JP2008241879A - 偏光ビームスプリッタ - Google Patents
偏光ビームスプリッタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008241879A JP2008241879A JP2007079191A JP2007079191A JP2008241879A JP 2008241879 A JP2008241879 A JP 2008241879A JP 2007079191 A JP2007079191 A JP 2007079191A JP 2007079191 A JP2007079191 A JP 2007079191A JP 2008241879 A JP2008241879 A JP 2008241879A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wave
- region
- refractive index
- grating
- diffraction grating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
【課題】本発明は、垂直入射光について、その入射方向に対しTE波およびTM波を左右対称に偏光分離することができる偏光ビームスプリッタを提供することを目的とする。
【解決手段】鋸歯格子形状を階段形状で近似したブレーズ回折格子における位相差を屈折率の差に置き換えて構成した回折格子において、所定の複屈折性を示すように設計された有機材料や所定の複屈折性を示すように設計された形状からなる構造体を用いることによって、当該回折格子のTE波およびTM波のそれぞれに対する屈折率分布を、実質的に逆転させる。
【選択図】図7
【解決手段】鋸歯格子形状を階段形状で近似したブレーズ回折格子における位相差を屈折率の差に置き換えて構成した回折格子において、所定の複屈折性を示すように設計された有機材料や所定の複屈折性を示すように設計された形状からなる構造体を用いることによって、当該回折格子のTE波およびTM波のそれぞれに対する屈折率分布を、実質的に逆転させる。
【選択図】図7
Description
本発明は、偏光ビームスプリッタに関し、より詳細には、垂直入射光について、その入射方向に対しTE波およびTM波を左右対称に分離することができる偏光ビームスプリッタに関する。
従来、入射光からTE波およびTM波を分離するための偏光ビームスプリッタについて種々検討がなされており、特開平6−130224号公報(特許文献1)および特開平10−82911号公報(特許文献2)は、回折型の偏光ビームスプリッタを開示する。しかしながら、特許文献1および2が開示する回折型の偏光ビームスプリッタは、いずれもTE波およびTM波のいずれか一方を回折光、他方を透過光として分光するものであり、このような構成の偏光ビームスプリッタを用いる光学系は非対称にならざるを得ず、光エンコーダーなどの光学装置のコンパクト化の実現の障害となっていた。この点につき、特開2004−184505号公報(特許文献3)は、ブレーズ回折格子として形成された2種類の高分子液晶層を互いにX軸に対して180度回転した形状とすることによって、S偏光およびP偏光を入射光の方向に対してそれぞれ大きな分離角度をもって分離することのできる偏光ビームスプリッタを開示する。しかしながら特許文献3が開示する偏光ビームスプリッタにおいては、高分子液晶層の常光屈折率と充填する均質屈折率透明材料の屈折率を合わせる必要があり、しかも、高分子液晶層を反応性イオンエッチングで所望の高さを有する鋸歯状のブレーズ回折格子に加工するためには、選択比の高いマスクが必要であるが、この点につき、特許文献3は、何ら具体的な実施方法を開示するものではなく、消光比や回折効率の高い高性能な偏光ビームスプリッタを実現する方法を実質的に開示するものではなかった。また、特許文献3が開示する偏光ビームスプリッタにおいては、素子の構成材料について種々の条件、制約があるため、適用できる材料が限定されるという問題があった。
特開平6−130224号公報
特開平10−82911号公報
特開2004−184505号公報
本発明は、上記従来技術における課題に鑑みてなされたものであり、本発明は、垂直入射光について、その入射方向に対しTE波およびTM波を左右対称に分離することができる偏光ビームスプリッタを提供することを目的とする。
本発明者は、垂直入射光について、その入射方向に対しTE波およびTM波を左右対称に偏光分離することができる偏光ビームスプリッタにつき鋭意検討した結果、鋸歯格子形状を階段形状で近似したブレーズ回折格子における位相差を屈折率の差に置き換えて構成した回折格子について、TE波およびTM波のそれぞれに対する屈折率分布を、実質的に逆転させることによって、TE波およびTM波を、それぞれ+1次および−1次の回折光として高い効率で回折させるという着想に至った。本発明者は、当該着想に基づき、その具体化を検討するなかで、複屈折性を利用することによって、上述した機能を奏する回折格子を構成することができることを見出し、本発明に至ったのである。
すなわち、本発明によれば、それぞれが固有の屈折率を有する複数の領域が並設されてなる構造を周期単位とするブレーズド型マルチ位相回折格子を備えた偏光ビームスプリッタであって、前記複数の領域のうち少なくとも一つが複屈折性を有する領域であり、TE波およびTM波を、それぞれ+1次の回折光および−1次の回折光として分離する偏光ビームスプリッタが提供される。本発明においては、前記周期単位を、TE波に対する前記複数の領域の屈折率の大きさの昇順方向が、TM波に対して前記複数の領域の屈折率の大きさの降順方向となるように前記複数の領域が並設されてなるものとすることができ、また、前記複屈折性を有する領域が、サブ波長周期構造の格子によって形成することができる。
