JP5835526B2 - 新規なチオール化合物及びそれを用いた光学材料用組成物 - Google Patents

Description

本発明は、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光学材料、中でもプラスチックレンズに好適に使用されるチオール化合物及びそれを用いた光学材料用組成物に関する。

プラスチックレンズは軽量かつ靭性に富み、染色も容易である。プラスチックレンズに特に要求される性能は、低比重、高透明性および低黄色度、光学性能として高屈折率と高アッベ数、高耐熱性、高強度などである。高屈折率はレンズの薄肉化を可能とし、高アッベ数はレンズの色収差を低減する。
近年、眼鏡用プラスチックレンズの原料として、硫黄原子を有する有機化合物が数多く報告されている。中でも硫黄原子を有するポリチオール化合物は、イソシアネートと反応させて耐衝撃性に優れたポリチオウレタン樹脂、あるいはエピスルフィドと反応させて屈折率に優れた樹脂として用いられるなど、有用な化合物として知られている（特許文献１、２）。中でも４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンは代表的な化合物である（特許文献３）。

特開平２−２７０８５９号公報 特開平１０−２９８２８７号公報 特開平９−１１０９５５号公報

しかしながら、この化合物を含む光学材料用組成物から得た樹脂は、カーブがきついレンズにおいて光学歪みが出やすくなる場合があった。光学用途では歪みの発生は不良品として扱われ、得られる樹脂の歩留まりは大きく悪化し、経済的に不利となることから、改善が求められていた。
すなわち、本発明の課題は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを用いて得られる樹脂について、歪みがない光学材料用組成物を提供することである。

本発明者らは、このような状況に鑑み鋭意研究を重ねた結果、下記式（１）で表される化合物により前記課題を解決し、本発明に至った。すなわち、本発明は下記である。
［１］下記式（１）で表されるチオール化合物。

（ただし、Ｒ_１はＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨを表し、Ｒ_２は水素を表す）
［２］［１］に記載の式（１）で表されるチオール化合物の製造方法であって、下記式（２）で表される化合物である４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン中のＳＨ基同士をハロゲン化合物と塩基性化合物を用い分子内反応でジスルフィド化することを特徴とする、前記製造方法。

［３］［１］記載のチオール化合物と下記式（２）で表される化合物との混合物であり、［１］記載のチオール化合物の割合が０．００１〜５．０質量％である混合物。

［４］［３］記載の混合物と、ポリイソシアネート化合物及びエピスルフィド化合物の少なくとも一つとを含有する光学材料用組成物。
［５］［４］記載の光学材料用組成物に、重合触媒を該光学材料用組成物の総量に対して０．０００１質量％〜１０質量％添加し、重合硬化する工程を有する光学材料の製造方法。
［６］［５］に記載の製造方法によって得られる光学材料。
［７］［６］に記載の光学材料を含む光学レンズ。

本発明により、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを用いて得られる樹脂について、歪みがない光学材料用組成物を提供することが可能となった。

式（１）で表される化合物の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果 式（１）で表される化合物の質量分析結果 式（１）で表される化合物の赤外分光分析結果

本発明は、前記式（１）で表される化合物、及び式（１）で表される化合物が０．００１〜５．０質量％である、式（１）で表される化合物と前記式（２）で表される化合物との混合物である。
以下、本発明の化合物、即ち式（１）で表される化合物について詳細に説明する。

