JP5855404B2 - 荷電粒子ビーム装置および荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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荷電粒子ビームを放出する放出部と、
コイルと、コイルを内側に配置するヨークと、発生させる磁力線がヨーク自体を通過することによって、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向に閉ループを構成するように配置された永久磁石とを有し、前記荷電粒子ビームを屈折させる電磁レンズと、
を備え、
前記コイルは、前記永久磁石が配置されていない場合における前記ヨーク自体の特性に起因する飽和状態になる磁場の大きさよりも大きい磁場を前記荷電粒子ビームの軸上に発生させることを特徴とする。
永久磁石は、コイルを取り囲むヨークの内壁のうち、一端がヨークの荷電粒子ビームの光軸側の内壁部分と接続し、他端がヨークの荷電粒子ビームの光軸側とは反対側の内壁部分と接続するように配置されるように構成すると好適である。
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
コイルと、コイルを内側に配置し、荷電粒子ビームの光軸側にレンズ磁場を発生させる1つのギャップが形成されたヨークと、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向になるようにギャップに配置された永久磁石とを有し、荷電粒子ビームを屈折させる電磁レンズと、
を備え、
前記永久磁石の磁力線は、前記ヨーク自体を通って閉ループを構成し、
前記コイルは、前記永久磁石が配置されていない場合における前記ヨーク自体の特性に起因する飽和状態になる磁場の大きさよりも大きい磁場を前記荷電粒子ビームの軸上に発生させることを特徴とする。
試料を載置するステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
コイルと、コイルを内側に配置し、荷電粒子ビームの光軸側にレンズ磁場を発生させる1つのギャップが形成されたヨークと、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向になるようにギャップに配置された永久磁石とを有し、荷電粒子ビームを屈折させる電磁レンズと、
電磁レンズによって屈折させられた荷電粒子ビームを試料上に偏向する偏向器と、
を備え、
前記永久磁石の磁力線は、前記ヨーク自体を通って閉ループを構成し、
前記コイルは、前記永久磁石が配置されていない場合における前記ヨーク自体の特性に起因する飽和状態になる磁場の大きさよりも大きい磁場を前記荷電粒子ビームの軸上に発生させることを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。図1において、描画装置100は、描画部150と制御部160とを備えている。描画装置100は、荷電粒子ビーム描画装置の一例となる。そして、描画装置100は、基板101に所望するパターンを描画する。
物面位置を固定して、像面位置を変えることを考える。像面を物面に近づけると、球面収差係数Csが小さくなり、また倍率Mも小さくなる。これは微細なビームを得る上で好都合である。しかしながら、必要な励磁は増加する。
電磁レンズの構成例は、実施の形態1で説明した構成に限るものではない。実施の形態2では、他の構成例について説明する。描画装置の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明しない点は実施の形態1と同様である。
電磁レンズの構成例は、実施の形態1,2で説明した構成に限るものではない。実施の形態3では、他の構成例について説明する。描画装置の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明しない点は実施の形態1と同様である。
実施の形態4では、実施の形態3の変形例について説明する。描画装置の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明しない点は実施の形態3と同様である。
実施の形態5では、他の電磁レンズの構成例について説明する。描画装置の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明しない点は実施の形態1と同様である。
実施の形態6では、他の電磁レンズの構成例について説明する。描画装置の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明しない点は実施の形態1と同様である。
実施の形態7では、他の電磁レンズの構成例について説明する。描画装置の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明しない点は実施の形態1と同様である。
実施の形態8では、他の電磁レンズの構成例について説明する。描画装置の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明しない点は実施の形態1と同様である。
上述した各実施の形態では、電子ビーム描画装置に電磁レンズを適用した場合について説明したが、電磁レンズが適用される装置は、電子ビーム描画装置に限るものではない。実施の形態9では、走査型電子顕微鏡(SEM)に適用した場合について説明する。
実施の形態10では、走査型透過電子顕微鏡(TEM)に適用した場合について説明する。
12,13,112,113,122 永久磁石
14,15,114,115,116,124,125 コイル
16,18 非磁性体
20 光軸
30,32 矢印
100 描画装置
101 基板
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
150 描画部
160 制御回路
200,320,420 電子ビーム
201,301,401 電子銃
202,302,402 照明レンズ
203 第1の成形アパーチャ
204,406 投影レンズ
205 成形偏向器
206 第2の成形アパーチャ
207,305,405 対物レンズ
208 第2の対物偏向器
209 第1の対物偏向器
210 第3の対物偏向器
212 縮小レンズ
214 コントラストアパーチャ
300 走査型電子顕微鏡
303,403 制限アパーチャ
304 検出器
306,404 電磁偏向器
310,410 被検査対象
400 走査型透過電子顕微鏡
407 暗視野像検出器
408 明視野像検出器
Claims (5)
