重ならず、輝点欠陥とならない画素を視認することが阻害されなくなる。

下限値の幅Ｗ１が計算される際に用いられる視野角θは、望ましくは、液晶表示装置３が出荷される前に行われる点灯検査において採用される観察角度を目安にして設定される。当該観察角度は、見込み角とも呼ばれる。例えば、点灯検査において、検査者が、視野角に応じて設定される観察角度から液晶表示パネル１０を観察し、輝点欠陥となる画素の有無を判定する場合は、視野角θは、当該観察角度を目安にして設定される。また、下限値の幅Ｗ１が計算される際に行われる、視野角θ内から観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されるか否かの判定は、望ましくは、液晶表示装置３が出荷される前に行われる点灯検査における液晶表示パネル１０の良否判定の基準にしたがって行われる。例えば、点灯検査において、検査者が、減光（ＮＤ）フィルタを介して液晶表示パネル１０を観察し、輝点欠陥となる画素の有無を判定する場合は、ＮＤフィルタを介して視野角θ内から観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されるか否かの判定が行われる。当該ＮＤフィルタは、例えば、透過光量を入射光量の１／１０以下に減じるＮＤフィルタである。この場合は、下限値の幅Ｗ１は、透過光量を入射光量の１／１０以下に減じるＮＤフィルタを介して視野角内から液晶表示パネル１０が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されなくなる幅である。これらにより、視野角の仕様、輝点欠陥の観察条件、観察者等の影響を抑制することができる。

第２のガラス基板１５０は、図５に図示されるように、遮光膜１５が配置される部分１６０及び残余部分１６１を備える。部分１６０は、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲと重なり、遮光膜１５と重なる。残余部分１６１は、部分１６０以外であり、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲと重ならず、遮光膜１５と重ならない。遮光膜１５は、部分１６０上に配置される。第２のガラス基板１５０の厚さは、均一である。このため、部分１６０は、残余部分１６１の厚さと同じ厚さｔを有する。

下限値の幅Ｗ１は、望ましくは、設定された視野角θ、第２のガラス基板１５０の遮光膜１５が配置される部分１６０の厚さｔ、及び第２のガラス基板１５０の屈折率ｎを用いて式（１）により計算される下限値の幅Ｗ１である。

Ｗ１＝ｔ×ｔａｎ｛ｓｉｎ^−１（ｓｉｎθ／ｎ）｝・・・（１）

周辺領域ＰＥＲの幅Ｗが式（１）により計算される下限値の幅Ｗ１である場合は、図５に図示されるように、最も視認されやすい欠陥画素領域ＤＰＲの端部から正面方向と角度θをなす斜め方向に出射する光Ｌの光路上に遮光膜１５の端部が配置される。このため、欠陥画素領域ＤＰＲの端部から当該斜め方向に出射し遮光膜１５に遮光されない光の光量は０になり、当該光は視認されない。加えて、欠陥画素領域ＤＰＲの端部以外から当該斜め方向に出射する光の光路上にも遮光膜１５が配置される。このため、欠陥画素領域ＤＰＲの端部以外から当該斜め方向に出射し遮光膜１５に遮光されない光の光量も０になり、当該光も視認されない。これらにより、欠陥画素領域ＤＰＲから当該斜め方向に出射し遮光膜１５に遮光されない光の光量が０になり、当該光が視認されない。

したがって、式（１）により計算される下限値の幅Ｗ１によれば、視野角θ内から液晶表示パネル１０が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されなくなるように過不足なく当該光を斜光することができる周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを得ることができる。

式（１）からは、視野角θが大きくなるほど、下限の幅Ｗ１が大きくなり、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを大きくしなければならないことを理解することができる。一方で、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗが黒色領域の幅Ｗ２より大きい場合は、隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が遮光膜１５により遮光又は減光され、液晶表示装置３の表示品位が低下する。したがって、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗは、視野角θ、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗと黒色領域ＢＲの幅Ｗ２との大小関係、並びに下限値の幅Ｗ１が依存する視野角θ、遮光膜１５が配置される部分１６０の厚さｔ、及び第２のガラス基板１５０の屈折率ｎを考慮して最適に決定される。

視野角θが液晶表示パネル１０の保障された視野角と同じに設定された場合は、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを視野角θを用いて計算される幅Ｗ１以上とすることにより、保障された視野角内から液晶表示パネル１０が観察されたときに欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が完全に遮光される。このため、欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されなくなる。

一方、視野角θが液晶表示パネル１０の保障された視野角より若干小さく設定された場合は、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを視野角θを用いて計算される幅Ｗ１以上としても、保障された視野角内から液晶表示パネル１０が観察されたときに欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が減光されるが完全に遮光されないことがある。しかし、欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が完全に遮光されない場合であっても、欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が十分に減光され、欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されない。

欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が完全に遮光されることは望ましいことであるから、厳しい基準が採用される場合は、視野角θが液晶表示パネル１０の保障された視野角と同じに設定される。しかし、緩やかな基準が採用される場合は、視野角θが液晶表示パネル１０の保障された視野角より若干小さく設定される。この場合は、設定された視野角θ内から液晶表示パネル１０が観察されたときには、欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が完全に遮光される。このため、欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されない。また、設定された視野角θ外であって保障された視野角内から液晶表示パネル１０が観察されたときには、欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が十分に減光される。このため、欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されない。これにより、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを視野角θを用いて計算される下限値の幅Ｗ１以上とすること、及び周辺領域ＰＲの幅Ｗを上限値の幅Ｗ２以下にすることを両立することが容易になる。

液晶表示パネル１０は、上述したように、横電界方式の液晶表示パネルである。また、横電界方式の液晶表示パネルは、多くの場合は、左右方向について視野角４５°内から観察された場合に輝点欠陥となる画素が概ね視認されなければ良品であると判定される。このため、視野角θは、望ましくは、４５°に設定される。

