JP5363480B2 - マルチコラム電子ビーム露光装置及び磁場発生装置 - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係るマルチコラム電子ビーム露光装置の概略構成図である。
マルチコラム電子ビーム露光装置は、電子ビームコラム10と電子ビームコラム10を制御する制御部20に大別される。このうち、電子ビームコラム10は、同等なコラムセル11が複数、例えば16集まって、全体のコラムが構成されている。すべてのコラムセル11は後述する同じユニットで構成される。コラムセル11の下には、例えば300mmウエハ12を搭載したウエハステージ13が配置されている。
次に、マルチコラム電子ビーム露光装置のレンズ(電子ビーム収束部)について説明する。
図7(a)及び(b)は、電子ビーム収束部70の光軸Cを通り光軸Cに平行な断面図を示しており、図7(a)には磁力線によって磁場が示され、図7(b)には磁場の強さが示されている。
図8は、電子ビーム収束部の他の構成例を示している。図8(a)及び(b)は、電子ビーム収束部80の光軸Cを通り光軸Cに平行な断面図を示しており、図8(a)には磁力線によって磁場が示され、図8(b)には磁場の強さが示されている。
図9は、電子ビーム収束部のさらに他の構成例を示している。図9(a)及び(b)は、電子ビーム収束部90の光軸Cを通り光軸Cに平行な断面図を示しており、図9(a)には磁力線によって磁場が示され、図9(b)には磁場の強さが示されている。
また、永久磁石の磁場強度は一定であるため焦点調整のために磁場強度の微調整をすることはできない。そのため、永久磁石の近傍に電磁コイルが設けられ、電磁コイルによる磁場を干渉させることによって永久磁石による磁場強度を調整するようにしている。
Claims (6)
- 複数のコラムセルを備えるマルチコラム電子ビーム露光装置であって、
光軸方向に着磁された光軸対称な2個の環状永久磁石と前記永久磁石の近傍に配置されて前記永久磁石による磁場を調整する電磁コイルとが強磁性体枠によって取り囲まれた電子ビーム収束部と、
前記各コラムセルで使用される電子ビームが通過する円型開口部が設けられ、当該各円型開口部の側部に前記電子ビーム収束部が配置された基板と、
を備え、
前記環状永久磁石は前記電磁コイルを挟んで光軸方向に上下2個配置され、極性の方向が同一であることを特徴とするマルチコラム電子ビーム露光装置。 - 前記環状永久磁石はネオジウム磁石又はサマリウムコバルト磁石であり、前記強磁性体枠は純鉄で形成されていることを特徴とする請求項1に記載のマルチコラム電子ビーム露光装置。
- 前記永久磁石の磁場強度は所要の磁場強度よりも5%低い強度から5%高い強度の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のマルチコラム電子ビーム露光装置。
- 半径方向に直角な方向に着磁され、上下に配置された2個の環状永久磁石と、
前記永久磁石の近傍に配置されて前記環状永久磁石による磁場を調整する電磁コイルと、
前記環状永久磁石及び前記電磁コイルを取り囲む強磁性体枠と、
を備え、
前記環状永久磁石の間に前記電磁コイルが配置され、前記環状永久磁石の極性の方向は同一であることを特徴とする磁場発生装置。 - 前記環状永久磁石はネオジウム磁石又はサマリウムコバルト磁石であり、前記強磁性体枠は純鉄で形成されていることを特徴とする請求項4に記載の磁場発生装置。
- 前記永久磁石の磁場強度は所要の磁場強度よりも5%低い強度から5%高い強度の範囲であることを特徴とする請求項4に記載の磁場発生装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2008/061431 WO2009157054A1 (ja) | 2008-06-24 | 2008-06-24 | マルチコラム電子ビーム露光装置及び磁場発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009157054A1 JPWO2009157054A1 (ja) | 2011-12-01 |
JP5363480B2 true JP5363480B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=41444132
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010517612A Active JP5363480B2 (ja) | 2008-06-24 | 2008-06-24 | マルチコラム電子ビーム露光装置及び磁場発生装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8390201B2 (ja) |
EP (1) | EP2302664B1 (ja) |
JP (1) | JP5363480B2 (ja) |
WO (1) | WO2009157054A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB201005412D0 (en) * | 2010-03-31 | 2010-05-19 | E2V Tech Uk Ltd | Magnetron |
KR101861210B1 (ko) | 2010-10-27 | 2018-05-25 | 가부시키가이샤 파람 | 전자 렌즈 및 전자빔 장치 |
US8445862B2 (en) * | 2010-12-14 | 2013-05-21 | Hermes Microvision, Inc. | Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lens |
US8455838B2 (en) | 2011-06-29 | 2013-06-04 | Kla-Tencor Corporation | Multiple-column electron beam apparatus and methods |
US9000394B2 (en) * | 2011-12-20 | 2015-04-07 | Hermes Microvision, Inc. | Multi-axis magnetic lens for focusing a plurality of charged particle beams |
US8835867B2 (en) * | 2012-01-17 | 2014-09-16 | Hermes-Microvision, Inc. | Multi-axis magnetic lens for focusing a plurality of charged particle beams |
US8710428B1 (en) * | 2012-02-22 | 2014-04-29 | AOSense, Inc. | Permanent magnet axial field zeeman slower |
US10047912B2 (en) | 2013-10-15 | 2018-08-14 | LIFI Labs, Inc. | Lighting assembly |
US9210779B2 (en) | 2013-11-14 | 2015-12-08 | LIFI Labs, Inc. | Resettable lighting system and method |
US11455884B2 (en) | 2014-09-02 | 2022-09-27 | LIFI Labs, Inc. | Lighting system |
WO2015179786A1 (en) | 2014-05-22 | 2015-11-26 | LIFI Labs, Inc. | Directional lighting system and method |
US9711314B2 (en) * | 2014-09-11 | 2017-07-18 | Larry R. Barnett | Compact magnet system for a high-power millimeter-wave gyrotron |
GB2534404A (en) * | 2015-01-23 | 2016-07-27 | Cnm Tech Gmbh | Pellicle |
JP6470124B2 (ja) * | 2015-06-19 | 2019-02-13 | 株式会社東芝 | 粒子線ビームの制御電磁石及びこれを備えた照射治療装置 |
JP2017204499A (ja) * | 2016-05-09 | 2017-11-16 | 株式会社アドバンテスト | マルチカラム荷電粒子ビーム露光装置 |
US10440794B2 (en) | 2016-11-02 | 2019-10-08 | LIFI Labs, Inc. | Lighting system and method |
KR102271660B1 (ko) * | 2017-04-11 | 2021-07-01 | 주식회사 아도반테스토 | 노광 장치 |
WO2018198222A1 (ja) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及び、デバイス製造方法 |