上述したように、本発明によれば、垂直入射光について、その入射方向に対しTE波およびTM波を左右対称に偏光分離することができる偏光ビームスプリッタが提供される。
以下、本発明を図面に示した実施の形態をもって説明するが、本発明は、図面に示した実施の形態に限定されるものではない。
本発明の各実施形態について説明する前に、本発明の偏光ビームスプリッタの原理について図1〜図6を参照しながら以下説明する。一般に、ブレーズ回折格子においては、+1次回折光または−1次回折光のいずれか一方向が高い効率で回折され、他方の回折光は非常に弱くなる。また、この傾向は、ブレーズ回折格子における鋸歯格子形状を階段形状で近似した場合であっても同様であり、3値または4値レベルの低い位相レベルであってもこの傾向が顕著であることがわかっている。ここで、鋸歯格子形状を階段形状で近似したブレーズ回折格子における位相差を、屈折率の差に置き換えることによって同等の機能を奏する回折格子を構成することができる。図1は、階段形状で近似した4値のブレーズ回折格子の周期単位100と、周期単位100における位相差を、屈折率の差に置き換えて構成した回折格子(以下、ブレーズド型マルチ位相回折格子として参照する)の周期単位102を示す。ここで周期単位100からなる4値のブレーズ回折格子は、+1次回折光を高い効率で回折する。周期単位102は、屈折率の異なる4つの領域a〜dによって構成されており、各領域の屈折率n0〜n3は、下記式(1)の関係を満たすことを要する。なお、下記式(1)においてλは使用波長を、Dは周期単位102の厚みを示す。
図3は、4値のブレーズ回折格子の周期単位200と、周期単位200における位相差を、屈折率の差に置き換えて構成された4値のブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位202を示す。ここで周期単位200からなる4値のブレーズ回折格子は、図1に示したブレーズド型マルチ位相回折格子106と同じ使用波長の入射光から−1次回折光を高い効率で回折する。周期単位202は、図1に示した周期単位102と同様に屈折率の異なる4つの領域a’〜d’によって構成されており、各領域の屈折率n0〜n3は、周期単位102と同様に上記式(1)の関係を満たすことを要する。
上記式(1)を満たすように形成された周期単位202は、周期単位200と同様に機能する。すなわち、図4に示すように、基板204上に周期単位202が並設されてなる回折格子206に対して光を入射すると、TE波およびTM波のいずれについてもその−1次回折光が高い効率で回折される。
ここで、TE波に対しては、図1の周期単位102の各領域の屈折率の大きさの順番(紙面左側からn0→n3)と同様の順番の屈折率を示すと同時に、偏光がTE波に直交するTM波に対しては、図3の周期単位202の各領域における屈折率の大きさの順番(紙面左側からn3→n0)と同様の順番の屈折率を示すように形成された周期単位構造を実現することができれば、TE波についてだけ、周期単位102のように+1次回折光を高効率で回折し、TM波についてだけ、周期単位202のように−1次回折光を高効率で回折する新規なブレーズド型マルチ位相回折格子が実現されるはずである。なお、TE波とTM波に対応する屈折率の順番は、逆であっても良いことは言うまでもない。本発明の偏光ビームスプリッタは、上述した新規なブレーズド型マルチ位相回折格子の着想を具体化してなるものであり、以下、その具体的構成について図5を参照しながら説明する。
図5は、上述した機能を実現するための手段として本発明が開示する新規な回折格子である、複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位300を示す。図5に示すように、周期単位300は、屈折率の異なる4つの領域ax〜dxによって構成されており、各領域は、TE波およびTM波のそれぞれに対して固有の屈折率を示す。すなわち、本発明においては、4つの領域ax〜dxのうち、2つの領域もしくは全ての領域が複屈折性を有することを特徴とする。図5(a)を参照して具体的に説明すると、領域axは、TE波、TM波のいずれに対してもn0の屈折率を示し、領域bxは、TE波に対してはn1の屈折率を、TM波に対してはn3の屈折率を示す複屈折性の領域として形成されている。さらに、領域cxは、TE波、TMのいずれに対してもn2の屈折率を示し、領域dxは、TE波に対してはn3の屈折率を、TM波に対してはn1の屈折率を示す複屈折性の領域として形成されている。
ここで、上述した領域ax〜dxから構成された周期単位300について、各領域の屈折率の順番に着目した場合、TE波に対する各領域の屈折率の大きさの順番は、図1に示した周期単位102と同じ屈折率の大きさの順番を示しており、これを、各領域のTM波に対する各領域の屈折率の大きさの順番は、図3に示した周期単位202と同じ屈折率の大きさの順番を示していることが理解されよう。すなわち、複屈折性の領域である領域bxおよび領域dxを含んで、領域ax〜領域dxを並設するこことにより、周期単位300を、TE波に対する領域ax〜領域dxの屈折率の大きさの昇順方向が、TM波に対して領域ax〜領域dxの領域の屈折率の大きさの降順方向となるように構成することが可能となり、TE波およびTM波のそれぞれに対して、各領域の屈折率の順番が逆方向になる構成が実現される。
