JP5886012B2 - 生産処理システム、生産処理の制御装置、生産処理の制御方法、及び、生産処理の制御プログラム - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 286
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 43
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 34
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
- G05B19/402—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by control arrangements for positioning, e.g. centring a tool relative to a hole in the workpiece, additional detection means to correct position
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/41865—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by job scheduling, process planning, material flow
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/32—Operator till task planning
- G05B2219/32021—Energy management, balance and limit power to tools
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/45—Nc applications
- G05B2219/45031—Manufacturing semiconductor wafers
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/49—Nc machine tool, till multiple
- G05B2219/49001—Machine tool problems
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P80/00—Climate change mitigation technologies for sector-wide applications
- Y02P80/10—Efficient use of energy, e.g. using compressed air or pressurized fluid as energy carrier
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Description
特許文献3には、被処理体の到着に要する到着時間と、省電力状態にある処理装置の立ち上げ時間とを比較し、到着時間が立ち上げ時間より長い場合、処理装置を省電力状態にする電力供給システムが開示されている。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る生産処理システムの構成の一例を示したブロック図である。生産処理システムは、生産管理用ホストコンピュータ1(以下単に「ホスト1」という)と、群コントローラ2と、共用コントローラ3と、複数の処理装置41を含む処理装置群4と、各処理装置41に共用される1または複数の設備51を含む共用設備群5と、搬送システム6とを備えている。
上述した第1の実施形態は、1つの群コントローラ2及び1つの共用コントローラ3が、複数の処理装置41及び設備51の処理タイミングを制御するものであった。これに対し、以下に説明する第2の実施形態では、これらを階層化するものである。
上述した第2の実施形態は、群内で設備51を共用するものであった。これに対し、以下に説明する第3の実施形態は、複数の群から共用可能な設備をさらに備えるものである。
2,2A〜2C 群コントローラ
3,3A〜3C 共用コントローラ
4,4A〜4C 処理装置群
41 処理装置
5,5A〜5C 共用設備群
51 設備
6,6A〜6C 搬送システム
61 搬送制御装置
62 搬送装置
7,7A,7B 上位コントローラ
8 最上位コントローラ
9,9A,9B 共用設備
100A〜100F 群
201 取得部
202 使用計画生成部
203 送信部
301 取得部
302 制御部
Claims (9)
- 被処理体を処理する複数の処理装置と、
前記複数の処理装置で共用され、前記複数の処理装置での処理に利用される設備と、
前記複数の処理装置へ被処理体を搬送する搬送装置と、
前記複数の処理装置から、稼働状況及びメンテナンス時期の情報を含む稼働予定を取得し、かつ、前記搬送装置による前記複数の処理装置への被処理体の搬入及び搬出のタイミング情報を含む搬送計画を作成するホストコンピュータと、
前記ホストコンピュータから、前記稼働状況、前記稼働予定及び前記搬送計画を取得し、これらの少なくとも1つに基づいて、前記設備の使用計画を生成する群コントローラと、
前記使用計画と、前記設備の稼働状況と、前記複数の処理装置のそれぞれから前記設備に対する使用予約、問合せ、使用及び開放のうちの少なくとも1つを含む使用情報と、に基づいて、前記複数の処理装置のそれぞれ及び前記設備の処理タイミングを制御する共用コントローラと、を備えることを特徴とする生産処理システム。 - 前記群コントローラは、さらに、過去の前記複数の処理装置のそれぞれの使用履歴に基づいて、前記使用計画を生成することを特徴とする請求項1に記載の生産処理システム。
- 前記共用コントローラは、前記使用計画及び前記設備に対する問合せに基づいて、前記設備の稼働状態を、ラン状態、レディ状態及びアイドル状態の間で遷移させることを特徴とする請求項1または2に記載の生産処理システム。
- 前記共用コントローラは、前記設備に対する使用予約に対して、前記使用計画に基づいて、予約の可否を前記処理装置へ返信することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の生産処理システム。
- 被処理体を処理する複数の第1処理装置と、
被処理体を処理する複数の第2処理装置と、
前記複数の第1処理装置で共用され、前記複数の第1処理装置での処理に利用される第1設備と、
前記複数の第2処理装置で共用され、前記複数の第2処理装置での処理に利用される第2設備と、
前記複数の第1及び第2処理装置へ被処理体を搬送する搬送装置と、
前記複数の第1及び第2処理装置から、稼働状況及びメンテナンス時期の情報を含む稼働予定を取得し、かつ、前記搬送装置による前記複数の第1及び第2処理装置への被処理体の搬入及び搬出のタイミング情報を含む搬送計画を作成するホストコンピュータと、