式（１）からは、遮光膜が配置される部分１６０の厚さｔが小さくなるほど、視野角θに対する下限の幅Ｗ１の比が小さくなることを理解することができる。このため、厚さｔが小さくなるほど、視野角θに対する周辺領域ＰＥＲの幅Ｗの比を小さくすることができる。これにより、厚さｔが小さくなった場合は、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを黒色領域ＢＲの幅Ｗ２以下にすること、又は周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを黒色領域ＢＲの幅Ｗ２より大きくせざるを得ない場合に周辺領域ＰＥＲの幅Ｗと黒色領域ＢＲの幅Ｗ２との差を小さくすることが容易になる。したがって、隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が視認されにくくなることを抑制することができ、液晶表示装置３の表示品位が低下することを抑制することができる。この効果は、厚さｔが０．３ｍｍ未満である場合に得ることができる。このため、厚さｔが上述したように０．２ｍｍ未満である場合又は約０．１５ｍｍである場合は、隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が視認されにくくなることを効果的に抑制することができ、液晶表示装置３の表示品位が低下することを効果的に抑制することができる。

３．１３ 液晶表示装置の製造
図６及び図７は、実施の形態１の液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。

液晶表示装置３が製造される際には、図６及び図７に図示されるステップＳ１１１からＳ１１４までにおいて液晶表示装置３が組み立てられる、また、図７に図示されるステップＳＴＳにおいて、液晶表示パネル１０の中間品に対して点灯検査が行われる。また、図７に図示されるステップＳＲＥにおいて、輝点欠陥となる画素を有する液晶表示パネル１０の中間品に輝点欠陥となる画素を目立たなくする輝点欠陥の修正が行われる。

液晶表示装置３が製造される際には、マザーアレイ基板の中間品及びマザー対向基板の中間品が作製される。マザーアレイ基板の中間品が作製される際には、マザーガラス基板の一方の主面上にゲート配線、ソース配線、ＴＦＴ１３１、画素電極１３２、共通電極１３４、絶縁膜１３５、信号端子１３７等が一般的な方法により形成される。マザー対向基板の中間品が作製される際には、マザーガラス基板の一方の主面上にブラックマトリックス１５１、カラーフィルタ１５２、ＯＣ層１５３、柱状スペーサ等が一般的な方法により形成される。ただし、マザー対向基板の中間品が作製される際には、一般的な横電界方式の液晶表示パネルを備える液晶表示装置が作製される場合と異なり、マザーガラス基板の他方の主面上に透明導電膜１５５が形成されない。その理由については、下述する。

また、ステップＳ１０１からＳ１０３までが順次に実行されて、作製されたマザーアレイ基板の中間品及びマザー対向基板の中間品からそれぞれマザーアレイ基板及びマザー対向基板が作製される。作製されるマザーアレイ基板及びマザー対向基板は、それぞれアレイ基板１１０及び対向基板１１１の平面形状より大きな平面形状を有する。作製されるマザーアレイ基板及びマザー対向基板には、それぞれ少なくともひとつのアレイ基板１１０の中間品及び少なくともひとつの対向基板１１１の中間品が面付けされている。

また、ステップＳ１０４からＳ１１０までが順次に実行されて、作製されたマザーアレイ基板及びマザー対向基板からマザーセル基板が作製される。作製されるマザーセル基板は、液晶セル１００の平面形状より大きな平面形状を有する。作製されるマザーセル基板には、少なくともひとつの液晶セル１００が面付けされている。

また、ステップＳ１１１が実行されて、作製されたマザーセル基板から少なくともひとつの液晶セル１００が切り出される。多くの場合は、マザーセル基板からから複数の液晶セル１００が切り出される。マザーセル基板から複数の液晶セル１００を切り出すことは、液晶セル１００の「多面取り」とも呼ばれる。

また、ステップＳ１１２からＳ１１４までが順次に実行されて、切り出された液晶セル１００から液晶表示パネル１０が作製され、作製された液晶表示パネル１０を備える液晶表示装置３が組み立てられる。

ステップＳ１０１においては、作製されたマザーアレイ基板の中間品及びマザー対向基板の中間品が洗浄される。

続くステップＳ１０２においては、洗浄されたマザーアレイ基板の中間品の一方の主面上に配向膜１３６が形成される。また、洗浄されたマザー対向基板の中間品の一方の主面上に配向膜１５４が形成される。配向膜１３６及び配向膜１５４が形成される際には、それぞれ配向膜１３６及び配向膜１５４が形成される主面上に配向膜１３６及び配向膜１５４を構成する配向膜材料及び溶剤を含む塗布液が塗布されて塗布膜が形成され、形成された塗布膜から溶剤が揮発させられて塗布膜が乾燥させられる。配向膜材料は、有機材料等である。有機材料は、ポリイミド等である。塗布液は、フレキソ印刷法により塗布液を主面上に転写塗布すること等により主面上に塗布される。塗布液がフレキソ印刷法により主面上に転写塗布される際には、転写ローラの表面に塗布液が塗布され、塗布液が塗布された転写ローラが主面に接触させられた状態で転写ローラが主面に対して特定の転写方向に移動させられる。塗布膜は、ホットプレート等により加熱することにより乾燥させられる。塗布液が乾燥させられる際の温度は、約２００℃である。

続くステップＳ１０３においては、形成された配向膜１３６及び配向膜１５４に分子配向処理が行われる。分子配向処理は、ラビング、光照射等である。これにより、互いに貼り合わされるマザーアレイ基板及びマザー対向基板が作製される。

