JP2010028089A - 減光ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源(1)からの光に基づいて被照射面(M;W)を照明する照明光学系は、Z方向に所定の屈折力を有する複数の第1屈折面と、その後側に設けられてZ方向に所定の屈折力を有する複数の第2屈折面とを有するオプティカルインテグレータ(9)と、その直後に配置された減光ユニット(10)とを備えている。減光ユニットは、オプティカルインテグレータの2つの隣り合う第2屈折面の境界線の直後に配置されて、被照射面に達する光の位置が被照射面の中心からY方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する減光率特性を有する減光部を備えている。
【選択図】 図1
Description
7 ズームレンズ; 10 減光ユニット; 10a 遮光部材
9,19 シリンドリカルマイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
11 コンデンサー光学系; 12 マスクブラインド; 13 結像光学系
M マスク; PL 投影光学系; AS 開口絞り; W ウェハ
Claims (27)
- 被照射面を照明する照明光学系の光路中に配置される波面分割型のオプティカルインテグレータと組み合わせて用いられる減光ユニットであって、
前記照明光学系の光軸と直交する平面内の第1方向に所定の屈折力を有する前記オプティカルインテグレータの複数の第1屈折面に対応するように前記複数の第1屈折面の後側に設けられて前記第1方向に所定の屈折力を有する前記オプティカルインテグレータの複数の第2屈折面のうちの少なくとも2つの隣り合う第2屈折面の境界線の直後に配置されて、前記被照射面に達する光の位置が前記被照射面の中心から前記第1方向に沿って離れるにしたがって減光率の増大する減光率特性を有する減光部を備えていることを特徴とする減光ユニット。 - 前記減光部は、前記平面内で前記第1方向と直交する第2方向に沿って延びる前記境界線とほぼ平行に延びる線状の遮光部材を有することを特徴とする請求項1に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材を所定の位置に保持するために前記線状の遮光部材の両端を支持する保持部材をさらに備えていることを特徴とする請求項2に記載の減光ユニット。
- 前記保持部材は、前記線状の遮光部材に所要のテンションを付与した状態で前記線状の遮光部材の両端を支持していることを特徴とする請求項3に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材は、その長手方向に沿って変化する断面を有することを特徴とする請求項3または4に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材を所定の位置に保持するために前記線状の遮光部材の一方の端だけを支持する保持部材をさらに備えていることを特徴とする請求項2に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材は、位置および姿勢のいずれか一方が変更可能であることを特徴とする請求項2乃至6のいずれか1項に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材は、前記照明光学系の前記光軸に沿った方向に移動可能であることを特徴とする請求項7に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材は、前記照明光学系の前記光軸と直交する前記平面内における位置が変更可能であることを特徴とする請求項7または8に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材は、前記照明光学系の前記光軸または前記光軸と平行な軸廻りに回転可能であることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1項に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材は、前記照明光学系の前記光軸と直交する軸廻りに回転可能であることを特徴とする請求項7乃至10のいずれか1項に記載の減光ユニット。
- 前記線状の遮光部材は、前記第1方向に所定の屈折力を有する前記オプティカルインテグレータの複数の第2屈折面のうちの前記2つの隣り合う第2屈折面の第1境界線の直後に配置される第1の線状の遮光部材と、前記第1方向に所定の屈折力を有する前記オプティカルインテグレータの複数の第2屈折面のうちの2つの隣り合う第2屈折面の第2境界線の直後に配置される第2の線状の遮光部材とを備え、
前記第1の線状の遮光部材と前記第2の線状の遮光部材との相対的な位置および相対的な姿勢のうちの少なくとも一方は変更可能であることを特徴とする請求項7乃至11のいずれか1項に記載の減光ユニット。 - 被照射面を照明する照明光学系の光路中に配置される波面分割型のオプティカルインテグレータと組み合わせて用いられる減光ユニットであって、
前記照明光学系の光軸と直交する平面内の第1方向に所定の屈折力を有する前記オプティカルインテグレータの複数の第1屈折面に対応するように前記複数の第1屈折面の後側に設けられて前記第1方向に所定の屈折力を有する前記オプティカルインテグレータの複数の第2屈折面のうちの少なくとも2つの隣り合う第2屈折面の境界線の直後に配置されて、前記平面内で前記第1方向と直交する第2方向に沿って延びる前記境界線とほぼ平行に延びる線状の遮光部材を備え、
前記線状の遮光部材は、位置および姿勢のいずれか一方が変更可能であることを特徴とする減光ユニット。 - 前記オプティカルインテグレータの前記複数の第1屈折面は前記平面内で前記第1方向と直交する第2方向にほぼ無屈折力であり、前記複数の第2屈折面は前記第2方向にほぼ無屈折力であることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の減光ユニット。
- 前記オプティカルインテグレータは、光の入射側から順に、第1光学部材と、第2光学部材とを備え、前記第1光学部材の射出側には前記複数の第1屈折面が前記第1方向に沿って配列され、前記第2光学部材の射出側には前記複数の第2屈折面が前記第1方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の減光ユニット。
- 前記複数の第1屈折面は前記平面内で前記第1方向と直交する第2方向にほぼ無屈折力であり、前記複数の第2屈折面は前記第2方向にほぼ無屈折力であり、
前記第1光学部材の入射側には、前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の複数の第3屈折面が前記第2方向に沿って配列され、
前記第2光学部材の入射側には、前記複数の第3屈折面に対応するように前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の複数の第4屈折面が前記第2方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項15に記載の減光ユニット。 - 前記オプティカルインテグレータは、光の入射側から順に、第1光学部材と、第2光学部材とを備え、前記第2光学部材の入射側には前記複数の第1屈折面が前記第1方向に沿って配列され、前記第2光学部材の射出側には前記複数の第2屈折面が前記第1方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の減光ユニット。
- 前記複数の第1屈折面は前記平面内で前記第1方向と直交する第2方向にほぼ無屈折力であり、前記複数の第2屈折面は前記第2方向にほぼ無屈折力であり、
前記第1光学部材の入射側には、前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の複数の第3屈折面が前記第2方向に沿って配列され、
前記第1光学部材の射出側には、前記複数の第3屈折面に対応するように前記第2方向に所定の屈折力を有し且つ前記第1方向にほぼ無屈折力の複数の第4屈折面が前記第2方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項17に記載の減光ユニット。 - 前記オプティカルインテグレータは、前記第1方向に沿って細長い矩形状の単位波面分割面を有することを特徴とする請求項1乃至18のいずれか1項に記載の減光ユニット。
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
前記照明光学系の光路中に配置される波面分割型のオプティカルインテグレータと、
前記オプティカルインテグレータと組み合わせて用いられる請求項1乃至19のいずれか1項に記載の減光ユニットとを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記オプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項20に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項20または21に記載の照明光学系。
- 所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光する投影露光装置と組み合わせて用いられ、前記オプティカルインテグレータにおける前記第1方向は、前記走査方向と直交する方向に対応していることを特徴とする請求項20乃至22のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項20乃至23のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、該投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光することを特徴とする請求項24に記載の露光装置。
- 前記オプティカルインテグレータにおける前記第1方向は、前記走査方向と直交する方向に対応していることを特徴とする請求項25に記載の露光装置。
- 請求項24乃至26のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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