前記ホストコンピュータから、前記複数の第1及び第2処理装置の稼働状況及び前記稼働予定並びに前記搬送計画を取得する上位コントローラと、
前記上位コントローラから、前記複数の第1処理装置の稼働状況及び前記稼働予定並びに前記搬送計画を取得し、これらの少なくとも1つに基づいて、前記第1設備の使用計画を生成する第1群コントローラと、
前記ホストコンピュータから、前記複数の第2処理装置の稼働状況及び前記稼働予定並びに前記搬送計画を取得し、これらの少なくとも1つに基づいて、前記第2設備の使用計画を生成する第2群コントローラと、
前記第1設備の使用計画と、前記第1設備の稼働状況と、前記複数の第1処理装置のそれぞれから前記第1設備に対する使用予約、問合せ、使用及び開放のうちの少なくとも1つを含む使用情報と、に基づいて、前記複数の第1処理装置のそれぞれ及び前記第1設備の処理タイミングを制御する第1共用コントローラと、
前記第2設備の使用計画と、前記第2設備の稼働状況と、前記複数の第2処理装置のそれぞれから前記第2設備に対する使用予約、問合せ、使用及び開放のうちの少なくとも1つを含む使用情報と、に基づいて、前記複数の第2処理装置のそれぞれ及び前記第2設備の処理タイミングを制御する第2共用コントローラと、を備えることを特徴とする生産処理システム。 - 前記複数の第1及び第2処理装置で共用され、前記複数の第1及び第2処理装置での処理に利用される共用設備を備え、
前記上位コントローラは、前記複数の第1及び第2処理装置の稼働状況及び前記稼働予定並びに前記搬送計画のうちの少なくとも1つに基づいて、前記共用設備の使用計画を作成し、前記共用設備の処理タイミングを制御することを特徴とする請求項5に記載の生産処理システム。 - 被処理体を処理する複数の処理装置と、
前記複数の処理装置で共用され、前記複数の処理装置での処理に利用される設備と、
前記複数の処理装置へ被処理体を搬送する搬送装置と、を制御する制御装置であって、
前記複数の処理装置の稼働状況及びメンテナンス時期の情報を含む稼働予定と、前記搬送装置による前記複数の処理装置への被処理体の搬入及び搬出のタイミング情報を含む搬送計画と、を取得する取得部と、
前記稼働状況、前記稼働予定及び前記搬送計画のうちの少なくとも1つに基づいて、前記設備の使用計画を生成する使用計画生成部と、
前記使用計画と、前記設備の稼働状況と、前記複数の処理装置のそれぞれから前記設備に対する使用予約、問合せ、使用及び開放のうちの少なくとも1つを含む使用情報と、に基づいて、前記複数の処理装置のそれぞれ及び前記設備の処理タイミングを制御する制御部と、を備えることを特徴とする制御装置。 - 被処理体を処理する複数の処理装置と、
前記複数の処理装置で共用され、前記複数の処理装置での処理に利用される設備と、
前記複数の処理装置へ被処理体を搬送する搬送装置と、を制御する制御方法であって、
前記複数の処理装置の稼働状況及びメンテナンス時期の情報を含む稼働予定と、前記搬送装置による前記複数の処理装置への被処理体の搬入及び搬出のタイミング情報を含む搬送計画と、を取得するステップと、
前記稼働状況、前記稼働予定及び前記搬送計画のうちの少なくとも1つに基づいて、前記設備の使用計画を生成するステップと、
前記使用計画と、前記設備の稼働状況と、前記複数の処理装置のそれぞれから前記設備に対する使用予約、問合せ、使用及び開放のうちの少なくとも1つを含む使用情報と、に基づいて、前記複数の処理装置のそれぞれ及び前記設備の処理タイミングを制御するステップと、を備えることを特徴とする制御方法。 - 被処理体を処理する複数の処理装置と、
前記複数の処理装置で共用され、前記複数の処理装置での処理に利用される設備と、
前記複数の処理装置へ被処理体を搬送する搬送装置と、を制御する制御プログラムであって、
前記複数の処理装置の稼働状況及びメンテナンス時期の情報を含む稼働予定と、前記搬送装置による前記複数の処理装置への被処理体の搬入及び搬出のタイミング情報を含む搬送計画と、を取得するステップと、
前記稼働状況、前記稼働予定及び前記搬送計画のうちの少なくとも1つに基づいて、前記設備の使用計画を生成するステップと、
前記使用計画と、前記設備の稼働状況と、前記複数の処理装置のそれぞれから前記設備に対する使用予約、問合せ、使用及び開放のうちの少なくとも1つを含む使用情報と、に基づいて、前記複数の処理装置のそれぞれ及び前記設備の処理タイミングを制御するステップと、をコンピュータに実行させる制御プログラム。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011257726A JP5886012B2 (ja) | 2011-11-25 | 2011-11-25 | 生産処理システム、生産処理の制御装置、生産処理の制御方法、及び、生産処理の制御プログラム |
PCT/JP2012/078919 WO2013077188A1 (ja) | 2011-11-25 | 2012-11-08 | 生産処理システム、生産処理の制御装置、生産処理の制御方法、及び、生産処理の制御プログラム |
KR1020147013815A KR101954475B1 (ko) | 2011-11-25 | 2012-11-08 | 생산 처리 시스템, 생산 처리의 제어 장치, 생산 처리의 제어 방법 및 생산 처리의 제어 프로그램 |
TW101143848A TWI557524B (zh) | 2011-11-25 | 2012-11-23 | A production processing system, a control device for production processing, a control method for production processing, and a control program for production processing |
US14/285,824 US20140277677A1 (en) | 2011-11-25 | 2014-05-23 | Production processing system, control device for production processing, method for controlling production processing and storage medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011257726A JP5886012B2 (ja) | 2011-11-25 | 2011-11-25 | 生産処理システム、生産処理の制御装置、生産処理の制御方法、及び、生産処理の制御プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013115118A JP2013115118A (ja) | 2013-06-10 |
JP5886012B2 true JP5886012B2 (ja) | 2016-03-16 |
Family