続くステップＳ１０４においては、作製されたマザーアレイ基板及びマザー対向基板の一方の基板の一方の主面上にシール材１１３が形成される。シール材１１３が形成される際には、シール材１１３が形成される主面上にペースト状のシール剤が塗布される。シール剤は、シールディスペンサ装置等により塗布される。シール剤がシールディスペンサ装置により塗布される場合は、シールディスペンサ装置のディスペンサノズルからシール材１１３が形成される主面に向かってシール剤が吐出される。シール剤は、表示領域ＤＲを囲む領域に塗布され、枠状のパターンを有する。

続くステップＳ１０５においては、シール材１１３が形成された主面上に液晶が滴下される。液晶は、シール材１１３が形成された領域に囲まれる領域に滴下される。

続くステップＳ１０６においては、マザーアレイ基板及びマザー対向基板が互いに貼り合わされる。マザーアレイ基板及びマザー対向基板は、真空下で互いに貼り合わされる。

続くステップＳ１０７においては、形成されたシール材１０３が仮硬化させられる。シール材１０３は、シール材１０３に紫外線を照射することにより仮硬化させられる。

続くステップＳ１０８においては、仮硬化したシール材１０３にアフターキュアが行われる。シール材１０３にアフターキュアが行われる際には、シール材１０３が加熱される。これにより、シール材１０３が完全に硬化させられる。

続くステップＳ１０９においては、マザーアレイ基板及びマザー対向基板に備えられるマザーガラス基板が薄板化される。例えば、約０．５ｍｍの厚さを有するマザーガラス基板がそれらの厚さが約０．１５ｍｍになるまで研磨されて薄板化される。この場合は、中心値が０．１５ｍｍでありばらつきが中心値の±２０％の範囲内に収まるようにマザーガラス基板の厚さが管理される。マザーガラス基板は、薬液を用いて化学研磨を行うウエットエッチング、研磨剤により擦る物理研磨等によりマザーガラス基板の他方の主面を削ることにより薄板化される。薄板化は、スリミングとも呼ばれる。これにより、下述するステップ１１４において平坦形状を有する液晶表示パネル１０を変形させて湾曲形状を有する液晶表示パネル１０を得ることが容易になる。

続くステップＳ１１０においては、薄板化された、マザー対向基板に備えられるマザーガラス基板の他方の主面上に透明導電膜１５５が形成される。これにより、マザーセル基板が作製される。透明導電膜１５５は、スパッタリング等により形成される。マザー対向基板の中間品が作製される途上ではなくステップＳ１１０において透明導電膜１５５が形成されるのは、ステップＳ１０９において薄板化されたマザーガラス基板の他方の主面上に透明導電膜１５５を形成する必要があるためである。

続くステップＳ１１１においては、作製されたマザーセル基板が複数の液晶セル１００に分断される。マザーセル基板が分断される際には、マザーセル基板がスクライブラインに沿って切断される。

続くステップＳ１１２においては、得られた液晶セル１００に第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられる。これにより、液晶表示パネル１０の中間品が作製される。

続くステップＳＴＳにおいては、作製された液晶表示パネル１０の中間品に対して点灯検査が行われる。

点灯検査が行われる際には、得られた液晶表示パネル１０の中間品が良品及び不良品のいずれであるのかが判定される。

点灯検査が行われる際には、点欠陥、線欠陥、表示ムラ等の検査が順次に行われる。点欠陥には、輝点欠陥が含まれる。線欠陥は、配線の断線、配線間の短絡等により生じる。これらの検査のすべてについて良品であると判定された液晶表示パネル１０の中間品は、良品であると判定される。

ステップＳＴＳにおいて点灯検査が行われた後にステップＳ１１２において第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられてもよい。この場合は、第１の偏光板１０１と同様の機能を有する点灯検査用の第１の偏光板、及び第２の偏光板１０２と同様の機能を有する点灯検査用の第２の偏光板が点灯検査に用いる装置に設けられ、点灯検査用の第１の偏光板が第１のガラス基板１３０の外側主面１３０ｅ上に配置され、点灯検査用の第２の偏光板が第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に配置された状態で点灯検査が行われる。

検査者は、輝点欠陥の検査を行った際に輝点欠陥であると判定すべきか否かに迷う弱い輝点を発見した場合は、上述したＮＤフィルタを介して液晶表示パネル１０の中間品を観察する。また、検査者は、ＮＤフィルタを介して液晶表示パネル１０の中間品を観察した場合でも輝点を視認することができるときは、輝点を輝点欠陥であると判定する。

また、検査者は、輝点欠陥の検査について、液晶表示パネル１０の中間品が輝点欠陥を有しない場合は、当該液晶表示パネル１０の中間品が良品であると判定し、液晶表示パネル１０の中間品が輝点欠陥を有する場合は、当該液晶表示パネル１０の中間品が不良品であると判定する。また、検査者は、点欠陥の検査について不良品であると判定した液晶表示パネル１０の中間品について、輝点欠陥となる画素の位置等を記録する。これにより、欠陥画素領域ＤＰＲが特定される。

ステップＳＲＥにおいては、輝点欠陥の検査について不良品であると判定された液晶表示パネル１０の中間品に輝点欠陥の修正が行われる。

輝点欠陥の修正が行われる際には、上述した遮光膜１５が第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に形成される。遮光膜１５は、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、欠陥画素領域ＤＰＲと重なり、欠陥画素領域ＤＰＲからはみ出す。このため、遮光膜１５は、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、欠陥画素領域ＤＰＲと重なり、欠陥画素領域ＤＰＲに隣接する周辺領域ＰＥＲとも重なる。また、遮光膜１５は、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、輝点欠陥となる画素内のブラックマトリクス１５１の開口部１５１ｏと重なり、輝点欠陥となる画素内のブラックマトリクス１５１とも重なる。