本発明では、前記式（１）で表される化合物を使用する。式（１）の化合物はそれぞれ単独でも、２種を混合して用いてもかまわない。

本発明の式（１）で表される化合物の製造方法としては、式（２）の化合物を出発原料として用いることが最も容易である。
式（２）の化合物中のＳＨ基同士をハロゲン化合物と塩基性化合物を用い分子内反応でジスルフィド化する。ジスルフィド化で用いるハロゲン化合物の具体例は、塩素、臭素、ヨウ素であるが、好ましくは臭素、ヨウ素である。ハロゲン化合物は、式（２）で表される化合物１モルに対し０．１〜５モル使用する。好ましくは０．２〜３モル、より好ましくは０．３〜１モルである。０．１モル未満では未反応の原材料の余剰が多くなり、５モルを超えた場合ではオリゴマー化により収率が悪化するため、経済的に好ましくない。
塩基性化合物の具体例は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムである。好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムである。
塩基性化合物は、式（２）で表される化合物１モルに対し０．１〜１０モル使用する。好ましくは０．２〜５モル、より好ましくは０．３〜３モルである。０．１モル未満もしくは１０モルを超えた場合では未反応の原材料の余剰が多くなり、経済的に好ましくない。

溶媒は使用してもしなくてもよいが、使用する場合は水、アルコール類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類が用いられる。具体例としては、水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、メチルエチルケトン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン等が挙げられる。中でも好ましくは水、メタノール、エタノール、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルムであり、最も好ましくはメタノール、エタノール、トルエンである。
反応温度は、反応を進行させるためであれば特に制限はないが、好ましくは−１０℃〜１５０℃、より好ましくは０℃〜１２０℃、更に好ましくは１０℃〜１００℃である。反応時間は特に制限はないが、通常は２０時間以下である。−１０℃未満では反応が進行しないか遅くなりすぎで好ましくなく、１５０℃を超えるとオリゴマー化して高分子量となり好ましくない。

こうして得られる式（１）で表される化合物は、式（２）で表される化合物とともに光学材料用組成物として使用される。
本発明は、式（１）で表される化合物が０．００１〜５．０質量％である、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との混合物である。式（１）で表される化合物の割合は好ましくは０．００５〜３．０質量％であり、より好ましくは０．０１〜１．５質量％である。式（１）で表される化合物が０．００１質量％を下回ると十分な効果が得られない場合があり、５．０質量％を超えると耐熱性が低下する場合がある。

本発明の光学材料用組成物は、前記式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との混合物ならびにポリイソシアネート化合物および／またはエピスルフィド化合物を含有する。
本発明の光学材料用組成物で用いられるポリイソシアネート化合物は単独でも、２種類以上を混合して用いてもかまわない。
その具体例としては、ジエチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、２，６−ビス（イソシアネートメチル）デカヒドロナフタレン、リジントリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ｏ−トリジンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート、３−（２’−イソシアネートシクロヘキシル）プロピルイソシアネート、イソプロピリデンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、２，２’−ビス（４−イソシアネートフェニル）プロパン、トリフェニルメタントリイソシアネート、ビス（ジイソシアネートトリル）フェニルメタン、４，４’，４’’−トリイソシアネート−２，５−ジメトキシフェニルアミン、３，３’−ジメトキシベンジジン−４，４’−ジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジイソシアネートビフェニル、４，４’−ジイソシアネート−３，３’−ジメチルビフェニル、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、１，１’−メチレンビス（４−イソシアネートベンゼン）、１，１’−メチレンビス（３−メチル−４−イソシアネートベンゼン）、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（２−イソシアネート−２−プロピル）ベンゼン、２，６−ビス（イソシアネートメチル）ナフタレン、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ビス（イソシアネートメチル）テトラヒドロジシクロペンタジエン、ビス（イソシアネートメチル）ジシクロペンタジエン、ビス（イソシアネートメチル）テトラヒドロチオフェン、ビス（イソシアネートメチル）ノルボルネン、ビス（イソシアネートメチル）アダマンタン、チオジエチルジイソシアネート、チオジプロピルジイソシアネート、チオジヘキシルジイソシアネート、ビス〔（４−イソシアネートメチル）フェニル〕スルフィド、２，５−ジイソシアネート−１，４−ジチアン、２，５−ジイソシアネートメチル−１，４−ジチアン、２，５−ジイソシアネートメチルチオフェン、ジチオジエチルジイソシアネート、ジチオジプロピルジイソシアネートを挙げることができる。