図6は、上述したように構成した周期単位300が基板302上に並設されてなる本発明の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子304を示す。複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子304に対して光を入射すると、複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子304の周期単位300は、TE波に対しては周期単位102のように機能し、TE波に対しては周期単位202のように機能する結果、図6に示すように、TE波は+1次の回折光として、TM波は−1次の回折光としてそれぞれ高い効率で回折され、TE波およびTE波は、入射光の入射方向に対して対称に回折される。
ただし、周期単位300の各領域における複屈折性の組み合わせは、図5(a)に示したものに限定されない。上述した例示では、領域axを、TE波およびTM波のいずれについても位相差(0)の領域とし、領域cxを、TE波およびTM波のいずれについても位相差(π)の領域とし、領域bxを、TE波について位相差(π/2)、TM波について位相差(3π/2)の領域とし、領域dxを、TE波について位相差(3π/2)、TM波について位相差(π/2)の領域とすべく、領域bxおよび領域dxを、TE波およびTM波のそれぞれに対して複屈折性を示す領域として構成されている。しかしながら、領域bxおよび領域dxにおいては、その屈折率差、すなわち位相差がπとなっており、このように大きな位相差に相当する複屈折性を実現することは一般に困難を伴うので、本発明においては、周期単位300の複屈折性を有する各領域において、TE波についての位相差とTM波についての位相差との差がなるべく小さくなるように設計することが好ましい。換言すれば、本発明においては、周期単位300の複屈折性を有する各領域において、TE波についての屈折率とTM波についての屈折率との差がなるべく小さくなるように設計することが好ましい。
例えば、4値の場合は、図5(b)に示す組み合わせが可能である。図5(b)に示す周期単位300においては、領域axは、TE波に対してはn0の屈折率を、TM波に対してはn1の屈折率を示す複屈折性の領域として形成され、領域bxは、TE波に対してはn1の屈折率を、TM波に対してはn0の屈折率を示す複屈折性の領域として形成される。さらに、領域cxは、TE波に対してはn2の屈折率を、TM波に対してはn3の屈折率を示す複屈折性の領域として形成され、領域dxは、TE波に対してはn3の屈折率を、TM波に対してはn2の屈折率を示す複屈折性の領域として形成される。このように領域ax〜dxの複屈折性を設計すると、領域ax〜dxの各領域における位相差をいずれもπ/2とすることができる。
以上、本発明の偏光ビームスプリッタが備える複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の機能構成を4値の場合を例にとって説明してきたが、本発明は、3値以上の位相レベルであれば実現可能である。続いて、本発明の偏光ビームスプリッタにおける上述した周期単位300の具体的構成について複数の実施形態をもって以下説明する。
最初に、本発明の偏光ビームスプリッタの周期単位を、4値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子を例にとって説明する。図7は、本発明の第1の実施形態である4値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位10(以下、4値の周期単位10として参照する)を示す。図7に示されるように、4値の周期単位10は、分割された4つの領域、a、b、c、およびdからなる。領域a〜dの各領域は、入射光の波長以下の格子周期を有するバイナリ型の格子(以下、サブ波長周期格子という)によって構成されている。サブ波長周期格子は、複屈折性を有し、しかも、その屈折率は、デューティ比によって変化することが知られている。なお、本発明においてデューティ比とは、格子周期に対する凸部の割合をいうものとする。
図7に示されるように、領域a〜dを構成するサブ波長周期格子A〜Dは、デューティ比あるいは格子の方向が異なる。具体的に説明すると、サブ波長周期格子Aとサブ波長周期格子Bは、同じ周期およびデューティ比によって形成されており、格子の方向のみが異なっている。すなわち、サブ波長周期格子Aとサブ波長周期格子Bとは、その格子の長手方向が直交している。サブ波長周期格子Cとサブ波長周期格子Dも同様に、周期、デューティ比が同じ構造で、格子の方向のみが異なっている。さらに、サブ波長周期格子A、Bとサブ波長周期格子C、Dとはデューティ比が異なっている。すなわち、サブ波長周期格子Cとサブ波長周期格子Dとは、その格子の長手方向が直交している。また、サブ波長周期格子Aおよびサブ波長周期格子Cの格子の長手方向が周期構造方向Xと直交している4値の周期単位10においては、周期構造方向Xに偏光したTM波の入射に対して、領域aを通過する光の位相を基準(0)とするときに、領域a〜dの位相差が、それぞれ(0、π/2、π、3π/2)となり、同時に、TM波と直交する偏光ビームTE波の入射に対して、領域aと領域b、ならびに領域cと領域dの位相差が逆転し、領域bの領域を通過する光の位相を基準(0)にすれば、領域a〜dの位相差が(π/2、0、3π/2、π)となるように、それぞれのサブ波長周期格子のデューティ比、および凸部の深さFが決定される。すなわち、図7に示す4値の周期単位10においては、ブレーズ回折格子でいうところのブレーズド方向が、TM波とTE波に対して逆方向となるようにバイナリ型の格子である各サブ波長周期格子のデューティ比、凸部の深さF、ならびに格子の方向が決定される。以上、本発明の第1の実施形態である4値の周期単位10が、バイナリ型の格子であるサブ波長周期格子の組み合わせによって実現されることを説明してきたが、本発明に対する理解をより一層深めるため、第1の実施形態である4値の周期単位10についてより具体的な例示をもって以下さらに詳細に説明する。