遮光膜１５は、遮光性を有する材料からなる。遮光性を有する材料は、黒インク、黒色レジスト等である。遮光性を有する材料が、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に配置される要素の一部を変質させることにより得られる材料であってもよい。例えば、遮光性を有する材料が、偏光板１４２の一部を変質させることにより得られる材料であってもよい。変質させられる要素は、望ましくは、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅに近い要素であり、さらに望ましくは、第２の偏光板１０２を構成する保護層（ＴＡＣ層）、粘着層等である。

遮光性を有する材料が黒インク、黒色レジスト等であり、ステップＳ１１２において第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられた後に、ステップＳＴＳにおいて点灯検査が行われ、ステップＳＲＥにおいて輝点欠陥の修正が行われる場合は、第２の偏光板１０２がいったん剥離され、遮光膜１５が形成され、第２の偏光板１０２が再び貼り付けられる。上述したようにステップＳＴＳにおいて点灯検査が行われた後にステップＳ１１２において第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられる場合は、ステップＳＲＥにおいて輝点欠陥の修正が行われた後にステップＳ１１２において第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられることにより、第２の偏光板１０２をいったん剥離する工程を省略することができる。これにより、第２の偏光板１０２を剥離する工程により第２のガラス基板１５０が損傷することを抑制することができる。この利点は、第２のガラス基板１５０が小さな厚さしか有しない場合、特に第２のガラス基板１５０が約０．１５ｍｍの厚さしか有さず第２のガラス基板１５０が損傷しやすい場合に特に顕著になる。

遮光性を有する材料が第２の偏光板１０２の一部を変質させることにより得られる材料である場合は、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅに第２の偏光板１０２を配置したまま遮光膜１５を形成することができる。これにより、第２の偏光板１０２を剥離する工程により第２のガラス基板１５０が損傷することを抑制することができる。この利点は、第２のガラス基板１５０が小さな厚さしか有しない場合、特に第２のガラス基板１５０が約０．１５ｍｍの厚さしか有さず第２のガラス基板１５０が損傷しやすい場合に特に顕著になる。また、ステップＳ１１２において第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられた後にステップＳＲＥにおいて輝点欠陥の修正が行われなければならないが、ステップＳ１１２における第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２の貼り付け、及びステップＳＴＳにおける点灯検査のいずれを先に実行するかは任意である。

遮光性を有する材料が黒インク、黒色レジスト等である場合、及び遮光性を有する材料が第２の偏光板１０２の一部を変質させることにより得られる材料である場合のいずれにおいても、遮光膜１５は、液晶表示パネル１０の厚さ方向から平面視された場合に、欠陥画素領域ＤＰＲと重なり、周辺領域ＰＥＲとも重ならなければならない。このため、遮光膜１５は、高い位置精度及び高い寸法精度を有しなければならない。

したがって、遮光性を有する材料が黒インク、黒色レジスト等である場合は、望ましくは、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲを含む領域に重なる遮光膜が形成され、形成された遮光膜がフォトリソグラフィーによりパターニングされ、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲに重なる部分が選択的に残される。遮光膜が形成される際には、感光性を有する遮光性材料を含む塗布液が塗布されて塗布膜が形成され、形成された塗布膜が乾燥させられる。塗布液は、印刷、スピン塗布等により塗布される。印刷は、インクジェット方式の印刷等である。遮光性材料がポジ型の材料である場合は、遮光膜がパターニングされる際に、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲの平面形状と同様の平面形状を有する開口を有するマスクが準備され、準備されたマスクの開口を介して塗布膜に光が照射されて塗布膜に含まれる遮光性材料が感光させられる。また、感光されなかった遮光性材料が除去される。遮光性材料がネガ型の材料である場合は、遮光膜がパターニングされる際に、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲの平面形状と同様の平面形状を有する遮光部を有するマスクが準備され、準備されたマスクの開口を介して塗布膜に光が照射されて塗布膜に含まれる遮光性材料が感光させられる。また、感光された遮光性材料が除去される。照射される光は、紫外線、レーザ光等である。

また、遮光性を有する材料が第２の偏光板１０２の一部を変質させることにより得られる材料である場合は、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲの平面形状と同様の平面形状を有する開口を有するマスクが準備され、準備されたマスクの開口を介して第２の偏光板１０２に光が照射されて第２の偏光板１０２の一部が光により変質させられる。照射される光は、紫外線、レーザ光等である。

ステップＳＲＥにおいて輝点欠陥の修正が行われた後には、ステップＳＴＳにおいて、輝点欠陥の修正が行われた液晶表示パネル１０の中間品に対して点灯検査が再び行われる。

点灯検査が再び行われる際には、輝点欠陥の修正が行われて液晶表示パネル１０の中間品が良品になったか否かを確認するために、液晶表示パネル１０の中間品が良品及び不良品のいずれであるのかが再び判定される。

点灯検査が再び行われる際には、上述した点欠陥、線欠陥、表示ムラ等の検査の全部が行われてもよいし、輝点欠陥の修正の適否を確認することが重視されて輝点欠陥の検査が行われてもよい。また、輝点欠陥の検査が行われる際には、斜めから液晶表示パネル１０の中間品が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されるか否かが検査されてもよい。例えば、左右方向４５°から液晶表示パネル１０の中間品が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されるか否かが検査されてもよい。欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認される程度が検査されてもよい。その際には、ＮＤフィルタを介して液晶表示パネル１０の中間品が観察される。

続くステップＳ１１３においては、最初から良品であると判定された、又は輝点欠陥の修正が行われた後に良品であると判定された液晶表示パネル１０の中間品に制御基板１３及びＦＦＣ１４が実装される。これにより、液晶表示パネル１０が完成する。