KR20210075184A (ko) * | 2018-11-16 | 2021-06-22 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 전자기 복합 렌즈 및 이러한 렌즈를 갖는 하전 입자 광학 시스템 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51122373A (en) * | 1975-04-18 | 1976-10-26 | Hitachi Ltd | Electric microscope |
JPS52100195A (en) * | 1976-02-18 | 1977-08-22 | Hitachi Ltd | Permanent magnet for electronic lens |
JPS5914242A (ja) * | 1982-07-15 | 1984-01-25 | Hitachi Ltd | 電磁レンズ |
JPS62118526A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-05-29 | エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション | 荷電粒子ビ−ム リソグラフイ−方法および装置 |
JPS636736A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-12 | エヌ・ベ−・フィリップス・フル−イランペンファブリケン | 磁気レンズシステム |
JPS6476654A (en) * | 1987-09-14 | 1989-03-22 | Jeol Ltd | Lens for field emission type electron gun |
JPH01166450A (ja) * | 1987-12-23 | 1989-06-30 | Hitachi Ltd | 荷電粒子光学系 |
JPH05128986A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Jeol Ltd | 磁場型レンズ |
JP2002175968A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-21 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子レンズ |
JP2003332207A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-21 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム処理装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2503173A (en) * | 1946-10-18 | 1950-04-04 | Rca Corp | Permanent magnetic electron lens system |
JPS55143761A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-10 | Hitachi Metals Ltd | Focus magnet |
AU3168499A (en) * | 1998-04-10 | 1999-11-01 | Nikon Corporation | Linear motor having polygonal coil unit |
JP3799874B2 (ja) * | 1999-06-15 | 2006-07-19 | Kddi株式会社 | 偏波モード分散補償装置 |
US20020036367A1 (en) * | 2000-02-22 | 2002-03-28 | Marlin Walmer | Method for producing & manufacturing density enhanced, DMC, bonded permanent magnets |
JP4327497B2 (ja) | 2002-06-26 | 2009-09-09 | 株式会社アドバンテスト | 電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法、半導体素子製造方法、マスク、及びマスク製造方法 |
NL1023260C1 (nl) * | 2003-04-24 | 2004-10-27 | Fei Co | Deeltjes-optisch apparaat met een permanent magnetische lens en een elektrostatische lens. |
GB2408143B (en) * | 2003-10-20 | 2006-11-15 | Ims Nanofabrication Gmbh | Charged-particle multi-beam exposure apparatus |
WO2006018840A2 (en) * | 2004-08-16 | 2006-02-23 | Ellumina Vision Ltd. | Electron microscope array for inspection and lithography |
-
2008
- 2008-06-24 JP JP2010517612A patent/JP5363480B2/ja active Active
- 2008-06-24 EP EP08790570.9A patent/EP2302664B1/en active Active
- 2008-06-24 WO PCT/JP2008/061431 patent/WO2009157054A1/ja active Application Filing
-
2010
- 2010-12-22 US US12/928,899 patent/US8390201B2/en active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51122373A (en) * | 1975-04-18 | 1976-10-26 | Hitachi Ltd | Electric microscope |
JPS52100195A (en) * | 1976-02-18 | 1977-08-22 | Hitachi Ltd | Permanent magnet for electronic lens |
JPS5914242A (ja) * | 1982-07-15 | 1984-01-25 | Hitachi Ltd | 電磁レンズ |
JPS62118526A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-05-29 | エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション | 荷電粒子ビ−ム リソグラフイ−方法および装置 |
JPS636736A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-12 | エヌ・ベ−・フィリップス・フル−イランペンファブリケン | 磁気レンズシステム |
JPS6476654A (en) * | 1987-09-14 | 1989-03-22 | Jeol Ltd | Lens for field emission type electron gun |
JPH01166450A (ja) * | 1987-12-23 | 1989-06-30 | Hitachi Ltd | 荷電粒子光学系 |
JPH05128986A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Jeol Ltd | 磁場型レンズ |
JP2002175968A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-21 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子レンズ |
JP2003332207A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-21 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2302664A1 (en) | 2011-03-30 |
US8390201B2 (en) | 2013-03-05 |
JPWO2009157054A1 (ja) | 2011-12-01 |
US20110148297A1 (en) | 2011-06-23 |
WO2009157054A1 (ja) | 2009-12-30 |
EP2302664B1 (en) | 2013-11-06 |
EP2302664A4 (en) | 2011-09-28 |
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Date | Code | Title | Description |
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