- 荷電粒子ビームを放出する放出部と、
コイルと、前記コイルを内側に配置するヨークと、発生させる磁力線が前記ヨーク自体を通過することによって、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向に閉ループを構成するように配置された永久磁石とを有し、前記荷電粒子ビームを屈折させる電磁レンズと、
を備え、
前記コイルは、前記永久磁石が配置されていない場合における前記ヨーク自体の特性に起因する飽和状態になる磁場の大きさよりも大きい磁場を前記荷電粒子ビームの軸上に発生させることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 前記ヨークは、前記コイルを取り囲み、
前記永久磁石は、前記コイルを取り囲む前記ヨークの内壁のうち、一端が前記ヨークの前記荷電粒子ビームの光軸側の内壁部分と接続し、他端が前記ヨークの前記荷電粒子ビームの光軸側とは反対側の内壁部分と接続するように配置されることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム装置。 - 荷電粒子ビームを放出する放出部と、
コイルと、前記コイルを内側に配置し、前記荷電粒子ビームの光軸側にレンズ磁場を発生させる1つのギャップが形成されたヨークと、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向になるように前記ギャップに配置された永久磁石とを有し、前記荷電粒子ビームを屈折させる電磁レンズと、
を備え、
前記永久磁石の磁力線は、前記ヨーク自体を通って閉ループを構成し、
前記コイルは、前記永久磁石が配置されていない場合における前記ヨーク自体の特性に起因する飽和状態になる磁場の大きさよりも大きい磁場を前記荷電粒子ビームの軸上に発生させることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 前記永久磁石と前記ヨークの内壁との間に双方と接触して配置され、前記永久磁石と前記ヨークの内壁とを接続する非磁性体をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の荷電粒子ビーム装置。
- 試料を載置するステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
コイルと、前記コイルを内側に配置し、前記荷電粒子ビームの光軸側にレンズ磁場を発生させる1つのギャップが形成されたヨークと、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向になるように前記ギャップに配置された永久磁石とを有し、前記荷電粒子ビームを屈折させる電磁レンズと、
前記電磁レンズによって屈折させられた荷電粒子ビームを前記試料上に偏向する偏向器と、
を備え、
前記永久磁石の磁力線は、前記ヨーク自体を通って閉ループを構成し、
前記コイルは、前記永久磁石が配置されていない場合における前記ヨーク自体の特性に起因する飽和状態になる磁場の大きさよりも大きい磁場を前記荷電粒子ビームの軸上に発生させることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011207094A JP5855404B2 (ja) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | 荷電粒子ビーム装置および荷電粒子ビーム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011207094A JP5855404B2 (ja) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | 荷電粒子ビーム装置および荷電粒子ビーム描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013069847A JP2013069847A (ja) | 2013-04-18 |
JP5855404B2 true JP5855404B2 (ja) | 2016-02-09 |
Family
ID=48475194
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5855404B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117580238A (zh) * | 2024-01-16 | 2024-02-20 | 合肥国家实验室 | 磁透镜 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5914242A (ja) * | 1982-07-15 | 1984-01-25 | Hitachi Ltd | 電磁レンズ |
JPS6258621A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | Toshiba Corp | 微細パタ−ン形成方法 |
GB2192092A (en) * | 1986-06-25 | 1987-12-31 | Philips Electronic Associated | Magnetic lens system |
JP2732961B2 (ja) * | 1991-07-18 | 1998-03-30 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置 |
JP2004022205A (ja) * | 2002-06-12 | 2004-01-22 | Ulvac Japan Ltd | 超小型スパッタイオンポンプ |
JP2005294712A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子ビーム描画装置 |
JP4795847B2 (ja) * | 2006-05-17 | 2011-10-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
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- 2011-09-22 JP JP2011207094A patent/JP5855404B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013069847A (ja) | 2013-04-18 |
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