続くステップＳ１１４においては、完成した液晶表示パネル１０が透明粘着シート１２により透明保護カバー１１に貼り付けられる。これにより、平坦形状を有する液晶表示パネル１０が変形させられ湾曲形状を有する液晶表示パネル１０が得られる。また、液晶表示パネル１０の背面１０ｂに光学シートを挟んでバックライトが対向させられた状態で液晶表示パネル１０、透明保護カバー１１、透明粘着シート１２、制御基板１３、ＦＦＣ１４、バックライト及び光学シートが筐体に収容される。これにより、液晶表示装置３が完成する。

３．１４ 実施の形態１の発明の効果
実施の形態１の発明によれば、視野角内から液晶表示パネル１０が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されない。このため、視野角内から液晶表示パネル１０が観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たない。また、遮光膜１５を著しく大きくしなくても視野角内から液晶表示パネル１０が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されない。このため、輝点欠陥となる画素に隣接する画素が隠されにくい。これにより、高い表示品位を有する表示装置３を提供することができる。

４ 実施の形態２
４．１ 液晶表示装置
図８は、実施の形態２の液晶表示装置を模式的に図示する断面図である。図９は、実施の形態２の液晶表示装置の主要部を模式的に図示する拡大断面図である。図９は、ふたつの画素を構成する部分を図示する。

以下では、図８及び図９に図示される実施の形態２の液晶表示装置４が、図３及び図５に図示される実施の形態１の液晶表示装置３と異なる点に着目して説明を進める。説明されない点については、実施の形態１の液晶表示装置３において採用された構成と同様の構成が実施の形態２の液晶表示装置４においても採用される。

実施の形態１においては、液晶表示装置３は、湾曲型の液晶表示装置である。このため、液晶表示パネル１０の表示面１０ｄは、湾曲している。また、平坦形状を有する液晶表示パネル１０を変形させて湾曲形状を有する液晶表示パネル１０を得る必要があるため、第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０は、望ましくは０．２ｍｍ未満の厚さを有する。また、液晶表示パネル１０を湾曲形状を有するように変形させた状態で固定する必要があるため、液晶表示装置３が、元々湾曲形状を有する透明保護カバー１１、及び透明粘着シート１２を備える。

これに対して、実施の形態２においては、液晶表示装置４は、平坦型の液晶表示装置である。このため、液晶表示パネル１０の表示面１０ｄは、平坦である。また、平坦形状を有する液晶表示パネル１０を変形させる必要がないため、第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０は、０．２ｍｍ以上の厚さを有してもよい。ただし、第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０は、望ましくは、０．３ｍｍ未満の厚さを有し、さらに望ましくは、約０．２５ｍｍの厚さを有する。この場合は、中心値が０．２５ｍｍでありばらつきが中心値の±２０％の範囲内に収まるように第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０の厚さが管理される。一般的な液晶表示装置に備えられるガラス基板は０．３ｍｍから０．５ｍｍ程度の厚さを有する。このため、第１のガラス基板１３０及び第２のガラス基板１５０は、一般的な液晶表示装置に備えられるガラス基板の厚さより薄い厚さを有する。これにより、液晶表示装置４は、一般的な液晶表示装置よりも薄型化及び軽量化されている。また、液晶表示パネル１０を湾曲形状を有するように変形させた状態で固定する必要がないため、液晶表示装置４は、湾曲形状を有する透明保護カバー１１、及び透明粘着シート１２を備えない。ただし、液晶表示装置４が平坦形状を有する透明保護カバー、及び透明粘着シート１２を備えてもよい。平坦形状を有する透明保護カバーが他の種類の前面カバーに置き換えられてもよい。例えば、平坦形状を有する透明保護カバーがタッチパネルに置き換えられてもよい。液晶表示装置４がタッチパネルを備える場合は、タッチパネル付きの液晶表示装置４が得られる。液晶表示装置４が前面カバー及び透明粘着シート１２を備えることにより、液晶表示パネル１０の正面１０ｆ側から加えられる外圧に対する液晶表示装置４の耐性、及び液晶表示装置４の耐湿性が向上する。

実施の形態１においては、第２のガラス基板１５０の厚さは、均一である。このため、遮光膜１５が配置される部分１６０は、残余部分１６１の厚さと同じ厚さｔを有する。

これに対して、実施の形態２においては、第２のガラス基板１５０の厚さは、不均一であり、遮光膜１５が配置される領域において局所的に小さくなっている。このため、遮光膜が配置される部分１６０は、残余部分１６１の厚さより薄い厚さｔを有する。また、部分１６０は、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅに凹部１６０ｄを有する。遮光膜１５は、凹部１６０ｄ内に収容される。

上述したように、遮光膜１５が配置される部分１６０の厚さｔが小さくなるほど、視野角θに対する周辺領域ＰＥＲの幅Ｗの比を小さくすることができる。したがって、残余部分１６１の厚さより薄い厚さを有する部分１６０上に遮光膜１５が配置された場合は、残余部分１６１の厚さと同じ厚さを有する部分１６０上に遮光膜１５が配置された場合と比較して、視野角θに対する周辺領域ＰＥＲの幅Ｗの比を小さくすることができる。例えば、残余部分１６１の厚さ０．２５ｍｍより０．１ｍｍ薄い０．１５ｍｍの厚さを有する部分１６０上に遮光膜１５が配置された場合は、残余部分１６１の厚さ０．２５ｍｍと同じ厚さ０．２５ｍｍを有する部分１６０上に遮光膜１５が配置された場合と比較して、視野角θに対する周辺領域ＰＥＲの幅Ｗの比を小さくすることができる。また、残余部分１６１の厚さ０．２５ｍｍより０．１ｍｍ薄い０．１５ｍｍの厚さを有する部分１６０上に遮光膜１５が配置された場合は、均一な厚さ０．１５ｍｍを有する第２の基板１５０の部分１６０上に遮光膜１５が配置された場合と同様に、視野角θに対する周辺領域ＰＥＲの幅Ｗの比を小さくすることができる。