図8は、石英によって形成したサブ波長周期格子において、そのデューティ比と複屈折性の関係を示す図である。なお、図8は、使用波長として0.633−0.635μm近傍を想定し、サブ波長周期格子の周期を0.3μmとした場合を示す。図8は、サブ波長周期格子のデューティ比が実効的な屈折率に置き換えられることができることを示し、サブ波長周期格子が、偏光方向に対して異なる屈折率をもつ一軸性複屈折性を有することを示すものである。なお、図8において、サブ周期格子の溝方向と電場ベクトルの振動方向が平行の時(偏光方向が溝方向に平行)の屈折率をn‖で示し、垂直の時(偏光方向が溝方向と垂直)の屈折率をn⊥で示すものとする。
例えば、図8に示すようにデューティ比を0.3、0.64にすれば、各サブ波長周期格子の実効屈折率の差を同じにすることができる。よって、図7の領域aおよびbのサブ波長周期格子AおよびBのデューティ比をいずれも0.3に、領域cおよびdのサブ波長周期格子CおよびDのデューティ比をいずれも0.64にすれば、TM波の入射光に対する領域a、b、c、dの実効屈折率は、それぞれn1⊥、n1‖、n2⊥、n2‖となる。ここで、サブ波長周期格子の深さをdとし、(n1‖-n1⊥)d=λ/4を満足するようにdを設計すれば、(n2⊥-n1⊥)d=λ、(n2‖-n1⊥)d=3λ/4になるので、TE波に対して図7に示す領域a、b、c、dの位相差が(0、π/2、π、3π/2)のブレーズド位相回折格子が実現できる。このブレーズド位相回折格子は、+1次回折光のみが強く、反対側の−1次回折光は弱くなる。それに対して、これと直交したTE波に相当する偏光を入射すると、領域aとbおよび領域cとdのサブ波長周期格子の実効屈折率が逆転するため、領域a、b、c、dの実効屈折率は、それぞれ、n1‖、n1⊥、n2‖、n2⊥となる。ここで、領域bを基準に位相差を考えると、(n1‖-n1⊥)d=λ/4、(n2‖-n1⊥)d=3λ/4、(n2⊥-n1⊥)d=λであるから、領域a、b、c、dの位相差は(π/2、0、3π/2、π)となり、ブレーズド位相格子のブレーズド方向が、TM波と逆方向になることがわかる。よって、上述した条件で作製されたサブ波長周期格子からなる回折格子は、TE波に対しては、−1次方向にのみに強い回折光強度が得られ、TM波、TE波が+1次、と−1次に分離される偏光ビームスプリッタとして機能することが理解されよう。また、この時、TE波、もしくはTM波のどちらかのみ対して、ブレーズド位相回折格子の条件を満足している場合は、条件を満足している偏光と反対の偏光成分を取り出すための偏光素子としても有効に機能させることができる。
本発明の偏光ビームスプリッタの周期単位においては、1つの周期を3分割、4分割、あるいは6分割することも可能である。すなわち、本発明の偏光ビームスプリッタにおいては、その周期単位を3、4、6、あるいはそれ以上の領域からなるものとして構成することができ、その一例として、1つの周期を4分割した実施形態について図7を参照しながら説明してきたわけである。1つの周期を4分割した実施形態については、図5を参照して説明したようにTE波およびTM波に対して位相差が逆転する領域の選択について2通りの方法があり、特に1つの周期を4分割した実施形態においては、分割した各領域における位相差をいずれもπ/2とすることができる方法(図5(b)に示す方法)があった。しかしながら、このようなバリエーションは4値に限って可能なものであり、一般には下記に述べる普遍的な方法によって本発明の偏光ビームスプリッタの周期単位は設計される。
まず、1つの周期が分割されてなる各領域について基準となる領域、すなわち位相差が0になる領域を決める。基準となる領域は、特に限定されるものではなく適宜選択することができる。つぎに、TE波、TM波に対して位相が逆転する領域を形成する。3値位相型を例にとって説明すると、3つに分割された領域1〜3について、TE波に対する位相が(0、2π/3、4π/3)、TM波に対する位相が(0、4π/3、2π/3)となるように構成する。すなわち、領域1を基準として、領域2と領域3においてはTE波、TM波に対して位相が逆転するように構成する。
次に、4値位相型を例にとって説明すると、4つに分割された領域1〜4について、TE波に対する位相が(0、π/2、π、3π/2)、TM波に対する位相が(0、3π/2、π、π/2)となるように構成する。すなわち、領域1および領域3を、それぞれTE波、TM波によって屈折率が変化しない0、πの領域とし、0、πの領域を中心に領域2および領域4をTE波、TM波に対して位相が逆転する領域とする。さらに、6値を例にとって説明すると、6つに分割された領域1〜6について、TE波に対する位相が(0、π/3、2π/3、π、4π/3、5π/3)、TM波に対する位相が(0、5π/3、4π/3、π、2π/3、π/3)となるように構成する。すなわち、領域1および領域4を、それぞれTE波、TM波によって屈折率が変化しない0、πの領域とし、0、πの領域を中心に領域2および領域6、ならびに、領域3および領域5をTE波、TM波に対して位相が逆転する領域とする。なお、上述した各位相は、2πの整数倍だけずれていても構成上問題のないことは言うまでもない。
