JP5837008B2 - 基板処理方法 - Google Patents
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Description
この基板処理方法では、薬液が基板の外周部に到達する前に、基板の外周部が冷却される。即ち、拡散させられる薬液は、冷却された基板の外周部の表面上を流れ、粘性の上昇が抑制される。このように、薬液が冷却されながら広がることにより、広げられた後の薬液の一部分が局所的に冷却されて粘性が局所的に変化してしまうことがない。これにより、基板の大小に関わらず基板の外周部において薬液を適切に拡散させることができ、適切な厚さの膜を形成することができる。
冷却剤として液体を用いて、基板の外周部を容易に冷却することができる。
液体の蒸発を促進させるガスを基板の外周部に供給する工程を有しているので、液体の蒸発をより一層促進させて、基板の外周部をより一層冷却することができる。
この基板処理方法では、薬液が基板の外周部に到達する前に、基板の外周部が冷却される。即ち、拡散させられる薬液は、冷却された基板の外周部の表面上を流れ、粘性の上昇が抑制される。このように、薬液が冷却されながら広がることにより、広げられた後の薬液の一部分が局所的に冷却されて粘性が局所的に変化してしまうことがない。これにより、基板の大小に関わらず基板の外周部において薬液を適切に拡散させることができ、適切な厚さの膜を形成することができる。
冷却剤として液体を用いて、基板の外周部を容易に冷却することができる。
冷却剤として互いに蒸気圧の異なる複数の液体を用いる。この場合には、蒸気圧が異なることにより、液体ごとに、基板を冷却する際の性能が異なる。従って、冷却剤を互いに蒸気圧の異なる複数の液体によって構成することで、例えば、冷却の持続時間或は冷却温度等、基板の外周部の温度状態を所望の状態にすることができる。
Claims (5)
- 基板の表面に薬液を供給して前記薬液の膜を形成する基板処理方法であって、
前記基板を回転させながら前記基板の外周部の下面又は/及び上面から冷却剤を供給して前記外周部の温度を下げる冷却剤供給工程と、
前記基板の表面上に前記薬液を供給する薬液供給工程と、
前記薬液を前記基板上で前記外周部まで拡散させて前記薬液の膜を形成する薬液拡散工程と、
を有し、
前記冷却剤供給工程は、前記薬液が前記基板の外周部に到達する前に行われ、
前記冷却剤供給工程の前記冷却剤は、液体であり、
前記液体による前記冷却剤供給工程の後、前記液体の蒸発を促進させるガスを前記基板の外周部に供給する工程を更に有する、基板処理方法。 - 基板の表面に薬液を供給して前記薬液の膜を形成する基板処理方法であって、
前記基板を回転させながら前記基板の外周部の下面又は/及び上面から冷却剤を供給して前記外周部の温度を下げる冷却剤供給工程と、
前記基板の表面上に前記薬液を供給する薬液供給工程と、
前記薬液を前記基板上で前記外周部まで拡散させて前記薬液の膜を形成する薬液拡散工程と、
を有し、
前記冷却剤供給工程は、前記薬液が前記基板の外周部に到達する前に行われ、
前記冷却剤供給工程の前記冷却剤は、互いに蒸気圧の異なる複数の液体によって構成される、基板処理方法。 - 前記冷却剤供給工程が行われた後、前記薬液供給工程が行われる前に、前記基板に供給される前記薬液の拡散を促進させるプリウェット液を前記基板の表面上に供給して広げるプリウェット液拡散工程が更に行われる、請求項1又は2に記載の基板処理方法。
- 前記冷却剤供給工程では、前記基板の表面上に前記薬液が供給される前に前記基板の外周部を冷却する、請求項1から3のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記冷却剤供給工程は、前記薬液拡散工程で薬液が前記基板の前記外周部に到達した後、更に基板の下面から冷却液を供給する工程を有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の基板処理方法。
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