しかしながら、本発明の対象となるポリイソシアネート化合物に関してはこれらに限定されるわけではなく、また、これらは単独でも、２種類以上を混合して使用してもかまわない。
これらのなかで好ましい具体例は、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナートメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアネートメチル）ノルボルネン、および２，５−ジイソシアネートメチル−１，４−ジチアンの中から選ばれる少なくとも１種以上の化合物であり、中でも好ましい化合物は、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、ｍ−キシリレンジイソシアネートであり、最も好ましい化合物は、イソホロンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサンである。

さらに、ポリイソシアネート化合物のＮＣＯ基に対するチオール化合物中のＳＨ基の割合、即ち（ＳＨ基／ＮＣＯ基）は、好ましくは０．８〜２．５であり、より好ましくは０．９〜２．２５であり、さらに好ましくは０．９５〜２．０である。上記割合が０．８を下回るとレンズ成型時に黄色く着色する場合があり、２．５を上回ると耐熱性が低下する場合がある。

本発明で使用するエピスルフィド化合物の例としては、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）エタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタンなどのエピスルフィド類が挙げられる。これらは単独でも、２種類以上を混合して用いてもかまわない。
しかしながら、本発明で使用されるエピスルフィド化合物に関してはこれらに限定されるわけではなく、また、これらは単独でも、２種類以上を混合して使用してもかまわない。
中でも好ましい化合物は、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィドであり、最も好ましい化合物は、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィドである。

本発明において、他のポリチオール化合物を併用しても良い。ポリチオール化合物は単独でも、２種類以上を混合して用いてもかまわない。
その具体例としては、メタンジチオール、メタントリチオール、１，２−ジメルカプトエタン、１，２−ジメルカプトプロパン、１，３−ジメルカプトプロパン、２，２−ジメルカプトプロパン、１，４−ジメルカプトブタン、１，６−ジメルカプトヘキサン、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−ビス（２−メルカプトエチルオキシ）エタン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、１，３−ジメルカプト−２−プロパノール、１，２，３−トリメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，３−ジメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，４−ジメルカプトブタン、２−（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、２，４−ジメルカプトメチル−１，５−ジメルカプト−３−チアペンタン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１，１−トリス（メルカプトメチル）プロパン、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、１，２−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ジメルカプトシクロヘキサン、１，４−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、２，５−ビス（２−メルカプトエチルチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトメチル−１−チアン、２，５−ジメルカプトエチル−１−チアン、２，５−ジメルカプトメチルチオフェン、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、２，２’−ジメルカプトビフェニル、４、４’−ジメルカプトビフェニル、ビス（４−メルカプトフェニル）メタン、２，２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトフェニル）エーテル、ビス（４−メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトフェニル）スルホン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−メルカプトメチルフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）エーテル、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）スルフィド、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、３，４−チオフェンジチオール、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパンを挙げることができる。
これらのなかで好ましい具体例は、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート）、トリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネートであり、より好ましくは、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、２，５−ビス（２−メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレートであり、最も好ましい化合物は、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアンである。

本発明の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を得るに際して、重合触媒を添加することが好ましい。重合触媒としては公知のウレタン化触媒、エピスルフィド重合触媒を用いることができる。好ましくは、有機スズ、アミン、ホスフィン、オニウム塩が用いられるが、特に有機スズ、オニウム塩、中でも有機スズ、第４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩が好ましい。
重合触媒の添加量は、組成物の成分、混合比および重合硬化方法によって変化するため一概には決められないが、通常は光学材料用組成物の合計１００質量％に対して、０．０００１質量％〜１０質量％、好ましくは、０．００１質量％〜５質量％、より好ましくは、０．０１質量％〜１質量％、最も好ましくは、０．０１質量％〜０．５質量％である。重合触媒の添加量が１０質量％より多いと急速に重合する場合がある。また、重合触媒の添加量が０．０００１質量％より少ないと光学材料用組成物が十分に硬化せず耐熱性が不良となる場合がある。