上述した構成において、TE波、TM波によって屈折率が変化しない0、πの領域については、サブ波長周期構造のTE波、TM波に依存しない等方的な実効屈折率を用いることにより実現することができる。サブ波長周期構造が複屈折性を有するのは、格子のような異方性を有する構造として形成された場合のみであり、等方的な構造として形成された場合には、TE波、TM波に対して同じ屈折率を有する。この際、等方的なサブ波長周期構造における屈折率は、面積比によって変化し、先述の図8を参照して説明すれば、デューティ比が、面積占有率に相当する。この屈折率は、TE、TM波に対する屈折率のほぼ平均値になる。すなわち、0.3μm周期のサブ波長周期格子の面積占有率(図8のデューティ比に相当)が0.49の時は、一辺の長さが0.3×(0.49)1/2=0.21μmの正方形の凸部を備えるサブ波長周期構造をもって、TE波、TM波によって屈折率が変化しない0、πの領域とすることができる。
次に、上述した構成について、3値位相型を例にとってより具体的に説明する。図9は、本発明の第2の実施形態である3値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位20(以下、3値の複周期単位20として参照する)を示す。3値の複周期単位20は、分割された3つの領域、k、l、およびmからなり、TE波およびTM波によって屈折率が変化しない領域とTE波およびTM波に対して位相が逆転する領域から構成されている。
3値の周期単位20において領域mは、TE波およびTM波によって屈折率が変化しない領域として形成され、等方性をもったサブ波長周期構造Mとして形成されている。なお、本実施形態の3値の周期単位20においては、基準となる位相が0となる場所は、領域mに限定する必要はなく、領域k〜mのどの位置でも良い。
領域k及び領域lは、バイナリ型の格子であるサブ波長周期格子Kおよびサブ波長周期格子Lとして形成される。3値の周期単位20においては、周期構造方向と直交方向に偏光したTE波の入射に対して、領域mを通過する光の位相を基準(0)とするときに、領域k〜mの位相差が、それぞれ(4π/3、2π/3、0)となり、同時に、TM波に対する領域k〜mの位相差が(2π/3、4π/3、0)となるように、それぞれのサブ波長周期格子K、Lおよびサブ波長周期構造Mのデューティ比、および凸部の深さFが決定される。
より具体的な例示をもって3値の周期単位20について以下さらに詳細に説明する。図10は、石英によって形成したサブ波長周期格子において、そのデューティ比と複屈折性の関係を示す図である。なお、図10は、使用波長として0.633−0.635μm近傍を想定し、サブ波長周期格子の周期を0.3μmとした場合を示す。図10に示すように、n2‖⊥、n1⊥、n1‖の屈折率差が等しくなるようなデューティ比を選定する。このとき、等方的な屈折率を有するところは、n2‖とn2⊥の屈折率の平均値であり、デューティ比が1のときの屈折率を示す点とデューティ比が0のときの屈折率を示す点を結んだ直線とほぼ一致している。図10に示す例の場合は、デューティ比が0.6と0.36に対応している。後者は、面積占有率であり、一辺のデューティ比に換算すると0.6に相当する。0.3μmのサブ周期構造の場合には、一辺が0.18μmの正方形の面積に対応している。図9に示す領域k、l、mにおけるTE波に対する屈折率は、図10における、n2‖⊥、n1⊥、n1‖であり、格子の深さdを(n1⊥-n2‖⊥)d=λ/3を満足するようにすれば、(n1‖-n2‖⊥)d=2λ/3となり、3値ブレーズド位相回折格子の位相条件(4π/3、2π/3、0)を満足することなる。
なお、図9に示した実施形態においては、深さFが浅くなるように、領域kおよびlと領域mについてそれぞれ異なるデューティ比としたが、領域k〜mについて全てを同じデューティ比にして、等方的な屈折率をn1⊥、n1‖の中間の値にすることもできる。また、等方的な領域mを、デューティ比が1の石英それ自身にして、領域k〜mについて、TE波に対する位相が(0、2π/3±2πの整数倍、4π/3の±2πの整数倍)、TM波に対する位相が(0、4π/3±2πの整数倍、2π/3±2πの整数倍)の条件を満足するように構成することもできる。
本発明の第3の実施形態として、段差とサブ波長周期格子を組み合わせて、より位相レベル数の多い周期単位を実現することも可能である。図11は、6値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位30(以下、6値の周期単位30として参照する)を示す。図11に示す6値の周期単位30の場合も、n0が等方的な屈折率を有し、n‖とn⊥とを互いに同じデューティ比を有するサブ波長周期格子とする。このとき、3つに分割されたL1〜3の各領域、および同じく3つに分割されたR1〜3の各領域のそれぞれについて、上述した3値ブレーズド位相回折格子と同様に各領域の位相差を等しく構成した場合、L領域とR領域との境界に段差Sを設けることによって、L領域とR領域の位相差をπだけシフトすることができ、その結果、TE波に対して左側から(-π/3、0、π/3、2π/3、π、4π/3)の位相差を持つように作製できる。この構成においては、TM波に対しては、位相差は図11の紙面上左側から(π/3、0、-π/3、4π/3、π、2π/3)となり等方的な0、π領域を中心にして反転するので、ブレーズド方向がTE波とTM波に対して逆方向となり、6値の周期単位30から形成される回折格子は、上述した実施形態1および2と同じように偏光ビームスプリッタとして機能することができる。
