JP2007248082A5 - - Google Patents
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Claims (15)
- 荷電粒子線装置の倍率、或いは寸法校正に用いられる荷電粒子線用標準試料において、
当該標準試料は、所定の格子構造を有する物質に所定のピッチで配列されたパターンを設けて構成され、荷電粒子線が透過できるように薄膜化されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項1記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記標準試料は、前記パターンの配列方向とは垂直な方向に薄膜化されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項1記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記配列されたパターン間に、格子構造を有する物質が設けられていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項3記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記配列されたパターンと前記格子構造を有する物質は、互いに噛み合うように構成されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項1記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記標準試料は、ピッチ寸法(周期)が公証値として既知の周期構造を有する倍率基準試料であることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項1記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記標準試料は、前記荷電粒子線の光軸に対し、薄膜面が垂直となるように配置されるものであることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項1記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記標準試料は、前記荷電粒子線による格子像観察が可能なように薄膜化されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項1記載の荷電粒子線用標準試料において、
薄膜化された異なる2つの試料が複合した前記標準試料の薄膜面が、前記荷電粒子線に対して垂直な方向となるように配置されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 荷電粒子線装置の倍率、或いは寸法校正に用いられる荷電粒子線用標準試料において、
当該標準試料は、所定の配列ピッチで配置されたパターン間に所定の格子構造を有する物質を設けて構成され、荷電粒子線が透過できるように薄膜化されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項9記載の荷電粒子線用標準試料において、
当該標準試料は、前記パターンの配列方向とは垂直な方向に薄膜化されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項9記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記配列されたパターンと前記格子構造を有する物質は、互いに噛み合うように構成されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項9記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記標準試料は、ピッチ寸法(周期)が公証値として既知の周期構造を有する倍率基準試料であることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項9記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記標準試料は、前記荷電粒子線の光軸に対し、薄膜面が垂直となるように配置されるものであることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項9記載の荷電粒子線用標準試料において、
前記標準試料は、前記荷電粒子線による格子像観察が可能なように薄膜化されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。 - 請求項9記載の荷電粒子線用標準試料において、
薄膜化された異なる2つの試料が複合した前記標準試料の薄膜面が、前記荷電粒子線に対して垂直な方向となるように配置されていることを特徴とする荷電粒子線用標準試料。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006068471A JP2007248082A (ja) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | 荷電粒子線装置に用いられる標準試料,荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置に用いられる標準試料の製造方法 |
US11/717,094 US7622714B2 (en) | 2006-03-14 | 2007-03-13 | Standard specimen for a charged particle beam apparatus, specimen preparation method thereof, and charged particle beam apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006068471A JP2007248082A (ja) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | 荷電粒子線装置に用いられる標準試料,荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置に用いられる標準試料の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011185444A Division JP5560246B2 (ja) | 2011-08-29 | 2011-08-29 | 荷電粒子線装置に用いられる標準試料,及び荷電粒子線装置に用いられる標準試料の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007248082A JP2007248082A (ja) | 2007-09-27 |
JP2007248082A5 true JP2007248082A5 (ja) | 2009-08-20 |
Family
ID=38592578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006068471A Pending JP2007248082A (ja) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | 荷電粒子線装置に用いられる標準試料,荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置に用いられる標準試料の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7622714B2 (ja) |
JP (1) | JP2007248082A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4966719B2 (ja) * | 2007-04-11 | 2012-07-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 校正用標準部材及びその作製方法、並びにそれを用いた電子ビーム装置 |
KR100945875B1 (ko) * | 2007-12-26 | 2010-03-05 | 주식회사 동부하이텍 | 에프아이비를 이용한 티이엠 분석 방법 및 그 구조 |
JP5973466B2 (ja) | 2011-01-28 | 2016-08-23 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | Tem試料の調製 |
JP5699207B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2015-04-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡用試料保持装置及び電子顕微鏡装置 |
JP5809935B2 (ja) * | 2011-11-08 | 2015-11-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査透過電子顕微鏡、および試料観察方法 |
US20230057900A1 (en) * | 2019-09-20 | 2023-02-23 | The Regents Of The University Of California | Systems and methods for structurally characterizing compounds |
CN111474200B (zh) * | 2020-04-16 | 2023-09-26 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 制备电子元件显微结构样品的方法 |
JP2024022791A (ja) * | 2022-08-08 | 2024-02-21 | 株式会社日立製作所 | 透過電子顕微鏡に用いられる標準試料及びその製造方法、透過電子顕微鏡の調整方法、透過電子顕微鏡で得られた観察画像の解析方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3488745B2 (ja) | 1994-07-20 | 2004-01-19 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 寸法校正試料搭載ステ−ジ、及び寸法校正試料 |
JP2544588B2 (ja) | 1994-07-29 | 1996-10-16 | 株式会社日立製作所 | 測長用校正部材及びその作製方法 |
JP2705696B2 (ja) * | 1996-12-25 | 1998-01-28 | 株式会社日立製作所 | 試料ステージ |
JPH10302703A (ja) * | 1997-04-24 | 1998-11-13 | Hitachi Ltd | 倍率、傾斜角測定法 |
JP3633325B2 (ja) * | 1998-11-25 | 2005-03-30 | 株式会社日立製作所 | 試料作製装置および試料作製方法 |
JP3710959B2 (ja) * | 1999-06-01 | 2005-10-26 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 透過電子顕微鏡用試料作成方法 |
JP2001264220A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-26 | Jeol Ltd | 集束イオンビーム装置用標準試料 |
JP2003279321A (ja) | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Hitachi High-Technologies Corp | 微小寸法校正用標準試料 |
US6750447B2 (en) * | 2002-04-12 | 2004-06-15 | Agere Systems, Inc. | Calibration standard for high resolution electron microscopy |
JP4287671B2 (ja) * | 2003-02-19 | 2009-07-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 測長用標準部材およびその作製方法、並びにそれを用いた電子ビーム測長装置 |
US6875982B2 (en) * | 2003-08-29 | 2005-04-05 | International Business Machines Corporation | Electron microscope magnification standard providing precise calibration in the magnification range 5000X-2000,000X |
JP3837132B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2006-10-25 | Tdk株式会社 | 試料評価方法、評価用基板及び評価用基板形成方法 |
JP4587742B2 (ja) * | 2004-08-23 | 2010-11-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微方法及び荷電粒子線応用装置 |
-
2006
- 2006-03-14 JP JP2006068471A patent/JP2007248082A/ja active Pending
-
2007
- 2007-03-13 US US11/717,094 patent/US7622714B2/en not_active Expired - Fee Related
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