JPS5914242A - 電磁レンズ - Google Patents
電磁レンズInfo
- Publication number
- JPS5914242A JPS5914242A JP12204882A JP12204882A JPS5914242A JP S5914242 A JPS5914242 A JP S5914242A JP 12204882 A JP12204882 A JP 12204882A JP 12204882 A JP12204882 A JP 12204882A JP S5914242 A JPS5914242 A JP S5914242A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- permanent magnet
- current
- magnetic pole
- electromagnetic lens
- exciting coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は走査形電子顕微鏡等に用いられる電磁レンズに
係り、特に小形で励磁強度の大きい電磁レンズに関する
。
係り、特に小形で励磁強度の大きい電磁レンズに関する
。
従来の電磁レンズは、励磁コイルを上磁極と下磁極の間
に設けて該励磁コイルに電流を流して励磁し電磁レンズ
とする方法が一般的である。
に設けて該励磁コイルに電流を流して励磁し電磁レンズ
とする方法が一般的である。
一方、永久磁石を励磁源とする方法がある。
前者は、励磁範囲を励磁電流を可変することによって任
意に選択できるが、励磁強度を大きくする場合にはコイ
ルの捲数を多くすると共に流す電流も大きくしなければ
ならず、励磁コイルの発熱を防止する゛ためにも励磁コ
イルが大きくなり電磁レンズ全体が大形になってしまう
ため、レンズ電源も大容量となり不経済である。
意に選択できるが、励磁強度を大きくする場合にはコイ
ルの捲数を多くすると共に流す電流も大きくしなければ
ならず、励磁コイルの発熱を防止する゛ためにも励磁コ
イルが大きくなり電磁レンズ全体が大形になってしまう
ため、レンズ電源も大容量となり不経済である。
一方後者は極めて小形の電磁レンズを提供することがで
きるが、励磁強度が一定であり、焦点合せをするなどの
励磁の可変ができず走査形電子顕微鏡等の電磁レンズと
しては使用することができなかった。
きるが、励磁強度が一定であり、焦点合せをするなどの
励磁の可変ができず走査形電子顕微鏡等の電磁レンズと
しては使用することができなかった。
本発明の目的は上記した従来の欠点をなく°シ、小形で
励磁強度の大きい電磁レンズを提供することである。他
のもう一つの目的は、安価な電磁レンズを得ることであ
る。
励磁強度の大きい電磁レンズを提供することである。他
のもう一つの目的は、安価な電磁レンズを得ることであ
る。
本発明は、ｔｆｆルンズの励磁源として永久磁石と励磁
コイルを併用することにより、小形で励磁強度が大きく
、かつ励磁強度が可変できる電磁レンズとしたものであ
る。
コイルを併用することにより、小形で励磁強度が大きく
、かつ励磁強度が可変できる電磁レンズとしたものであ
る。
第１図に本発明の一実施例を示す。
上磁極１と下磁極６で形成する磁気ヨークとの間に円筒
状の永久磁石２が設置され、その内側に励磁コイル３が
設置される。
状の永久磁石２が設置され、その内側に励磁コイル３が
設置される。
磁極間隙部には非磁極材料、例えばリン育銅などの材料
のスペーサ４が組み込まれている。励磁コイル３に電流
を流すだめのレンズ電源５は正。
のスペーサ４が組み込まれている。励磁コイル３に電流
を流すだめのレンズ電源５は正。
負の両極性で電流が流せるようにしている。これは電源
自体を両極性で流せるようにしても良いし、励磁コイル
３のリード線を例えばスイッチを介して電流を正、負に
入れ替えられるようにしても良い。
自体を両極性で流せるようにしても良いし、励磁コイル
３のリード線を例えばスイッチを介して電流を正、負に
入れ替えられるようにしても良い。
このような構成で永久磁石２による極性と同一極性にな
るように励磁コイル６に電流を流したり逆に永久磁石２
による極性と逆極性になるように励磁コイル６に電流を
通じることにより第２図に示す（ｂ） ｔたは（Ｃ）の
如く磁極間隙に生じる磁場を変化させることができる。
るように励磁コイル６に電流を流したり逆に永久磁石２
による極性と逆極性になるように励磁コイル６に電流を
通じることにより第２図に示す（ｂ） ｔたは（Ｃ）の
如く磁極間隙に生じる磁場を変化させることができる。
第２図で、点線で示した（ａ）Ｉｄ ｒｊｉｈ磁コイル
３への電流をＯとした時の永久磁石２による磁場の強度
を示す。
３への電流をＯとした時の永久磁石２による磁場の強度
を示す。
電子線の加速電圧が一定あるいは、その変化中が小さい
場合や、例えば対物レンズとして用いる場合であって試
料に対する焦点距離を大巾に変化させないような簡易形
の走査形電子顕微鏡等ではレンズの焦点距離をわずか変
化させれば良く、この場合には第３図（Ｃ）のように磁
極間隙に生ずる磁場強度をわずか可変すれば良いわけで
励磁コイル３を小形に出来るため、非常に小形の電（１
ヘレンズとすることができる。
場合や、例えば対物レンズとして用いる場合であって試
料に対する焦点距離を大巾に変化させないような簡易形
の走査形電子顕微鏡等ではレンズの焦点距離をわずか変
化させれば良く、この場合には第３図（Ｃ）のように磁
極間隙に生ずる磁場強度をわずか可変すれば良いわけで
励磁コイル３を小形に出来るため、非常に小形の電（１
ヘレンズとすることができる。
大巾に電磁レンズの焦点距離を変化埒せる第３図の（ｔ
ｌ）のような場合には、従来の励もＲコイルのみの場合
に比べて同一励磁に対してＶ２の電流あるいは１／２の
コイル捲数で良いため励磁コイル３の小形化が可能とな
り、また、Ｆ１ＪＪ磁コイル３で消費する電力は１／４
と小さくすることができるためレンズ電源の容量も小さ
くなり経済的である。
ｌ）のような場合には、従来の励もＲコイルのみの場合
に比べて同一励磁に対してＶ２の電流あるいは１／２の
コイル捲数で良いため励磁コイル３の小形化が可能とな
り、また、Ｆ１ＪＪ磁コイル３で消費する電力は１／４
と小さくすることができるためレンズ電源の容量も小さ
くなり経済的である。
第３図は他の一実施例である。この場付には、上磁極１
と下磁極６とで構成する磁極間隙部に、永久磁石２を配
置したものであり、第１図に示した電磁レンズと同様に
働かせることができる。この場合永久磁石２は、整磁磁
極片７および８をそれぞれ上下に配置する。
と下磁極６とで構成する磁極間隙部に、永久磁石２を配
