JP5876372B2 - 反応性ポリシロキサン化合物及びその製造方法 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 198
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 173
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 109
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 80
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical group 0.000 claims description 45
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 43
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 40
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 15
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 59
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 56
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 36
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 description 28
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 23
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 21
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 13
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 12
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 8
- VGEWEGHHYWGXGG-UHFFFAOYSA-N ethyl n-hydroxycarbamate Chemical group CCOC(=O)NO VGEWEGHHYWGXGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 8
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 5
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 4
- 239000012974 tin catalyst Substances 0.000 description 4
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 0 CC(CO)OC(N*NC(OCC(C)(*)O)=O)=O Chemical compound CC(CO)OC(N*NC(OCC(C)(*)O)=O)=O 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 2
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- IWBOPFCKHIJFMS-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol bis(2-aminoethyl) ether Chemical compound NCCOCCOCCN IWBOPFCKHIJFMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSKPJQYAHCKJQC-UHFFFAOYSA-N 1-ethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2CC HSKPJQYAHCKJQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSWYGACWGAICNM-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoxymethyl)oxirane Chemical compound C=CCOCC1CO1 LSWYGACWGAICNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenylthiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000005700 Putrescine Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- XMSVKICKONKVNM-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane-3,4-diamine Chemical compound C1CC2(N)C(N)CC1C2 XMSVKICKONKVNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound NC1CCCCC1N SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIROPXUFDXCYLG-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,5-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)N=C1 MIROPXUFDXCYLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N tetrabutyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Silicon Polymers (AREA)