以上、本発明の偏光ビームスプリッタについて、サブ周期構造の複屈折性を利用したものを例にとって説明してきたが、本発明の偏光ビームスプリッタは、サブ周期構造の複屈折性を利用したものに限定されるものではなく、所定の複屈折性を示すように設計された高分子液晶などの複屈折性材料や所定の複屈折性を示すように設計された多層膜などの形状からなる構造体を用いることによっても実現することができる。
以下、本発明の偏光ビームスプリッタについて、実施例を用いてより具体的に説明を行なうが、本発明は、後述する実施例に限定されるものではない。
図7に示した4値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の構成を有する偏光ビームスプリッタを実際に作製した。図7に示した領域aおよび領域bをデューティ比0.3、格子周期0.3μmのサブ波長周期格子によって形成し、領域cおよび領域dをデューティ比0.64、格子周期0.3μmのサブ波長周期格子によって形成した。なお、本実施例においては、上記設計に基づき、クロムマスク付きの石英ガラスに対して、電子線描画、ICPエッチングにより偏光ビームスプリッタを作製した。上述した手順で作製した本実施例の偏光ビームスプリッタについてその回折特性を調べた。
図12は、作製した偏光ビームスプリッタに対して、入射偏光角度を変化させた時の+1次回折光と−1次回折光の光強度を測定した結果を示す。図12は、入射偏光角度が90°、270°がTE波に対応し、0°、180°がTM波に対応し、しかも光強度が正弦波状に変化していることを示す。図12から、本実施例の偏光ビームスプリッタの+1次光にはTE波に相当する偏光成分のみが生じ、−1次光には、TM波に相当する成分しか生じていないことが示された。すなわち、本実施例の偏光ビームスプリッタがTE波を+1次の回折光とし、TM波を−1次の回折光として高い効率で回折しうることが実証された。
以上、説明したように、本発明によれば、TE波およびTM波を、それぞれ+1次および−1次の回折光として高い効率で回折しうる偏光ビームスプリッタが提供される。本発明の偏光ビームスプリッタは、光学装置のコンパクト化に資することが期待される。また、レリーフ構造であるため、レプリカによる複製によって安価に提供できる可能性が高い。
10…4値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位、20…3値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位、30…6値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位、100…ブレーズ回折格子の周期単位、102…ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位、104…基板、106…ブレーズド型マルチ位相回折格子、200…ブレーズ回折格子の周期単位、202…ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位、204…基板、206…ブレーズド型マルチ位相回折格子、300…4値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子の周期単位、302…基板、304…4値の複屈折性ブレーズド型マルチ位相回折格子
Claims (3)
- それぞれが固有の屈折率を有する複数の領域が並設されてなる構造を周期単位とするブレーズド型マルチ位相回折格子を備えた偏光ビームスプリッタであって、
前記複数の領域のうち少なくとも一つが複屈折性を有する領域であり、
TE波およびTM波を、それぞれ+1次の回折光および−1次の回折光として分離する、
偏光ビームスプリッタ。 - 前記周期単位は、TE波に対する前記複数の領域の屈折率の大きさの昇順方向が、TM波に対して前記複数の領域の屈折率の大きさの降順方向となるように前記複数の領域が並設されてなる、
請求項1に記載の偏光ビームスプリッタ。 - 前記複屈折性を有する領域が、サブ波長周期構造の格子によって形成される、
請求項1または2のいずれか1項に記載の偏光ビームスプリッタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007079191A JP2008241879A (ja) | 2007-03-26 | 2007-03-26 | 偏光ビームスプリッタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007079191A JP2008241879A (ja) | 2007-03-26 | 2007-03-26 | 偏光ビームスプリッタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008241879A true JP2008241879A (ja) | 2008-10-09 |
Family
ID=39913353
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007079191A Pending JP2008241879A (ja) | 2007-03-26 | 2007-03-26 | 偏光ビームスプリッタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008241879A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010156896A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Photonic Lattice Inc | 多値波長板 |