したがって、遮光膜１５が凹部１６０ｄ内に収容されることにより、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを黒色領域ＢＲの幅Ｗ２以下にすること、又は周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを黒色領域ＢＲの幅Ｗ２より大きくせざるを得ない場合に周辺領域ＰＥＲの幅Ｗと黒色領域ＢＲの幅Ｗ２との差を小さくすることがより容易になる。したがって、隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が視認されにくくなることをより抑制することができ、液晶表示装置３の表示品位が低下することをより抑制することができる。

輝点欠陥の修正の効果は、遮光膜１５が配置される部分１６０が０．３ｍｍ未満の厚さｔを有する限り、残余部分１６１が０．３ｍｍ以上の厚さを有する場合においても生じる。したがって、液晶表示装置４の製造上の都合により０．３ｍｍ以上の厚さを有する残余部分１６１を備える第２の基板１５０を用いる必要がある場合においても、輝点欠陥の修正の効果を得ることができる。

実施の形態１の液晶表示装置３に備えられる遮光膜１５が配置される部分１６０が凹部１６０ｄを有してもよい。実施の形態１の液晶表示装置３に備えられる部分１６０が凹部１６０ｄを有する場合も、遮光膜１５が凹部１６０ｄ内に収容されることにより、周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを黒色領域ＢＲの幅Ｗ２以下にすること、又は周辺領域ＰＥＲの幅Ｗを黒色領域ＢＲの幅Ｗ２より大きくせざるを得ない場合に周辺領域ＰＥＲの幅Ｗと黒色領域ＢＲの幅Ｗ２との差を小さくすることがより容易になる。したがって、隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が視認されにくくなることをより抑制することができ、液晶表示装置３の表示品位が低下することをより抑制することができる。

遮光膜１５は、望ましくは凹部１６０ｄの深さと同じ厚さを有する。これにより、第２のガラス基板１５０及び遮光膜１５からなる要素の外側主面の平坦性が向上する。これにより、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に第２の粘着層により第２の偏光板１０２が貼り付けられる際に、第２のガラス基板１５０と第２の粘着層との間、又は第２の粘着層と第２の偏光板１０２との間に気泡が混入することを抑制することができる。

第２の基板１５０が０．３ｍｍ未満の均一な厚さを有する場合は、遮光膜１５が配置される部分１６０が凹部１６０ｄを有さないときであっても、部分１６０は０．３ｍｍ未満の厚さを有する。このため、第２の基板１５０が０．３ｍｍ未満の均一な厚さを有する場合は、部分１６０が凹部１６０ｄを有さないときであっても、上述した輝点欠陥の修正の効果が生じる。

４．２ 液晶表示装置の製造
以下では、実施の形態２の液晶表示装置４の製造方法が図６及び図７に示される実施の形態１の液晶表示装置３の製造方法と異なる点に着目して説明を進める。説明されない点については、実施の形態１の液晶表示装置３の製造において採用された工程と同様の工程が実施の形態２の液晶表示装置４の製造においても採用される。

実施の形態１の液晶表示装置３の製造においては、ステップＳ１０９において、例えば、約０．５ｍｍの厚さを有するマザーガラス基板がそれらの厚さが約０．１５ｍｍになるまで研磨されて薄板化される。この場合は、中心値が０．１５ｍｍでありばらつきが中心値の±２０％の範囲内に収まるようにマザーガラス基板の厚さが管理される。

これに対して、実施の形態２の液晶表示装置４の製造においては、ステップＳ１０９において、例えば、約０．５ｍｍの厚さを有するマザーガラス基板がそれらの厚さが約０．２５ｍｍになるまで研磨されて薄板化される。この場合は、中心値が０．２５ｍｍでありばらつきが中心値の±２０％の範囲内に収まるようにマザーガラス基板の厚さが管理される。

また、実施の形態１の液晶表示装置３の製造においては、ステップＳＲＥにおいて輝点欠陥の修正が行われる際に、第２のガラス基板１５０の平坦な外側主面１５０ｅ上に遮光膜１５が形成される。

これに対して、実施の形態２の液晶表示装置４の製造においては、ステップＳＲＥにおいて輝点欠陥の修正が行われる際に、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅに凹部１６０ｄが形成される。また、凹部１６０ｄが形成された後に、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅ上に遮光膜１５が形成される。遮光膜１５は、凹部１６０ｄ内に形成される。

ステップＳ１１２において第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられた後に、ステップＳＴＳにおいて点灯検査が行われ、ステップＳＲＥにおいて輝点欠陥の修正が行われる場合は、ステップＳＲＥにおいて、第２の偏光板１０２がいったん剥離され、凹部１６０ｄ及び遮光膜１５が形成され、第２の偏光板１０２が再び貼り付けられる。上述したようにステップＳＴＳにおいて点灯検査が行われた後にステップＳ１１２において第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられる場合は、ステップＳＲＥにおいて輝点欠陥の修正が行われた後にステップＳ１１２において第１の偏光板１０１及び第２の偏光板１０２が貼り付けられることにより、第２の偏光板１０２をいったん剥離する工程を省略することができる。これにより、第２の偏光板１０２を剥離する工程により第２のガラス基板１５０が損傷することを抑制することができる。

凹部１５０ｅは、第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅに第２の偏光板１０２が貼り付けられておらず第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅが露出している状態下で形成される。凹部１５０ｅは、ガラス加工技術により形成される。ガラス加工技術は、ウエットエッチング、ドライエッチング、レーザエッチング、触刻等である。レーザエッチングには、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ等が用いられる。触刻には、ダイヤモンド製の針、超硬合金製の針等が用いられる。