Description
[但し、一般式(1)中、−X−は、下記一般式(2)〜(5)のいずれかの構造を表す。また、Zは、炭素数が1〜22のアルキレン基を表すが、その構造中に、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、ウレタン結合またはウレア結合のいずれかを含んでいてもよい。また、R1は、アルキレン基かアリーレン基であり、その構造中にO、SまたはNの各元素を含んでいてもよい。R2は、炭素数1〜30のアルキレン基か、アリーレン基であり、その構造中にO、SまたはNの各元素を含んでいてもよい。R3は、CH3またはHである。nは1〜10から選ばれるいずれかの整数であり、mは1〜300から選ばれるいずれかの整数を表す。]
本発明の反応性ポリシロキサン化合物の製造に用いるポリシロキサン化合物(A)としては、例えば、下記一般式(6)で表される、少なくとも1個の5員環環状カーボネート構造を有する化合物が好適である。
上述したポリシロキサン化合物(A)とともに、本発明の反応性ポリシロキサン化合物の製造に使用される別の原材料である化合物(C)は、その構造中に、少なくとも1個の不飽和基と、少なくとも1個の5員環環状カーボネート構造のいずれも有するものであることを要す。該化合物(C)の有する不飽和基(不飽和結合)としては、二重結合を有する、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられ、これらのいずれを有するものであってもよい。化合物(C)は、特に、下記一般式(7)で表される化学構造を有する化合物であることが好ましい。
本発明の反応性ポリシロキサン化合物は、上記で説明した5員環環状カーボネート構造を有する2種類の化合物である、ポリシロキサン化合物(A)と化合物(C)に加えて、少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物(B)を必須とし、これら3種類の化合物を反応させてなる。アミン化合物(B)としては、分子中に少なくとも2個のアミノ基を有するものであれば特に限定されず、従来公知のいずれの物も使用できる。
前記した3種類の化合物である、ポリシロキサン化合物(A)、アミン化合物(B)及び化合物(C)を反応させて、本発明の反応性ポリシロキサン化合物を合成する方法としては、以下の2種類の合成ルートが存在する。まず、1つ目の合成ルートは、5員環環状カーボネート構造を有するポリシロキサン化合物(A)に、アミノ基を2個以上有するアミン化合物(B)を反応させた後、不飽和基と5員環環状カーボネート構造の両方を有する化合物(C)を反応させる方法である。もう一つの合成ルートは、不飽和基と5員環環状カーボネート構造の両方を有する化合物(C)と、アミノ基を2個以上有するアミン化合物(B)とを反応させた後、5員環環状カーボネート構造を有するポリシロキサン化合物(A)を反応させる方法である。どちらの合成ルートであっても、本発明の反応性ポリシロキサン化合物の合成は可能であるが、特に、化合物(C)によって導入される不飽和基が、工業的に有用なアクリル構造である場合は、アミン化合物(B)とアクリル構造を形成している二重結合の付加反応が副反応として起こる恐れがあるため、この場合は、不飽和基(二重結合)を有する化合物(C)を後から反応させる1つ目の合成ルートで製造する方が好ましい。
撹拌装置及び大気開放口のある還流器を備えた反応容器内に、官能基当量1,750mg/molの両末端エポキシ変性反応性シリコーンオイル(商品名:X22−163B、信越化学工業(株)製)100部と、ヨウ化ナトリウム(和光純薬製)20部と、N−メチル−2−ピロリドン100部とを仕込んだ。次いで、撹拌しながら二酸化炭素を連続して吹き込み、100℃にて16時間反応を行った。反応終了後の溶液に、400部のヘキサンを加えて希釈した。希釈後の溶液を、分液ロートに移し、分液ロート中で食塩水にて4回洗浄を行うことにより、溶液中から、N−メチル−2−ピロリドン及びヨウ化ナトリウムを除去した。洗浄後に得られたヘキサン層をロータリーエバポレーターに移し、ヘキサンを蒸発留去することによって、透明なオイル状物質として、環状カーボネート変性シリコーンオイルを得た。
両末端エポキシ変性シリコーンオイルとして、官能基当量500mg/molのシリコーンオイル(商品名:X22−169−AS、信越化学工業(株)製)を使用した以外は合成例1と同様の方法で、下記式で表される、シロキサン骨格を有する5員環環状カーボネート化合物(A−2)を合成した。IR分析の結果は、A−1と同様であり、GPC分析による重量平均分子量は1,200であった。また、A−2の化学構造中に二酸化炭素由来の成分が占める割合は、8.1%である(化学構造式上の分子量からの計算値)。
