JP5860613B2 - X線干渉計用の回折格子及びその製造方法 - Google Patents

X線干渉計用の回折格子及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5860613B2
JP5860613B2 JP2011117832A JP2011117832A JP5860613B2 JP 5860613 B2 JP5860613 B2 JP 5860613B2 JP 2011117832 A JP2011117832 A JP 2011117832A JP 2011117832 A JP2011117832 A JP 2011117832A JP 5860613 B2 JP5860613 B2 JP 5860613B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
diffraction grating
resist
members
grating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2011117832A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012247536A (ja
Inventor
精鎮 絹田
精鎮 絹田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Optnics Precision Co Ltd
Original Assignee
Optnics Precision Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Optnics Precision Co Ltd filed Critical Optnics Precision Co Ltd
Priority to JP2011117832A priority Critical patent/JP5860613B2/ja
Publication of JP2012247536A publication Critical patent/JP2012247536A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5860613B2 publication Critical patent/JP5860613B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Description

本発明は、X線干渉計用の回折格子及びその製造方法に関する。
第1および第2の回折格子と、X線画像検出器とを備え、第1の回折格子が、該第1回折格子に照射されたX線を回折してタルボ効果を生じさせ、第2の回折格子が、第1の回折格子により回折されたX線を更に回折し、X線画像検出器が、第2の回折格子により回折されたX線を検出するX線撮像装置が開示されている(特許文献1参照)。また、マルチスリット部の機能をX線発生装置に組み込んだX線撮像装置が開示されている(特許文献2参照)。
更に、X線干渉計に用いられる振幅型回折格子の製造方法として、該振幅型回折格子のX線吸収部を、X線マスクによるX線リソグラフィー(LIGA方式)及び電鋳法によって形成することが開示されている(特許文献3参照)。
国際公開第2004/058070号 特開2008−145111号公報 特許第4608679号公報
しかしながら、上記した特許文献3の記載の回折格子では、厚み方向に所定ピッチで形成された格子(X線吸収部)の間に樹脂層が存在しているため、X線を回折する際に、該樹脂層においてある程度X線が吸収されてしまうと考えられる。
本発明は、上記事実を考慮して、X線干渉計用の回折格子について、格子間でのX線に対する透明性と解像性を向上させることを目的とする。
請求項1に記載のX線干渉計用の回折格子では、厚み方向に間隔を空けて配置される格子部材が、格子部材の延在方向と交差する方向に延在しX線に対し透明な架橋部材により、厚み方向に隣接する該格子部材が互いに支え合うように連結されているので、格子部材同士の間(格子間)でのX線に対する透明性を向上させると共に、X線の直進進行特性を変化させずにより精確に解像性を向上させることができる。
請求項2に記載のX線干渉計用の回折格子では、架橋部材が複数の格子部材を貫通しているので、架橋部材の本数を抑制しつつ、各格子部材を安定的に連結することができる。
請求項3に記載のX線干渉計用の回折格子の製造方法では、格子間でのX線に対する透明性が高い回折格子を容易に製造することができる。
請求項4に記載のX線干渉計用の回折格子の製造方法では、複数のレジスト層を積層する際に、架橋部材を該レジスト層の間に配置するので、該架橋部材をレジスト層の積層方向に広く分布させることができる。このため、各格子部材の連結状態をより安定させることができる。
請求項5に記載のX線干渉計用の回折格子の製造方法では、架橋部材の延在方向を厚み方向に揃えて配置するので、格子部材の連結強度のばらつきを抑制することができる。
請求項6に記載のX線干渉計用の回折格子の製造方法では、X線レジスト内に、架橋部材をランダムに混合するので、該架橋部材の配置の際の位置決め作業を省略することができ、基板上での該X線レジストの形成が容易となる。
以上説明したように、本発明に係る請求項1に記載のX線干渉計用の回折格子によれば、X線干渉計用の回折格子について、格子間でのX線に対する透明性と解像性を向上させることができる、という優れた効果が得られる。
請求項2に記載のX線干渉計用の回折格子によれば、架橋部材の本数を抑制しつつ、各格子部材を安定的に連結することができる、という優れた効果が得られる。
請求項3に記載のX線干渉計用の回折格子の製造方法によれば、格子間でのX線に対する透明性が高い回折格子を容易に製造することができる、という優れた効果が得られる。
請求項4に記載のX線干渉計用の回折格子によれば、各格子部材の連結状態をより安定させることができる、という優れた効果が得られる。
請求項5に記載のX線干渉計用の回折格子によれば、各格子部材の連結強度のばらつきを抑制することができる、という優れた効果が得られる。
請求項6に記載のX線干渉計用の回折格子によれば、基板上でのX線レジストの形成が容易となる、という優れた効果が得られる。