凹部１５０ｅは、望ましくは、高い位置精度及び高い寸法精度を有するガラス加工技術により形成される。これにより、凹部１５０ｅの側面が隣接画素領域ＡＰＲに重なり隣接画素領域ＡＰＲから出射する光が視認されにくくなることを抑制することができる。例えば、凹部１５０ｅは、凹部１５０ｅが形成される領域の平面形状と同じ平面形状を有する開口を有するレジストマスクを介してウエットエッチング又はドライエッチングを行うことにより形成される。又は、凹部１５０ｅは、凹部１５０ｅが形成される領域の平面形状と同じ平面形状を有する開口を有するフォトマスクを介してレーザエッチングを行うことにより形成される。

凹部１５０ｅがレジストマスクを介してウエットエッチング又はドライエッチングを行うことにより形成される場合は、望ましくは、ステップＳ１０９におけるマザー対向基板に備えられるマザーガラス基板の薄板化、及びステップＳＲＥにおける凹部１５０ｅの形成が連続的に行われる。例えば、レジストマスクを介してウエットエッチング又はドライエッチングが行われた後にレジストマスクが除去され、レジストマスクが除去された後にウエットエッチング又はドライエッチングが再び行われる。これにより、凹部１５０ｅを形成するための追加の薬液、処理装置等が不要になり、凹部１５０ｅが効率的に形成される。

ステップＳ１０９におけるマザー対向基板に備えられるマザーガラス基板の薄板化、及びステップＳＲＥにおける凹部１５０ｅの形成が連続的に行われる場合は、ステップＳ１０９においてマザー対向基板に備えられるマザーガラス基板が薄板化されステップＳＲＥにおいて凹部１５０ｅが形成される前に欠陥画素領域ＤＰＲが特定されなければならない。しかし、ステップＳ１１１においてマザーセル基板が複数の液晶セル１００に分断される前においては液晶セル１００に信号を入力することが困難であるため、ステップＳ１０９においてマザー対向基板に備えられるマザーガラス基板が薄板化されステップＳＲＥにおいて凹部１５０ｅが形成される前には点灯検査を行うことが困難である。このため、ステップＳ１０９においてマザー対向基板に備えられるマザーガラス基板が薄板化されステップＳＲＥにおいて凹部１５０ｅが形成される前には点灯検査により欠陥画素領域ＤＰＲを特定することが困難である。そこで、ステップＳ１０９におけるマザー対向基板に備えられるマザーガラス基板の薄板化、及びステップＳＲＥにおける凹部１５０ｅの形成が連続的に行われる場合は、点灯検査以外の点欠陥検査により欠陥画素領域ＤＰＲが特定される。点灯検査以外の点欠陥検査においては、例えば、蓄積容量に保持される電荷のリーク量を検出することにより点欠陥が検出され、欠陥画素領域ＤＰＲが特定される。

ステップＳ１０９においてマザーガラス基板を薄板化することに代えて、ステップＳ１１１においてマザーセル基板が複数の液晶セル１００に分断された後にステップＳＴＳにおいて点灯検査が行われ、ステップＳＴＳにおいて点灯検査が行われた後に液晶表示パネル１０の中間品に備えられるガラス基板を薄板化することが行われてもよい。これにより、ガラス基板の薄板化、及びステップＳＲＥにおける凹部１５０ｅの形成を連続的に行うことができる。

凹部１６０ｄの内部に形成される遮光膜１５を構成する遮光性を有する材料は、望ましくは黒インク、黒色レジスト等である。

この場合は、実施の形態１の液晶表示装置３が製造される場合と同様に、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲを含む領域に重なる遮光膜が形成され、形成された遮光膜がフォトリソグラフィーによりパターニングされ、欠陥画素領域ＤＰＲ及び周辺領域ＰＥＲに重なる部分が選択的に残されることにより、凹部１６０ｄの内部に高い位置精度及び高い寸法精度を有する遮光膜１５が形成される。

高い位置精度及び高い寸法精度を有する凹部１６０ｄが形成されている場合は、凹部１６０ｄを利用して高い位置精度及び高い寸法精度を有する遮光膜１５が自己整合的に形成されてもよい。例えば、黒インク等を含むペーストが凹部１６０ｄの内部にインクジェット方式の印刷等により印刷されて印刷膜が形成され、形成された印刷膜の粘度が加熱処理等により低下させられて印刷膜が凹部１６０ｄの内部の全体に拡げられてもよい。又は、黒インク等を含むペーストが凹部１６０ｄの内部及びその周辺に塗布されて塗布膜が形成され、凹部１６０ｄの周辺に形成された不要な塗布膜が第２のガラス基板１５０の外側主面１５０ｅにスキージ等を走らせることにより拭き取られ、凹部１６０ｄの内部のみに塗布膜が残されてもよい。

実施の形態１の液晶表示装置３の製造においては、ステップＳ１１４において、完成した液晶表示パネル１０が透明粘着シート１２により元々湾曲形状を有する透明保護カバー１１に貼り付けられる。これにより、平坦形状を有する液晶表示パネル１０が変形させられて湾曲形状を有する液晶表示パネル１０が得られる。また、液晶表示パネル１０の背面１０ｂに光学シートを挟んでバックライトが対向させられた状態で液晶表示パネル１０、透明保護カバー１１、透明粘着シート１２、制御基板１３、ＦＦＣ１４、バックライト及び光学シートが筐体に収容される。