WO2010082408A1 (en) * | 2009-01-15 | 2010-07-22 | Ricoh Company, Ltd. | Optical element, optical apparatus, optical pickup, optical information processing apparatus, optical attenuator, polarization conversion element, projector optical system, and optical apparatus system |
JP2015510126A (ja) * | 2012-02-21 | 2015-04-02 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 検査装置及び方法 |
JP2015225113A (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-14 | リコー光学株式会社 | 光学素子、成形型、製造方法及び光学装置 |
US9927720B2 (en) | 2014-07-29 | 2018-03-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate target for in-situ lithography metrology, metrology method for in-situ lithography, and method of manufacturing integrated circuit device by using in-situ metrology |
CN109001858A (zh) * | 2018-08-31 | 2018-12-14 | 中国地质大学(武汉) | 一种基于表面等离子体亚波长光栅的偏振分束器 |
CN109085668A (zh) * | 2018-08-01 | 2018-12-25 | 中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所 | 局域表面等离子体谐振器 |
JP2019125522A (ja) * | 2018-01-18 | 2019-07-25 | スタンレー電気株式会社 | 光走査装置 |
-
2007
- 2007-03-26 JP JP2007079191A patent/JP2008241879A/ja active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010156896A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Photonic Lattice Inc | 多値波長板 |
CN102272641B (zh) * | 2009-01-15 | 2013-05-29 | 株式会社理光 | 光学元件、光学设备、光学检波器、光学信息处理设备、光学衰减器、偏振转换元件、投影仪光学系统和光学设备系统 |
CN102272641A (zh) * | 2009-01-15 | 2011-12-07 | 株式会社理光 | 光学元件、光学设备、光学检波器、光学信息处理设备、光学衰减器、偏振转换元件、投影仪光学系统和光学设备系统 |
US8320226B2 (en) | 2009-01-15 | 2012-11-27 | Ricoh Company, Ltd. | Optical element having three or more sub-wavelength convexo-concave structures |
KR101226346B1 (ko) * | 2009-01-15 | 2013-01-24 | 가부시키가이샤 리코 | 광학 소자, 광학 장치, 광 픽업, 광 정보 처리 장치, 광 감쇠기, 편광 변환 소자, 프로젝터 광학 시스템 및 광학 장치 시스템 |
WO2010082408A1 (en) * | 2009-01-15 | 2010-07-22 | Ricoh Company, Ltd. | Optical element, optical apparatus, optical pickup, optical information processing apparatus, optical attenuator, polarization conversion element, projector optical system, and optical apparatus system |
JP2010164749A (ja) * | 2009-01-15 | 2010-07-29 | Ricoh Co Ltd | 光学素子、光ピックアップ、光情報処理装置、光減衰器、偏光変換素子、プロジェクタ光学系、光学機器 |
US10274370B2 (en) | 2012-02-21 | 2019-04-30 | Asml Netherlands B.V. | Inspection apparatus and method |