置したものであり、第１図に示した電磁レンズと同様に
働かせることができる。この場合永久磁石２は、整磁磁
極片７および８をそれぞれ上下に配置する。
一般に永久磁石は磁場の対称性の異なるいわゆる偏磁が
生じやすいが、第１図に示したような構造では偏磁がた
とえあったとしても、磁気ヨークを介して磁極間隙部に
磁場を発生させるので全く問題にならないが、第３図の
ような構成の場合には永久磁石２の偏磁の影響が生じや
すいため整磁磁極片７および８を設ける必要がある。
生じやすいが、第１図に示したような構造では偏磁がた
とえあったとしても、磁気ヨークを介して磁極間隙部に
磁場を発生させるので全く問題にならないが、第３図の
ような構成の場合には永久磁石２の偏磁の影響が生じや
すいため整磁磁極片７および８を設ける必要がある。
以−Ｆ詳述したように本発明によれば、電子線を収東す
る電磁レンズを小形で、かつ励磁強度を大きくすること
ができるので、安価になるばかりでなく、励磁電流が従
来の１７２で同様の励磁強度を得ることが出来、工業的
価値は極めて大きい。
る電磁レンズを小形で、かつ励磁強度を大きくすること
ができるので、安価になるばかりでなく、励磁電流が従
来の１７２で同様の励磁強度を得ることが出来、工業的
価値は極めて大きい。
第１図は本発明の一実施例の断面図を示す。第２図はコ
イル励磁電流に対する磁極間隙部に生ずる磁束密度との
関係を示すグラフである。第３図は他の変形例を示す断
面図である。 １・・・上磁極、２・・・永久磁石、３・・・励磁コイ
ル、４第 １図 ４：５
イル励磁電流に対する磁極間隙部に生ずる磁束密度との
関係を示すグラフである。第３図は他の変形例を示す断
面図である。 １・・・上磁極、２・・・永久磁石、３・・・励磁コイ
ル、４第 １図 ４：５
Claims (1)
- １、’１子線を収束するための磁界形電極レンズにおい
て励磁を与える手段として円筒状永久出方と励磁コイル
より成り、該励磁コイルに該永久磁石で作られる磁場の
極性に対して同一極性または逆極性に該励磁コイルによ
り磁場を形成させる手段を有することを特徴とする電磁
レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12204882A JPS5914242A (ja) | 1982-07-15 | 1982-07-15 | 電磁レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12204882A JPS5914242A (ja) | 1982-07-15 | 1982-07-15 | 電磁レンズ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5914242A true JPS5914242A (ja) | 1984-01-25 |
Family
ID=14826312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12204882A Pending JPS5914242A (ja) | 1982-07-15 | 1982-07-15 | 電磁レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5914242A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1018757A1 (en) * | 1996-09-24 | 2000-07-12 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam emitting device |
| US8390201B2 (en) | 2008-06-24 | 2013-03-05 | Advantest Corp. | Multi-column electron beam exposure apparatus and magnetic field generation device |
| JP2013069847A (ja) * | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム装置および荷電粒子ビーム描画装置 |
| WO2022230717A1 (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-03 | 株式会社ニコン | 荷電粒子光学系および荷電粒子装置 |
| CN117580238A (zh) * | 2024-01-16 | 2024-02-20 | 合肥国家实验室 | 磁透镜 |
-
1982
- 1982-07-15 JP JP12204882A patent/JPS5914242A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1018757A1 (en) * | 1996-09-24 | 2000-07-12 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam emitting device |
| EP1018757B1 (en) * | 1996-09-24 | 2007-11-28 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam emitting device |
| US8390201B2 (en) | 2008-06-24 | 2013-03-05 | Advantest Corp. | Multi-column electron beam exposure apparatus and magnetic field generation device |
| JP5363480B2 (ja) * | 2008-06-24 | 2013-12-11 | 株式会社アドバンテスト | マルチコラム電子ビーム露光装置及び磁場発生装置 |
| JP2013069847A (ja) * | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム装置および荷電粒子ビーム描画装置 |
| WO2022230717A1 (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-03 | 株式会社ニコン | 荷電粒子光学系および荷電粒子装置 |
| CN117580238A (zh) * | 2024-01-16 | 2024-02-20 | 合肥国家实验室 | 磁透镜 |
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