撹拌装置及び大気開放口のある還流器を備えた反応容器内に、分子量142.1のグリシジルメタクリレート(商品名:アクリエステルG、三菱レイヨン製)100部と、ヨウ化ナトリウム(和光純薬製)20部と、N−メチル−2−ピロリドン100部とを仕込んだ。次いで、撹拌しながら二酸化炭素を連続して吹き込み、100℃にて10時間反応を行った。反応終了後の溶液に、水200部とトルエン200部を添加し混合した。混合液を分液ロートに移し、分離した水槽(下層)を除去し、その後同様にして、分液ロート中で水50部にて3回の洗浄を行うことにより反応液から触媒を除去した。洗浄後のトルエン層(上層)からロータリーエバポレーターにてトルエンを蒸発留去し、淡黄色の液状物質を得た。その収率は93%であった。
エポキシ化合物として、分子量114.1のアリルグリシジルエーテル(商品名:ネオアリルG、ダイソー(株)製)を用いた以外は合成例3と同様の方法で、下記式で表される、不飽和基を有する環状カーボネート化合物(B−2)を合成した(収率92%)。IR分析の結果は、B−1と同様であり、GC分析による純度は98%であった。また、B−2の化学構造中に二酸化炭素由来の成分が占める割合は、27.8%である(計算値)。
撹拌装置及び大気開放口のある還流器を備えた反応容器内に、合成例1で得たシロキサン骨格を有する環状カーボネート化合物A−1を100部、ヘキサメチレンジアミン6.5部、トルエンの117部を仕込み、80℃にて撹拌しながら反応を行った。反応の進行はサンプリングした反応液のアミン濃度を中和滴定(JIS K7237)することにより確認し、アミン濃度が理論値まで減少した時点で反応を終了した。反応時間は8時間であった。反応後の溶液のIR分析では、1,760cm-1付近にウレタン結合のカルボニル基由来の吸収が確認され、1,800cm-1付近の5員環環状カーボネートのカルボニル由来のピークは消失していたことから、5員環環状カーボネート化合物の両末端にヘキサメチレンジアミンが付加した化合物(中間体A)であることが確認された。
環状カーボネート化合物A−2を100部と、1,2−ビス(2−アミノエトキシ)エタン(商品名:EDR−148、HUNTSMAN社製)27.2部、トルエンの127.2部を用いた以外は、実施例1と同様に反応を行い、中間体を得た。そして、得られた中間体に対して、環状カーボネート化合物B−1を34.2部添加し、実施例1同様に反応させて、本発明の反応性ポリシロキサン化合物C−2を得た。
環状カーボネート化合物A−1を100部と、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン(商品名:ワンダミンHM、新日本理化製)11.7部、トルエン120.1部を用いた以外は、実施例1と同様に反応を行い、中間体を得た。そして、得られた中間体に対して、環状カーボネート化合物B−2を8.8部添加し、実施例1同様に反応させ反応性ポリシロキサン化合物C−3を得た。
実施例1で得られた反応性ポリシロキサン化合物C−1の30部に、多官能アクリレートモノマーとしてペンタエリスリトールトリアクリレート(商品名:PETIA、ダイセルサイテック社製)70部、光開始剤としてイルガキュア500(BASF社製光重合開始剤)10部を添加して撹拌することにより、塗工液を作製した。作製した塗工液を用いて、実施例1と同様にして、100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに5μm厚にコーティングし、実施例1と同様に紫外線照射により硬化させて、硬化性被膜を形成した。そして、これを評価試料とした。
実施例2で得られた反応性ポリシロキサン化合物C−2の30部に、反応性オリゴマーとしてエチレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物(商品名:エポキシエステル40EM、共栄社化学(株)製、表1では40EMと略称)70部、光開始剤としてイルガキュア500(BASF社製光重合開始剤)10部を添加し塗工液を作製した。作製した塗工液を用いて、実施例1と同様にして、基材である100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに5μm厚にコーティングし、実施例1と同様に紫外線照射により硬化させて、硬化性被膜を形成した。そして、これを評価試料とした。
撹拌装置及び大気開放口のある還流器を備えた反応容器内に、水酸基当量62mgKOH/gである両末端カルビノール変性シリコーンオイル(商品名:KF−6001、信越化学工業(株)製)100部、ヘキサメチレンジイソシアネート(商品名:HDI、日本ポリウレタン工業(株)製)18.6部、反応溶剤としてトルエン57部、触媒としてジブチル錫ジラウレートを0.02部添加した。そして、100℃まで昇温し、撹拌しながら反応液中のイソシアネート基含有率(JIS K1603)が理論量まで減少するまで、6時間の反応を行った。次いで、反応容器内にメタクリル酸2−ヒドロキシエチルを14.4部添加し、80℃にて6時間反応を継続した。反応後の溶液をIRにて分析したところ、2,200cm-1のイソシアネート基由来のピークは消失し、1,760cm-1にウレタン結合のカルボニル由来のピークが生成していたことから、反応が進行したことを確認した。反応後の溶液をロータリーエバポレーターに移し、トルエンを減圧留去することにより、透明で流動性のある物質を得た。
比較例1で得られたポリシロキサン化合物C−4の30部と、多官能アクリレートモノマーとしてペンタエリスリトールトリアクリレート(商品名:PETIA、ダイセルサイテック社製)70部、光開始剤としてイルガキュア500(BASF社製光重合開始剤)10部を添加し塗工液を作製した。そして、得られた塗工液を用いて、実施例1と同様にして100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに5μm厚にコーティングし、実施例1と同様に紫外線照射により硬化させて、硬化被膜を形成させた。そして、これを評価試料とした。