X線レジストを形成する際に、各レジスト層の間に、該X線レジストの厚み方向の長さと対応する長さの架橋部材を配置して行く状態を示す斜視図である。 図1に対応するX線レジストを示す部分破断斜視図である。 X線リソグラフィーによって、回折格子の厚み方向となる方向に間隔を空けて溝を形成した状態を示す断面図である。 X線レジストの溝に、X線を回折するための複数の格子部材を電鋳によって形成した状態を示す断面図である。 X線干渉計用の回折格子を示す断面図である。 X線レジスト内に、比較的短い架橋部材を、厚み方向に揃えて断続的に配置した例を示す部分破断拡大斜視図である。 図6に記載のX線レジストを用いて製造された回折格子を示す断面図である。 X線レジスト内に、架橋部材を平面的、かつランダムな向きに配置した例を示す部分破断拡大斜視図である。 X線レジスト内に、架橋部材を立体的にランダムに混合した例を示す部分破断拡大斜視図である。 図9に記載のX線レジストを用いて製造された回折格子を示す断面図である。
以下、本発明を実施するための形態を図面に基づき説明する。
(回折格子の製造方法)
図1,図2において、本実施形態に係るX線干渉計用の回折格子の製造方法は、まず、例えばステンレス製の基板12上に、X線に対し透明な架橋部材14を含むX線レジスト16を形成する。
X線に対し透明な架橋部材14とは、X線の吸収が少なくなるように、例えば原子量の小さい元素により構成された硬質の繊維(ファイバー等)、断面が円、楕円、或いは四角形等の多角形の棒状部材又は板状部材であって、後述する格子部材20を保持可能な強度及び剛性を有するものである。従って、架橋部材14の素材としては、例えば、炭素やホウ素が好適である。また架橋部材14の素材として、ポリイミドやチタン、アルミナウィスカー等を用いることも可能である。炭素製の架橋部材14の場合、外径は、例えば0.1〜15μmである。
X線レジスト16は、例えば複数のレジスト層22からなる積層構造とされる。X線レジスト16には、液体レジストやフィルムレジスト等が用いられる。液体レジストを用いる場合、各レジスト層22の境界は必ずしも明確ではない。従って、架橋部材14は、液体レジストを塗り重ねて行く合間に適宜配置される。フィルムレジストを用いる場合、架橋部材14は、レジスト層22を重ねて行く際に、該レジスト層22の間に適宜配置される。各レジスト層22は、例えば接着剤を用いて接着される。
なお、図1,図2では、レジスト層22が4層となっているが、層数はこれに限られない。また、図1では、積層方向Lに重なるレジスト層22の間に夫々架橋部材14が配置されているが、層間に架橋部材14が配置されない部分があってもよい。
次に、図3に示されるように、X線レジスト16に、X線マスク18を用いたX線リソグラフィーによって、後述する回折格子10(図5)の厚み方向Tとなる方向に間隔を空けて溝16Aを形成する。このとき、厚み方向Tに隣接する該溝16A間のX線レジスト16を架橋部材14が貫くようにする。図1から図3に示される例では、架橋部材14の長さが、X線レジスト16の厚み方向Tの長さと対応している。また架橋部材14は、例えば厚み方向Tに揃えて配置される。従って、各架橋部材14が、溝16A間のX線レジスト16と、該厚み方向Tの両側のX線レジスト16とを、串刺し状に貫いた状態となる。
次に、図4に示されるように、溝16Aに、X線を回折するための複数の格子部材20を電鋳によって形成する。そして、図5に示されるように、基板12上に残存するX線レジスト16を除去することで、X線干渉計用の回折格子10を得る。
このように、本実施形態に係るX線干渉計用の回折格子の製造方法では、厚み方向Tに隣接する格子部材20が互いに支え合うように、架橋部材14により該格子部材20同士を連結した状態とするものである。これにより、格子間でのX線に対する透明性が高い回折格子10を容易に製造することができる。
また複数のレジスト層22を積層する際に、架橋部材14を該レジスト層22の間に配置するので、該架橋部材14をレジスト層22の積層方向に広く分布させることができる。このため、各格子部材20の連結状態をより安定させることができる。また架橋部材14を厚み方向Tに揃えて配置するので、格子部材20の連結強度のばらつきを抑制することができる。
なお、架橋部材14は、図1から図5に示されるような、X線レジスト16を串刺し状に貫くような長いものに限らない。例えば、図6に示されるように、比較的短い架橋部材14を、厚み方向Tに揃えて断続的に配置してもよい。この場合、図7に示されるように、完成した回折格子10において、架橋部材14は格子部材20を貫通していないが、厚み方向Tに隣接する格子部材20を、各架橋部材14により連結することができる。
また図8に示されるように、レジスト層22を積層する際に、各レジスト層22の間に、架橋部材14を平面的、かつランダムな向きに配置してもよい。この場合、厚み方向Tに隣接する格子部材20を、該格子部材20の間に延びる一部の架橋部材14により確率的に連結することができる。
更に、図9に示されるように、X線レジスト16内に、架橋部材14を立体的にランダムに混合しておいてもよい。この場合、架橋部材14の配置が立体的にランダムとなるので、図10に示されるように、厚み方向Tに隣接する格子部材20を、該格子部材20の間に延びる一部の架橋部材14により確率的に連結することができる。またこの場合、架橋部材14の配置の際の位置決め作業を省略することができるので、基板12上でのX線レジスト16の形成が容易となり、製造コストの低減を図ることができる。
なお、図8,図9に示されるように、架橋部材14をランダムに配置する例では、隣接する格子部材20に届かず格子部材20の間で終端する架橋部材14が存在し得るが、該架橋部材14はX線に対して透明であり、実用上問題はない。
(回折格子)
図5において、本実施形態に係るX線干渉計用の回折格子10は、厚み方向Tに間隔を空けて配置されX線を回折可能に構成された複数の格子部材20と、X線に対し透明であり、厚み方向Tに隣接する格子部材20が互いに支え合うように、該格子部材20同士を連結する架橋部材14と、を有している。これにより、格子部材20同士の間(格子間)でのX線に対する透明性を向上させることができる。また、X線の直進進行特性を変化させずにより精確に解像性を向上させることができる。図7及び図10に示される回折格子10についても同様である。従って、本実施形態に係る回折格子10は、何れも、X線位相画像撮像装置に用いられる位相格子や吸収格子として好適である。
なお、図5に示される回折格子10では、架橋部材14が、複数の格子部材20を貫通している。このため、架橋部材14の本数を抑制しつつ、各格子部材20を安定的に連結することができる。
10 X線干渉計用の回折格子
12 基板
14 架橋部材
16 X線レジスト
16A 溝
18 X線マスク
20 格子部材
22 レジスト層
L 積層方向
T 厚み方向