JP2015510126A (ja) * | 2012-02-21 | 2015-04-02 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 検査装置及び方法 |
JP2015225113A (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-14 | リコー光学株式会社 | 光学素子、成形型、製造方法及び光学装置 |
US9927720B2 (en) | 2014-07-29 | 2018-03-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate target for in-situ lithography metrology, metrology method for in-situ lithography, and method of manufacturing integrated circuit device by using in-situ metrology |
JP2019125522A (ja) * | 2018-01-18 | 2019-07-25 | スタンレー電気株式会社 | 光走査装置 |
CN109085668A (zh) * | 2018-08-01 | 2018-12-25 | 中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所 | 局域表面等离子体谐振器 |
CN109001858A (zh) * | 2018-08-31 | 2018-12-14 | 中国地质大学(武汉) | 一种基于表面等离子体亚波长光栅的偏振分束器 |
CN109001858B (zh) * | 2018-08-31 | 2023-02-24 | 中国地质大学(武汉) | 一种基于表面等离子体亚波长光栅的偏振分束器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008241879A (ja) | 偏光ビームスプリッタ | |
JP4310080B2 (ja) | 回折光学素子およびこれを備えた光学系、光学装置 | |
Deng et al. | Diatomic metasurface for vectorial holography | |
Baldry et al. | Volume phase holographic gratings: polarization properties and diffraction efficiency | |
Nersisyan et al. | The principles of laser beam control with polarization gratings introduced as diffractive waveplates | |
JP2005172844A (ja) | ワイヤグリッド偏光子 | |
Lin et al. | Polarization-independent metasurface lens employing the Pancharatnam-Berry phase | |
US7068903B2 (en) | Optical element using one-dimensional photonic crystal and spectroscopic device using the same | |
JP2003255113A (ja) | 光分離素子およびそれを用いた光学機器 | |
Ruane et al. | Scalar vortex coronagraph mask design and predicted performance | |
KR20070064592A (ko) | 광학 소자 | |
JP2009085974A (ja) | 偏光素子およびその製造方法 | |
JP4491555B1 (ja) | 光学素子及びその製造方法 | |
JP2001242314A (ja) | 光学反射格子、その反射格子を用いた分光計、及び高い回折効率を有する光学反射格子を見出す方法 | |
JP2019158921A (ja) | 光学素子 | |
JP2003255116A (ja) | 光学素子 | |
JPWO2005036218A1 (ja) | 偏光素子および偏光素子を含む光学系 | |
JP4238573B2 (ja) | ラメラー型回折格子及びその設計方法 | |
JP6644357B2 (ja) | 偏光回折要素及びその設計方法 | |
Zhou | Simplified modal method for subwavelength gratings | |
Wang et al. | Spectral correlation between 2D and 1D guided mode resonant filters | |
JP7303619B2 (ja) | 光ビーム分岐光回路及びレーザ加工機 | |
Ono | Transmittance analysis of three-dimensional photonic crystals by the effective medium theory | |
Chen et al. | Short period resonant dual-grating structures for applications to anisotropic color change securities | |
Walsh et al. | Geometric phase diffractive waveplate singularity arrays |