また、本発明の製造方法で光学材料を製造する際、光学材料用組成物に紫外線吸収剤、ブルーイング剤、顔料等の添加剤を加え、得られる光学材料の実用性をより向上せしめることはもちろん可能である。
紫外線吸収剤の好ましい例としてはベンゾトリアゾール系化合物であり、特に好ましい化合物は、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。
これら紫外線吸収剤の添加量は、通常、光学材料用組成物の合計１００質量％に対して０．０１〜５質量％である。

光学材料用組成物を重合硬化させる際に、必要に応じて内部離型剤、酸化防止剤、重合調整剤等の公知の添加剤を加えても良い。

このようにして得られた光学材料用組成物はモールド等の型に注型し、重合させて光学材料とする。
本発明の光学材料用組成物の注型に際し、０．１〜５μｍ程度の孔径のフィルター等で不純物を濾過し除去することは、本発明の光学材料の品質を高める上からも好ましい。
本発明の光学材料用組成物の重合は通常、以下のようにして行われる。即ち、硬化時間は通常１〜１００時間であり、硬化温度は通常−１０℃〜１４０℃である。重合は所定の重合温度で所定時間保持する工程、０．１℃〜１００℃／ｈの昇温を行う工程、０．１℃〜１００℃／ｈの降温を行う工程によって、又はこれらの工程を組み合わせて行う。
また、硬化終了後、得られた光学材料を５０〜１５０℃の温度で１０分〜５時間程度アニール処理を行うことは、本発明の光学材料の歪を除くために好ましい処理である。さらに得られた光学材料に対して、必要に応じて染色、ハードコート、耐衝撃性コート、反射防止、防曇性付与等の表面処理を行ってもよい。
本発明の光学材料は光学レンズとして好適に用いることができる。

以下、本発明の内容を、実施例及び比較例を挙げて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
１．１Ｈ−ＮＭＲ 測定
日本電子株式会社のＪＮＭ−ＬＡ５００を用いて測定を行った。
２．質量分析
キャピラリーカラムにＤＢ−５ＭＳ（アジレント・テクノロジー株式会社）を装着した、アジレント・テクノロジー株式会社のガスクロマトグラフ質量分析装置、ＨＰ６８９０／ＭＳ５９７３を用いて、イオン化法ＥＩで測定を行った。
３．赤外分光分析
日本分光株式会社のＦＴ／ＩＲ−４２００にＡＴＲ ＰＲＯ４５０−Ｓを装着して測定を行った。
４．式（１）の化合物の定量方法
キャピラリーカラムにＤＢ−５ＭＳ（アジレント・テクノロジー株式会社）を装着した、キャピラリーガスクロマトグラフ（島津製作所製、ＧＣ２０１０、検出器：水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ））を用いて、絶対検量線法により定量を行った。
５．歪み
２枚のガラス板とテープから構成される直径７０ｍｍ、−１５Ｄのレンズモールドに光学材料用組成物を注入し、重合硬化させた。放冷後、モールドから離型し、アニール処理したのち、高圧水銀灯下目視で観察した。１０枚作製し、１枚も歪みのないものを「Ａ」、１枚歪みのあるものを「Ｂ」、２枚歪みのあるものを「Ｃ」、３枚以上歪みがあるものを「Ｄ」とした。Ａ、ＢおよびＣが合格であるが、ＡおよびＢが好ましく、Ａが特に好ましい。

実施例１
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた３００ｍＬ４つ口反応フラスコ内に、式（２）で表される化合物１３．２質量部および炭酸ナトリウム５．５質量部を装入した。１０℃にてヨウ素１０．３質量部をエタノール８０質量部に溶解させた溶液を３０分かけて滴下装入した。次にクロロホルム５０質量部を加え酸洗、および水洗を行い、加熱減圧下で溶媒を除去した。得られた反応生成物にトルエン９０質量部、水酸化カリウム０．２質量部を５質量部のメタノールに溶解させた溶液を加え、９０分加熱還流を行った。トルエン溶液を酸洗浄および水洗浄を行い、加熱減圧下でトルエンを除去した。得られた反応生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し式（１）で表される化合物５．０質量部を得た。１Ｈ−ＮＭＲ分析（図１）、質量分析（図２）、赤外分光分析（図３）の結果を以下に示す。１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７７（１Ｈ）、２．７−３．５（１３Ｈ）
マススペクトル（ＥＩ）： （分析値） （計算値）
２５８ ２５８
赤外吸収スペクトル：２５３５ｃｍ-1（メルカプタンの特性吸収）