ID=48469636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011257726A Expired - Fee Related JP5886012B2 (ja) | 2011-11-25 | 2011-11-25 | 生産処理システム、生産処理の制御装置、生産処理の制御方法、及び、生産処理の制御プログラム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140277677A1 (ja) |
JP (1) | JP5886012B2 (ja) |
KR (1) | KR101954475B1 (ja) |
TW (1) | TWI557524B (ja) |
WO (1) | WO2013077188A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI540519B (zh) * | 2014-12-25 | 2016-07-01 | 林文芳 | 即時動態工廠管理系統 |
TWI617818B (zh) * | 2015-05-28 | 2018-03-11 | Seiko Epson Corp | Electronic component transport system, electronic component inspection system, electronic component transport device, and electronic component inspection device |
WO2017098813A1 (ja) * | 2015-12-09 | 2017-06-15 | 村田機械株式会社 | 搬送システム及び搬送方法 |
CN109829665B (zh) | 2017-11-23 | 2023-11-07 | 菜鸟智能物流控股有限公司 | 物品拣选调度请求的处理方法及相关设备 |
WO2020021818A1 (ja) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | シチズン時計株式会社 | プログラム作成システム、プログラム、及び、作成端末機器 |
WO2022138272A1 (ja) * | 2020-12-25 | 2022-06-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 管理システム、管理方法及び管理プログラム |
CN112966937B (zh) | 2021-03-05 | 2023-04-11 | 奥特斯(中国)有限公司 | 用于向生产设施的机器分配资源的方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1193135A (zh) * | 1997-03-06 | 1998-09-16 | 致伸实业股份有限公司 | 电脑及其周边控制装置 |
KR100633154B1 (ko) * | 2001-03-20 | 2006-10-11 | 삼성전자주식회사 | 모니터의 표시모드자동설정방법 및 그 시스템과,표시모드자동설정방법과 표시모드자동설정시스템이 저장된기록매체 |
JP2007088429A (ja) | 2005-08-26 | 2007-04-05 | Toshiba Corp | 電力供給システム、電力供給方法及びロット処理方法 |
JP5128065B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2013-01-23 | 株式会社ニコン | 情報処理装置、デバイス製造処理システム、デバイス製造処理方法、プログラム |
JP2008070918A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 生産管理システム |
JP2008250826A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Mizuho Information & Research Institute Inc | プロセス管理システム、プロセス管理方法及びプロセス管理プログラム |
JP5089306B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2012-12-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システムの制御装置、処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体 |
JP2009135275A (ja) | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Panasonic Corp | 搬送システム及びその制御方法 |
CN101576623B (zh) * | 2009-06-17 | 2011-06-08 | 江门市高翔自动化设备有限公司 | 一种接线端子产品自动检测方法及专用检测装置 |
-
2011
- 2011-11-25 JP JP2011257726A patent/JP5886012B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-11-08 WO PCT/JP2012/078919 patent/WO2013077188A1/ja active Application Filing
- 2012-11-08 KR KR1020147013815A patent/KR101954475B1/ko active IP Right Grant
- 2012-11-23 TW TW101143848A patent/TWI557524B/zh not_active IP Right Cessation
-
2014
- 2014-05-23 US US14/285,824 patent/US20140277677A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201341996A (zh) | 2013-10-16 |
KR101954475B1 (ko) | 2019-03-05 |
KR20140096075A (ko) | 2014-08-04 |
TWI557524B (zh) | 2016-11-11 |
WO2013077188A1 (ja) | 2013-05-30 |
US20140277677A1 (en) | 2014-09-18 |
JP2013115118A (ja) | 2013-06-10 |
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A621 | Written request for application examination |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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