これに対して、実施の形態２の液晶表示装置４の製造においては、液晶表示装置４が前面カバーを備えない場合は、ステップＳ１１４において、完成した液晶表示パネル１０が透明粘着シートにより前面カバーに貼り付けられることなく、液晶表示パネル１０の背面１０ｂに光学シートを挟んでバックライトが対向させられた状態で液晶表示パネル１０、制御基板１３、ＦＦＣ１４、バックライト及び光学シートが筐体に収容される。液晶表示装置４が平坦形状を有する前面カバーを備える場合は、完成した液晶表示パネル１０が透明粘着シートにより平坦形状を有する前面カバーに貼り付けられる。また、液晶表示パネル１０の背面１０ｂに光学シートを挟んでバックライトが対向させられた状態で液晶表示パネル１０、前面カバー、透明粘着シート、制御基板１３、ＦＦＣ１４、バックライト及び光学シートが筐体に収容される。

４．３ 実施の形態２の発明の効果
実施の形態２の発明によれば、実施の形態１の発明と同様に、視野角内から液晶表示パネル１０が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されない。このため、視野角内から液晶表示パネル１０が観察された場合に輝点欠陥となる画素が目立たない。また、遮光膜１５を著しく大きくしなくても視野角内から液晶表示パネル１０が観察された場合に欠陥画素領域ＤＰＲから出射する光が視認されない。このため、輝点欠陥となる画素に隣接する画素が隠されにくい。これにより、高い表示品位を有する表示装置４を提供することができる。

５ 有機ＥＬ表示装置における表示媒体層、画素領域及び黒色領域
輝点欠陥の修正が行われる表示装置１は、第２の基板１５０が透明基板であり、複数の画素領域ＰＲに欠陥画素領域ＤＰＲが含まれる可能性がある限り、液晶表示装置２以外の表示装置であってもよい。液晶表示装置２以外の表示装置は、自発光方式の表示装置であってもよい。自発光方式の表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置であってもよい。表示装置１が自発光方式の表示装置である場合は、顕像が形成される発光層が表示媒体層となる。また、画素中の光を発する領域が、光が出射する画素領域ＰＲになり、隣接する光が発する領域の間の光を発しない領域が、光が出射しない黒色領域ＢＲになる。

なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。

この発明は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。

１ 表示装置、２，３，４ 液晶表示装置、１０ 液晶表示パネル、１５ 遮光膜、１１２ 液晶層、１３０ 第１の基板（第１の透明基板、第１のガラス基板）、１５０ 第２の基板（第２の透明基板、第２のガラス基板）、１６０ 部分、１６１ 残余部分、１６０ｄ 凹部、ＰＲ 画素領域、ＤＰＲ 欠陥画素領域、ＡＰＲ 隣接画素領域、ＢＲ 黒色領域。

Claims (9)

1. 光が出射する複数の画素領域を有し、前記複数の画素領域に輝点欠陥が生じた欠陥画素領域が含まれ、第１の基板と、表示媒体層と、前記表示媒体層を挟んで前記第１の基板に対向し、透明であり、０．３ｍｍ未満の厚さを有する部分を備え、前記第１の基板が配置される側と反対の側にある主面を有する第２の基板と、を備える表示パネルと、
   前記主面上に配置され、前記部分上に配置され、前記表示パネルの厚さ方向から平面視された場合に前記欠陥画素領域と重なり前記欠陥画素領域から幅Ｗだけはみ出し、前記幅Ｗが視野角内から前記表示パネルが観察された場合に前記欠陥画素領域から出射する光が視認されなくなる幅Ｗ１以上である遮光膜と、
   を備える表示装置。
2. 前記複数の画素領域は、前記欠陥画素領域に隣接する隣接画素領域を含み、
   前記表示パネルは、前記欠陥画素領域と前記隣接画素領域とを互いに隔て幅Ｗ２を有し光が出射しない黒色領域をさらに有し、
   前記幅Ｗは、前記幅Ｗ２以下である
   請求項１の表示装置。
3. 前記幅Ｗ１は、設定された視野角θ、前記部分の厚さｔ、前記第２の基板の屈折率ｎを用いて式（１）により計算される幅である
   Ｗ１＝ｔ×ｔａｎ｛ｓｉｎ^−１（ｓｉｎθ／ｎ）｝・・・（１）
   請求項１又は２の表示装置。
4. 前記設定された視野角θは、４５°である
   請求項１から３までのいずれかの表示装置。
5. 前記幅Ｗ１は、透過光量を入射光量の１／１０以下に減じる減光フィルタを介して視野角内から前記表示パネルが観察された場合に前記欠陥画素領域から出射する光が視認されなくなる幅である
   請求項１から４までの表示装置。
6. 前記第２の基板は、前記部分以外である残余部分を備え、
   前記部分は、前記残余部分の厚さより薄い厚さを有し、前記主面に凹部を有し、
   前記遮光膜は、前記凹部内に収容される
   請求項１から５までのいずれかの表示装置。
7. 前記第１の基板及び前記第２の基板の各々は、０．２ｍｍ未満の厚さを有するガラス基板であり、
   前記表示パネルは、湾曲形状を有する
   請求項１から６までのいずれかの表示装置。
8. 前記表示パネルは、横電界方式の液晶表示パネルである
   請求項１から７までのいずれかの表示装置。
9. a) 光が出射する複数の画素領域を有し、前記複数の画素領域に輝点欠陥が生じた欠陥画素領域が含まれ、第１の基板と、表示媒体層と、前記表示媒体層を挟んで前記第１の基板に対向し、透明であり、０．３ｍｍ未満の厚さを有する部分を備え、前記第１の基板が配置される側と反対の側にある主面を有する第２の基板と、を備える表示パネルを準備する工程と、
   b) 前記部分上にあり、前記表示パネルの厚さ方向から平面視された場合に前記欠陥画素領域と重なり前記欠陥画素領域から幅Ｗだけはみ出し、前記幅Ｗが視野角内から前記表示パネルが観察された場合に前記欠陥画素領域から出射する光が視認されなくなる幅Ｗ１以上である遮光膜を前記主面上に形成する工程と、
   を備える表示装置の製造方法。

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