JP5892499B2 - マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法 - Google Patents
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Description
本出願は、共に2012年1月12日出願のドイツ特許出願DE 10 2012 200 371.1及びUS 61/585,666の優先権を主張するものである。これらの出願の内容は、これにより引用によって組み込まれる。
110a 第1の偏光影響要素
115、125 電極
120 第2のアレイ
fa−1 +22.5°の向きの複屈折速軸
Claims (17)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系であって、
偏光影響光学配置(100,200,250)、
を含み、
前記偏光影響光学配置(100,200,250)は、第1の偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...)の少なくとも1つの第1のアレイ(110,210,260)及び第2の偏光影響要素(120a,120b,120c,...)の第2のアレイ(120,220,270)を含み、該第1及び第2のアレイは、光伝播方向に連続して配置され、
前記第1及び第2の偏光影響要素は、各場合に電界の存在に依存する複屈折を有し、
前記第1の偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...)及び前記第2の偏光影響要素(120a,120b,120c,...)は、横方向Pockelsセルであり、
前記偏光影響光学配置は、個々の前記偏光影響要素に対して、各場合にそれぞれの該偏光影響要素(510a)の互いに反対の側面の異なる対に割り当てられた少なくとも2つの電極対(511,514;512,515;513,516)を含む
ことを特徴とする光学系。 - 前記偏光影響光学配置(100,200,250)は、前記電界を発生させるための複数の電極(115,125,315,415,511〜516)を含み、
前記電極は、各場合に前記第1の偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...)の及び前記第2の偏光影響要素(120a,120b,120c,...)の互いに反対の側面上に配置される、
ことを特徴とする請求項1に記載の光学系。 - 前記第1のアレイ内の前記電極(115)は、前記第2のアレイ内の前記電極(125)に対して有限の角度の向きに配置されることを特徴とする請求項2に記載の光学系。
- 電圧は、各場合に互いに独立して前記電極対(511,514;512,515;513,516)に印加することができることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記第1の偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...)に誘導することができる前記複屈折の速軸及び前記第2の偏光影響要素(120a,120b,120c,...)に誘導することができる該複屈折の速軸が、互いに対して有限の角度の向きに配置されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記角度は、45°±5°であることを特徴とする請求項5に記載の光学系。
- 前記第1のアレイ(110,210)及び/又は前記第2のアレイ(120,220)は、六角形配置でそれぞれの前記偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...;120a,120b,120c,...)を含むことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響光学配置(100)は、光学系の瞳平面(PP)に配置されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響光学配置(100,200,250)は、該配置を通って延びる多数のチャネルの各々に対して、予め定められた電圧がそれぞれの該チャネルの領域に置かれた前記偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...;120a,120b,120c,...)に存在するか否かに依存する態様で、該それぞれのチャネルを通過する直線偏光光に対して異なる偏光回転角を生成することができることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光回転角は、各場合に45°の整数倍であることを特徴とする請求項9に記載の光学系。
- 定められた電圧を前記偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...;120a,120b,120c,...)に選択的に印加することにより、光学系を通過する光の一定直線偏光分布は、疑似タンジェンシャル又は疑似ラジアル偏光分布に変換することができることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の光学系。
- 回折光学要素(606)を含むことを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響光学配置(250)は、偏光影響要素の少なくとも3つのアレイ(260,270,280)を含むことを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光学系。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置(600)の照明デバイス(602)であることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の光学系。
- 請求項1から請求項14のいずれかの1項に従って具現化された照明デバイス(602)と、
投影レンズ(604)と、
を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置(600)。 - 光源を用いて発生させた光が、投影レンズ(604)の物体平面を照明するために投影露光装置(600)の照明デバイス(602)に給送され、かつ該物体平面が、該投影レンズ(604)を用いて該投影レンズの像平面内に結像されるマイクロリソグラフィ露光方法であって、
前記照明デバイス(602)は、第1の偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...)の少なくとも1つの第1のアレイ(110,210)と第2の偏光影響要素(120a,120b,120c,...)の第2のアレイ(120,220)とを含む偏光影響光学配置(100,200,250)を含み、該第1及び第2のアレイは、前記光の伝播方向に連続して配置され、
電圧の前記偏光影響要素(110a,110b,110c,...;310a,310b,310c,...;410a,410b,410c,...;510a;...;120a,120b,120c,...)への異なる選択的印加により、異なる偏光分布が、前記照明デバイス(602)に設定され、
前記偏光影響光学配置は、個々の前記偏光影響要素に対して、各場合にそれぞれの該偏光影響要素(510a)の互いに反対の側面の異なる対に割り当てられた少なくとも2つの電極対(511,514;512,515;513,516)を含む
ことを特徴とする方法。 - 微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ生産の方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に付加された基板(605)を与える段階と、 結像される構造を含むマスク(603)を与える段階と、
請求項15に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスク(603)の少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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