しかしながら、この評価試料の塗膜表面状態は、不均一に成分が分離した状態であり、且つ、表面にベトつきがあった。このことから、硬化が不十分である判断されたため、硬化被膜(塗膜)の評価は実施しなかった。
比較例1で得られたポリシロキサン化合物C−4の30部に、反応性オリゴマーとしてエチレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物(商品名:エポキシエステル40EM、共栄社化学(株)製、表1では40EMと略称)70部、光開始剤としてイルガキュア500(BASF社製光重合開始剤)10部を添加し塗工液を作製した。得られた塗工液を用いて、実施例1と同様にして100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに5μm厚にコーティングし、実施例1と同様に紫外線照射により硬化させて、硬化被膜(塗膜)を形成させた。そして、これを評価試料とした。
しかしながら、この評価試料の塗膜表面状態は比較例2と同様に不均一に成分が分離した状態であり、且つ、表面にベトつきがあった。このことから、比較例2と同様に、硬化が不十分と判断されたため、硬化被膜(塗膜)の評価は実施しなかった。
上記の各実施例で得られた評価試料を以下の項目及び評価基準により評価した。そして、得られた評価結果を表1にまとめて示した。
各評価試料の塗膜(硬化被膜)の硬化状態を確認するために、メチルエチルケトン(MEK)及び酢酸エチル(EAc)を用いたラビング試験を行い評価した。試験は荷重500g×10往復の条件で行い、ラビング試験後の塗膜表面を目視で評価し判定した。
○:いずれの溶剤においても塗膜に変化は見られなかった。
×:塗膜の溶解や剥がれが確認された。
20℃における水の接触角を測定し、以下基準で4段階に評価した。
◎:105°以上
○:95°以上105°未満
△:85°以上95°未満
×:85°未満
各評価試料の塗膜にセロハンテープを貼り付けて、180°剥離における剥離強度を測定した。剥離強度が弱い物を離型性が良好であるとし、以下の基準により3段階で評価した。
○:剥離強度が20g未満
△:剥離強度が20g以上100g未満
×:剥離強度が100g以上
実施例及び比較例で調製した基材を含む硬化塗膜(硬化被膜)を、3cm×3cmに切り取った物を評価試料とした。試料の中央部の塗布面を上とし反対側に180°に折り目が付くまで折り曲げ目視にて塗膜の状態を観察し、基材密着性を以下の基準により3段階で評価した。
○:塗膜の割れや剥がれは確認できない。
△:塗膜は剥がれていないが折り曲げ部に亀裂が発生している。
×:塗膜の一部が剥がれ落ちた。
各評価試料の塗膜に黒マジック(マジックインキ No.500)で線を引き、5分間放置した後に、乾いたティッシュペーパーにて拭き取りを行い、インクの残り具合を観察し、汚染除去性を以下の基準により3段階で評価した。
○:インクが完全に除去できる。
△:インクの大部分を除去できるが跡が残る。
×:インクが除去できない。
以下の基準により塗膜を形成している成分の環境対応性を3段階で評価した。
○:材料の一部が二酸化炭素であり、且つ有機錫触媒を使用していない。
△:材料の一部が二酸化炭素であるか有機錫触媒を使用していないかのどちらかの条件を満たしている。
×:材料に二酸化炭素を使用しておらず、有機錫触媒を使用している。
Claims (5)
- 下記一般式(1)で表されることを特徴とする反応性ポリシロキサン化合物。
[但し、一般式(1)中、−X−は、下記一般式(2)〜(5)のいずれかの構造を表す。また、Zは、炭素数が1〜22のアルキレン基を表すが、その構造中に、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、ウレタン結合またはウレア結合のいずれかを含んでいてもよい。また、R1は、アルキレン基かアリーレン基であり、その構造中にO、SまたはNの各元素を含んでいてもよい。R2は、炭素数1〜30のアルキレン基か、アリーレン基であり、その構造中にO、SまたはNの各元素を含んでいてもよい。R3は、CH3またはHである。nは1〜10から選ばれるいずれかの整数であり、mは1〜300から選ばれるいずれかの整数を表す。]
[但し、上記一般式(2)〜(5)中のYは、炭素数1〜30のアルキレン基か、アリーレン基のいずれかを表すが、これらの基は、その構造中にO、SまたはNの各元素を含んでいてもよく、これらのいずれかの元素を含む環状構造を有していてもよい。R4は、CH3またはHである。] - その水酸基価が6〜100mgKOH/gの範囲である請求項1に記載の反応性ポリシロキサン化合物。
- エポキシ変性ポリシロキサン化合物のエポキシ基と二酸化炭素とを反応させて、下記一般式(6)で示される、少なくとも1個の5員環環状カーボネート構造を有するポリシロキサン化合物(A)を合成した後、該化合物(A)と、少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物(B)と、不飽和基と5員環環状カーボネート構造の両方を少なくとも1個ずつ有する化合物(C)とを反応させて請求項1又は2に記載の反応性ポリシロキサン化合物を合成することを特徴とするポリシロキサン化合物の製造方法。
[但し、一般式(6)中のAは、下記一般式のいずれかを表し、下記式中のR1は、アルキレン基かアリーレン基のいずれかを表すが、これらの基は、その構造中にO、SまたはNの各元素を含んでいてもよい。また、R2は、何も無いか、または炭素数2〜20のアルキレン基を表し、mは、1〜300から選ばれるいずれかの整数を表す。]
- エポキシ化合物のエポキシ基と二酸化炭素とを反応させて、下記一般式(7)で示される、不飽和基と5員環環状カーボネート構造の両方を少なくとも1個ずつ有する化合物(C)を得た後、該化合物(C)と、少なくとも1個の5員環環状カーボネート構造を有するポリシロキサン化合物(A)と、少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物(B)とを反応させて請求項1又は2に記載の反応性ポリシロキサン化合物を合成することを特徴とするポリシロキサン化合物の製造方法。
[但し、一般式(7)中、R3及びR4は、それぞれ独立にHまたはCH3を表し、Wは、何も無いか、またはエステル結合を表し、Vは、炭素数1〜20のアルキレン基であるが、その構造中にNまたはO元素を含んでもよい。] - 合成した反応性ポリシロキサン化合物の全質量のうちに占める0.1〜10質量%が、原料に用いた二酸化炭素由来の−O−CO−結合で構成される請求項3又は4に記載の反応性ポリシロキサン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012106727A JP5876372B2 (ja) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | 反応性ポリシロキサン化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012106727A JP5876372B2 (ja) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | 反応性ポリシロキサン化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013234246A JP2013234246A (ja) | 2013-11-21 |
JP5876372B2 true JP5876372B2 (ja) | 2016-03-02 |
Family
ID=49760612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012106727A Active JP5876372B2 (ja) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | 反応性ポリシロキサン化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5876372B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6156825B2 (ja) * | 2014-09-11 | 2017-07-05 | 大日精化工業株式会社 | 反応性ポリシロキサン化合物及びこれを含む塗料組成物 |
CN114763438B (zh) * | 2021-01-14 | 2023-08-11 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种有机硅固化配方及固化方法和由其制备的硅橡胶 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4423811C1 (de) * | 1994-07-06 | 1996-01-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Hydrolysierbare und polymerisierbare Silane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE19505892C1 (de) * | 1995-02-21 | 1996-03-14 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von Carbonatgruppen enthaltenden Organopolysiloxanen |
JP2011132208A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-07-07 | Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd | 5員環環状カーボネートポリシロキサン化合物およびその製造方法 |
JP5492652B2 (ja) * | 2010-04-30 | 2014-05-14 | 大日精化工業株式会社 | ウェザーストリップ用材料及びウェザーストリップ |
JP5679739B2 (ja) * | 2010-08-26 | 2015-03-04 | 大日精化工業株式会社 | 自己架橋型ポリシロキサン変性ポリヒドロキシポリウレタン樹脂およびその製造方法 |
JP5558992B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2014-07-23 | 大日精化工業株式会社 | 剥離性処理剤 |
-
2012
- 2012-05-08 JP JP2012106727A patent/JP5876372B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013234246A (ja) | 2013-11-21 |
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