実施例２
実施例１で得られた式（１）で表される化合物を、式（２）で表される化合物に混合し、式（１）で表される化合物が０．００１、０．００５、０．０１、１．５、３．０、５．０質量％である、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との混合物を得た。

実施例３〜８、比較例１
１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン５２質量部に、硬化触媒としてジブチル錫ジクロライド０．０１５質量部、リン酸ジオクチル０．１０質量部を、１０〜１５℃にて混合溶解させた。さらに４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを主成分とする実施例２の混合物４８質量部を混合し、均一液とした。この混合均一液を６００Ｐａにて１時間脱泡を行った後、１μｍのＰＴＦＥフィルターにて濾過を行い、直径７０ ｍｍ 、＋５Ｄのモールドへ注入し、４０℃から１３０℃まで２４時間かけて重合させた。その後脱型し、実施例３〜８の光学材料を得た。
実施例３において、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを主成分とする実施例２の混合物の代わりに、式（１）で表される化合物が１０．０質量％である、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との混合物を用いた以外は、実施例３と同様に行い、比較例１の光学材料を得た。結果を表１にまとめた。

実施例９〜１４、比較例２
ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド７７質量部、１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン９質量部、さらに４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを主成分とする実施例２の混合物１４質量部に、重合触媒としてテトラブチルホスホニウムブロマイド０．２質量部、ジブチルスズジクロライド０．０５質量部を添加し、室温で均一液とした。この混合均一液を６００Ｐａにて１時間脱泡を行った後、１μｍのＰＴＦＥフィルターにて濾過を行い、直径７０ ｍｍ 、＋５Ｄのモールドへ注入し、２０℃から１００℃まで２０時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、実施例９〜１４の光学材料を得た。
実施例９において、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを主成分とする実施例２の混合物の代わりに、式（１）で表される化合物が１０．０質量％である、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との混合物を用いた以外は、実施例９と同様に行い、比較例２の光学材料を得た。結果を表２にまとめた。

Claims (8)

1. 下記式（１）で表されるチオール化合物。
   

   

   （ただし、Ｒ_１はＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨを表し、Ｒ_２は水素を表す）
2. 請求項１に記載の式（１）で表されるチオール化合物の製造方法であって、下記式（２）で表される化合物中のＳＨ基同士をハロゲン化合物と塩基性化合物を用い分子内反応でジスルフィド化することを特徴とし、
   前記ハロゲン化合物が、塩素、臭素、およびヨウ素からなる群より選択され、
   前記塩基性化合物が、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、および水酸化カルシウムからなる群より選択される、前記製造方法。
   

   
3. 請求項１記載のチオール化合物と下記式（２）で表される化合物との混合物であり、請求項１記載のチオール化合物の割合が０．００１〜５．０質量％である混合物。
   

   
4. 請求項３記載の混合物と、ポリイソシアネート化合物及びエピスルフィド化合物の少なくとも一つとを含有する光学材料用組成物。
5. 請求項４記載の光学材料用組成物の総量に対して重合触媒０．０００１質量％〜１０質量％を配合してなる光学材料用組成物。
6. 請求項５に記載の光学材料用組成物を硬化した光学材料。
7. 請求項６に記載の光学材料を含む光学レンズ。
8. 請求項４記載の光学材料用組成物に、重合触媒を該光学材料用組成物の総量に対して０．０００１質量％〜１０質量％添加し、重合硬化する工程を有する光学材料の製造方法。

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