Claims (6)

  1. 厚み方向に間隔を空けて配置されX線を回折可能に構成された複数の格子部材と、
    X線に対し透明であり、隣接する前記格子部材が互いに支え合うように、前記格子部材の延在方向と交差する方向に延在し、該格子部材同士を連結する架橋部材と、
    を有するX線干渉計用の回折格子。
  2. 前記架橋部材は、複数の前記格子部材を貫通している請求項1に記載のX線干渉計用の回折格子。
  3. 基板上に、X線に対し透明な架橋部材を含むX線レジストを形成し、
    該X線レジストに、X線マスクを用いたX線リソグラフィーによって、格子部材の厚み方向となる方向に間隔を空けて溝を形成し、このとき該厚み方向に隣接する該溝間の前記X線レジストを前記架橋部材が貫くようにし、
    該溝にX線を回折するための複数の前記格子部材を電鋳によって形成し、
    前記基板上に残存する前記X線レジストを除去し、前記厚み方向に隣接する前記格子部材が互いに支え合うように、前記格子部材の延在方向と交差する方向に延在する前記架橋部材により該格子部材同士を連結した状態とするX線干渉計用の回折格子の製造方法。
  4. 前記X線レジストを複数のレジスト層からなる積層構造とし、該レジスト層を積層する際に、前記架橋部材を該レジスト層の間に配置する請求項3に記載のX線干渉計用の回折格子の製造方法。
  5. 前記架橋部材の延在方向を前記厚み方向に揃えて配置する請求項3又は請求項4に記載のX線干渉計用の回折格子の製造方法。
  6. 前記X線レジスト内に、前記架橋部材をランダムに混合する請求項3に記載のX線干渉計用の回折格子の製造方法。
JP2011117832A 2011-05-26 2011-05-26 X線干渉計用の回折格子及びその製造方法 Expired - Fee Related JP5860613B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011117832A JP5860613B2 (ja) 2011-05-26 2011-05-26 X線干渉計用の回折格子及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011117832A JP5860613B2 (ja) 2011-05-26 2011-05-26 X線干渉計用の回折格子及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012247536A JP2012247536A (ja) 2012-12-13
JP5860613B2 true JP5860613B2 (ja) 2016-02-16

Family

ID=47468037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011117832A Expired - Fee Related JP5860613B2 (ja) 2011-05-26 2011-05-26 X線干渉計用の回折格子及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5860613B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3555893A1 (en) 2016-12-15 2019-10-23 Koninklijke Philips N.V. Grating structure for x-ray imaging

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61174502A (ja) * 1985-01-29 1986-08-06 Shimadzu Corp 軟x線用光学素子
JP4608679B2 (ja) * 2005-03-17 2011-01-12 財団法人新産業創造研究機構 X線タルボ干渉計に用いられる位相型回折格子と振幅型回折格子の製造方法
JP4642818B2 (ja) * 2007-08-02 2011-03-02 株式会社ナノクリエート 回折格子の製造方法
JP4663742B2 (ja) * 2008-01-16 2011-04-06 株式会社ナノクリエート 回折格子の製造方法
JP5339975B2 (ja) * 2008-03-13 2013-11-13 キヤノン株式会社 X線位相イメージングに用いられる位相格子、該位相格子を用いたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム
JP2012093429A (ja) * 2010-10-25 2012-05-17 Fujifilm Corp 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに、放射線画像撮影システム

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012247536A (ja) 2012-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5339975B2 (ja) X線位相イメージングに用いられる位相格子、該位相格子を用いたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム
US7787596B2 (en) X-ray absorption grid
US20100246764A1 (en) Source grating for x-rays, imaging apparatus for x-ray phase contrast image and x-ray computed tomography system
JP4608679B2 (ja) X線タルボ干渉計に用いられる位相型回折格子と振幅型回折格子の製造方法
JP5586899B2 (ja) X線用位相格子及びその製造方法
JP2009244260A5 (ja)
KR20110031118A (ko) 로터리 인코더, 로터리 모터, 로터리 모터 시스템, 디스크 및 로터리 인코더의 제조 방법
JP2004069702A5 (ja)
EP2511669A2 (en) Encoder
JP5860613B2 (ja) X線干渉計用の回折格子及びその製造方法
JP2008197593A (ja) X線用透過型回折格子、x線タルボ干渉計およびx線撮像装置
JP2020187121A (ja) 光学式の位置測定装置
JP6365299B2 (ja) 回折格子および回折格子の製造方法、格子ユニットならびにx線撮像装置
WO2018066198A1 (ja) 回折格子ユニット、格子ユニットの製造方法およびx線位相イメージ撮影装置
JP2008241879A (ja) 偏光ビームスプリッタ
JP2007248082A5 (ja)
JP2015017343A5 (ja)
JP5258504B2 (ja) X線位相イメージングに用いられる位相格子及びその製造方法、該位相格子を用いたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム
JP2008216602A (ja) 反射型回折格子ホログラム及びx線集光システム
JP2015135322A (ja) X線遮蔽格子およびその製造方法
EP3045873B1 (de) Optische positionsmesseinrichtung
RU2666153C2 (ru) Дифракция в ближнем поле на основе эффекта тальбота для спектральной фильтрации
JP2018179587A (ja) X線用金属グリッド、x線撮像装置、及びx線用金属グリッドの製造方法
JP2018179586A (ja) X線用金属グリッド、x線撮像装置、及びx線用金属グリッドの製造方法
JP2011203273A (ja) 光電式インクリメンタル型エンコーダ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140423

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150407

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150603

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151208

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151221

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5860613

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees