JP5835001B2 - 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 - Google Patents
電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5835001B2 JP5835001B2 JP2012039760A JP2012039760A JP5835001B2 JP 5835001 B2 JP5835001 B2 JP 5835001B2 JP 2012039760 A JP2012039760 A JP 2012039760A JP 2012039760 A JP2012039760 A JP 2012039760A JP 5835001 B2 JP5835001 B2 JP 5835001B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating solution
- plating
- rare earth
- impurities
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
上記電気ニッケルめっきによるめっき被膜の成長過程のごく初期においては、成膜と同時に被めっき物の成分がめっき液中に溶解することがある。
特にめっき液のpHが酸性側に傾いている場合や被めっき物がめっき液に溶解しやすい場合、めっき液に被めっき物が溶解し不純物としてめっき液中に蓄積する。
R−Fe−B系焼結磁石の場合は、主成分であるNd等の希土類元素やFeがめっき液に溶解し不純物となる。
よって継続してめっき処理を行うとめっき液中に磁石素材の主成分であるNd等の希土類不純物やFeが溶解し蓄積していく。不純物が無い状態でめっきを行うためにはめっき処理毎に新しいめっき液を建浴することが必要となる。製造工程においてめっき処理毎に新たなめっき液を建浴することはコストアップとなり困難である。実質的には不可能といえる。
例えば、希土類元素がめっき液中に不純物として蓄積し一定量以上になると、めっき被膜と磁石素材の間で密着性が低下し剥離が発生したり、めっき被膜成膜中の電流断続を起因とする層内剥離である2重めっきが発生する。
密着性が低下し2重めっきのような不良が発生するか否かはめっき液の組成やめっき条件によるが、本発明者の実験によると希土類不純物量が700ppm(主にNd不純物)を超えると発生しやすくなる。さらにバレル方式によるめっきは、局部的に大きな電流が被めっき物に流れるため、2重めっきが発生しやすいことも確認している。
工業的量産規模で電気ニッケルめっきを実施する場合に、電気ニッケルめっき液中の希土類不純物が全くない状態を維持することは、製造コストの観点からも非現実的であり、一般的に採用されていない。しかし、品質管理の観点から希土類不純物量が700ppmを超えず、低く管理するのが望ましい。
これらの方法は電気ニッケルめっき液に溶解した鉄や有機物の不純物を除去する方法としては有効だが、希土類不純物を除去することは極めて困難である。
特許文献1には、希土類金属の精製や分離に使用される薬剤を用い、電気ニッケルめっき液から希土類不純物を除去する方法が開示されている。
この方法は、電気ニッケルめっき液中の希土類不純物を低減する方法の一つとして有効と考えられる。
しかし、この方法の実現のためには、複雑な工程を採用する必要があり効率的でなく、しかも、特別な薬剤が必要である。
請求項2記載の本発明は、請求項1記載の電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法において、前記冷却は、前記電気ニッケルめっき液の加温前の温度まで行うことを特徴とする。
請求項3記載の本発明は、希土類不純物を含む電気ニッケルめっき液をめっき処理中にめっき槽から抜き取る工程と、前記抜き取った電気ニッケルめっき液を加温手段に送り80℃以上に加温して析出物を析出する工程と、前記析出物を含む前記加温した電気ニッケルめっき液を冷却手段に送り前記加温前の温度まで冷却する工程と、前記析出物を含む電気ニッケルめっき液を分離除去手段に送り前記析出物を分離除去する工程と、前記析出物を分離除去した電気ニッケルめっき液を前記めっき槽に戻す工程を有することを特徴とする電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法である。
めっき液を沸点以上に加温すると、めっき液から水が急激に蒸発し、めっき液を構成する成分が急激に析出する。めっき液の沸点は組成によって変動するが、例えばワット浴の沸点は約102℃となる。
このようにめっき液の沸点はモル沸点上昇により上昇するため、水の沸点である100℃を上限として管理すれば、組成の異なるめっき液の不純物除去にも対応可能である。
以上のことから、本願発明の加温は80℃から100℃の範囲が望ましく、さらには90℃から95℃が最も望ましい。
また本願発明の希土類不純物の除去方法を実施する際に使用する設備において、上記加温の範囲(加温によるめっき液の温度)に応じて耐熱性の高いものを使用することが必要となることから、この温度が高くなるほど必然的にコストアップを招くことにもなる。上記温度範囲、特に望ましい温度範囲で実施することが結果的にコストアップの抑制にも寄与する。
また、加温しためっき液を濾過後(希土類不純物除去後)、冷却することなくめっき槽に戻すと、温度の高いめっき液が加温前の温度にあるめっき液に混ざることになり、このめっき液の液温が上昇する。めっき液全体の液温が加温前の温度に戻るまでめっき処理を停止することは、めっき処理の効率の観点からも望ましくない。
加温中に水分が蒸発し、めっき液の濃度が上昇する場合には適宜水を補給し、濃度を維持するのが望ましい。
上記方法では、連続して希土類不純物の除去を行うことでめっき処理中の希土類不純物の増加を抑えることができる。よって、希土類不純物を除去するためにめっき液を別の槽に移して、希土類不純物を除去する等の工程を採る必要が無く、めっき処理を停止する必要が無い。
また、めっき処理を停止しめっき液を別の槽に移して、希土類不純物を除去する必要があったとしても、希土類不純物の増加を抑えているため、その頻度を低くすることができ、生産性の向上につながり好ましい。
本発明は、ワット浴に最も好適に適用可能である。
ワット浴の液組成としては、ごく一般的な浴組成で良い。例えば硫酸ニッケル 200〜320g/L、塩化ニッケル 40〜50g/リットル、ほう酸 30〜45g/L 添加剤として、光沢剤やピット防止剤を含んだ組成にも適用可能である。
めっき液の組成調整は公知の分析方法(滴定分析等)により行う。
例えば、ワット浴の場合、塩化ニッケル、全ニッケルを滴定により分析し硫酸ニッケルを求め、さらにホウ酸を滴定により分析する。
本発明において希土類不純物除去後のめっき液の組成はほとんど変化しないため、不純物除去を行ったことによるめっき槽の液組成の変化は軽微である。
よって、めっき槽にあるめっき液の組成は、一定周期を決めて組成分析してもよい。分析周期はめっき槽の構成や生産量によって適宜設定すれば良い。
分析の結果、めっき液の組成が管理範囲内にある場合は必ずしも添加する必要はないが、不足する場合には不足する量の硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸をめっき液に添加しめっき液の組成を調整する。
添加する際にはめっき液をめっき温度に加温するのが望ましい。温度が低いと添加する薬剤の溶解が遅くなるか、溶解しない。その後、pHを炭酸ニッケルや硫酸で調整し、公知の光沢剤やピット防止剤を添加しめっき処理を行う。
本発明を適用するめっき液を用いためっき条件については、使用する設備、めっき方法、被めっき物の大きさ、処理個数等々によって適宜変更すれば良い。
一例として、上記ワット浴組成のめっき浴を用いた場合のめっき条件は、pH3.8〜4.5、浴温45℃〜55℃、電流密度 0.1〜10A/dm2が望ましい。
メッキ方法としてはラック方式、バレル方式があるが、被めっき物のサイズ、処理量によって適宜設定すれば良い。
図中4はめっき槽であり、図示しない陽極板、陰極、ヒーター、攪拌機を有し、めっき液を建浴し、電気ニッケルめっきを行うことができる。
めっき槽の材質は使用するめっき液によるが、塩化ビニル(PVC)又は耐熱塩化ビニル(PVC)が望ましい。
図中矢印でめっき液が流れる向きを示す。
図中20はめっき処理にかかるめっき液の濾過系統を示す。
図中3はバルブ、2はポンプ、1は濾過器であり、めっき槽4→バルブ3→ポンプ2→濾過器1→めっき槽4の順序でめっき液が流れ、めっき液中に浮遊するゴミなどを濾過する。
図中30は本発明のめっき液中の希土類不純物を除去する系統を示す。
図中5はバルブ、6はポンプ、7は加温手段としての加温用熱交換器、8は冷却手段としての冷却用熱交換器、9は濾過器、10はバルブであり、めっき槽4→バルブ5→加温用熱交換器7→冷却用熱交換器8→濾過器9→バルブ10→めっき槽4の順序でめっき液が流れ、めっき液中に溶解している希土類不純物を析出させたのち濾過除去することができる。
なお析出物をめっき液から分離除去する際、分離除去手段としての濾過器の代わりに沈降槽を設け、析出物を沈降させめっき液の上澄み液のみを連続して回収し、析出物を分離除去してもよい。
この場合沈降槽に浮遊する微量の析出物は、めっき槽に送液した後、めっき槽に付随した濾過器にて完全に分離除去することが可能となる。
30の系統に用いる配管の材質はめっき液の組成や温度によって適宜設定すれば良いが、加温用熱交換器と冷却用熱交換器をつなぐ配管には高温のめっき液を流す必要があるため、耐熱性の高いものを使用するのが望ましい。
耐熱性の高いものとしてはPPやフッ素樹脂コートした鉄管等を用いるのが望ましい。
加温用熱交換器は公知のものを使用でき、特に限定されず、熱源として電気ヒータや蒸気を選択できる。蒸気を用いた熱交換器はめっき液の加温が容易であり望ましい。
冷却用の熱交換器についても公知のものを使用できる。冷却用熱交換器は用いる冷媒としては冷媒ガスを用いる形式でもよいし、冷水を用いるものでもよい。
熱交換器のめっき液に接する部分の材質は、めっき液の組成や、温度によって適宜選択すれば良いが、耐食性の高いステンレスやチタン等の材質を選択するのが望ましい。
加温用熱交換器及び冷却用熱交換器の形式や能力は、加温及び冷却を行うめっき液の量(めっき槽の容量)やめっき処理する製品の量、めっき条件によって適宜設定すれば良く、例えば、図1では加温用熱交換器1台→冷却用熱交換器1台の経路を採用したが、加温用熱交換器を2台直列に配置し、その後に冷却用熱交換器を2台直列に配置してもよく、又加温用熱交換器1台→冷却用熱交換器1台を1組として2組を並列に接続してもよい。
図中30で示す希土類不純物を除去する系統に流すめっき液の流量は、加温用熱交換器及び冷却用熱交換器の能力、めっき槽の容量(めっき液の量)、めっき条件、めっき処理する製品の量によって適宜設定すれば良く。流量は使用するポンプの能力やバルブの開閉量によって調整すれば良い。
また加温手段としては、槽に加温用のヒーターを浸漬したものでもよいし、また冷却手段としては槽に投げ込み式の冷却パイプを浸漬したものでもよい。
めっき液の組成として硫酸ニッケル 250g/L、塩化ニッケル 50g/L、ほう酸 45g/L でpH 4.5のめっき液を50℃に加温し、R−Fe−B系焼結磁石の表面に電気ニッケルめっきを施した。R−Fe−B系焼結磁石は必要な磁気特性に応じて、Nd:15〜25mass%、Pr:4〜7mass%、Dy:0〜10mass%、B:0.6mass%〜1.8mass%、Al:0.07〜1.2mass%、残部Feであり3mass%以下のCu,Gaの範囲で組成を調整した数種類のものを用いた。ただし、一回のバッチで用いる磁石の組成は同じものとした。
なおメッキ液に溶解する希土類不純物のそれぞれの組成や量はめっきに供した磁石の組み合わせ、バレルめっきやラックめっきといった処理方法、メッキ液の組成によって異なる。
分析結果はNd:500ppm、Pr:179ppm:、Dy:29ppmとなっていた。
上記希土類不純物を含むめっき液を一定量(3リットル)ビーカーに採取し、ヒーターで90℃に加温した状態で一定時間保持した。なお、加温中は磁石式の攪拌機(マグネットスターラー)にて攪拌した。加温中はめっき液の濃度が一定になるように水を補給した。
24時間経過後及び96時間経過後に加温を停止し冷却した後、それぞれICP発光分析に十分な量のめっき液を採取し、濾紙にて濾過した後のめっき液中に含まれるNd、Pr、Dyの濃度をICP発光分析装置にて測定した。
24時間経過後の分析結果はNd:100ppm、Pr:35ppm、Dy:16ppmとなっていた。
96時間経過後の分析結果はNd:50ppm、Pr:16ppm、Dy:2ppmとなっていた。
上記のように、電気ニッケルめっき液中に溶解しているイオン状態の希土類不純物は、所定時間の加温により析出物となり、濾紙による濾過にてめっき液と分離・除去される。
所定時間の加温によっても析出物にならなかった希土類不純物は、上記分析結果に示すような割合で、イオン状態のままめっき液中に残存する。上記分析結果から明らかなように、加温時間が長いほど、析出物として分離・除去される希土類不純物の量が多くなり、結果として、めっき液中のイオン状態にある希土類不純物の量が低減されることとなる。
実施例1の処理方法により、希土類元素であるNdの不純物量低減と同時にPrとDyの不純物量も低減することがわかった。
めっき液の組成として硫酸ニッケル 250g/L、塩化ニッケル 50g/L、ほう酸 45g/L でpH 4.5のめっき液を50℃に加温しR−Fe−B系焼結磁石(実施例1と同じ組成範囲のものを用いた)の表面に電気ニッケルめっきを施した。数日間めっき処理を行った後、電気ニッケルめっき液中のNd不純物を分析したところ576ppmとなっていた。
上記めっき液を加温温度が50℃から95℃までの6条件(ただし50℃から90℃までは10℃きざみにて5条件)に設定し、各1条件3リットルのビーカーに採取して加温した。加温中は磁石式の攪拌機(マグネットスターラ)にて攪拌した。加温中はめっき液の濃度が一定になるように水を補給しながら、一定時間毎にめっき液をICP発光分析に十分な量を採取し、採取しためっき液を冷却し濾紙で濾過したのち、そのめっき液中のNd不純物の含有量(濃度)を分析した。分析にはICP発光分析装置を用いた。
分析結果を表1に示すと共に(50℃から90℃の結果を)図2のグラフに示した。
加温温度が80℃では、加温直後から不純物濃度は低下し、96時間経過後に125ppmとなった。
加温温度が90℃では、24時間経過後で134ppm、48時間経過後で84ppmとなり、96時間経過後では59ppmとなった。加温温度が95℃では、24時間経過後と96時間経過後について分析した。Nd不純物量は90℃で加温した場合とほぼ同じであった。
実施例1及び実施例2で加温処理しためっき液を冷却した後、濾紙で濾過し、めっき液から析出した析出物を回収した。
上記析出物を恒温槽で乾燥した。性状は紛体(固体)であった。
析出物をエネルギー分散型X線分析装置(EDX)にて分析したところ、
Nd:32.532、Pr:11.967、Dy:1.581、Al:0.402、Ni:7.986、C:0.319、O:45.213、(mass%)であった。
めっき液中の希土類不純物は、加温処置によりめっき液から紛体(固体)として析出していることを確認した。
めっき液の組成として硫酸ニッケル 250g/L、塩化ニッケル 50g/L、ほう酸 45g/L でpH 4.5のめっき液を50℃に加温しR−Fe−B系焼結磁石(実施例1と同じ組成範囲のものを用いた)の表面に電気ニッケルめっきを施した。数日間めっき処理を行った後、電気ニッケルめっき液中のNd不純物を分析したところ581ppmとなっていた。
上記めっき液を3リットルのビーカーに採取し、90℃で加温した。
加温中は磁石式の攪拌機(マグネットスターラ)にて攪拌した。加温中はめっき液の濃度が一定になるように水を補給しながら、1,3,6,12、24時間で、実施例1と同じ様に、そのめっき液中のNd不純物の含有量(濃度)を分析した。
分析結果を表2に示すと共に図3のグラフに示した。
一度析出した希土類不純物の再溶解について調べた。
めっき液の組成として硫酸ニッケル 250g/L、塩化ニッケル 50g/L、ほう酸 45g/L でpH 4.5のめっき液を50℃に加温しR−Fe−B系焼結磁石(実施例1と同じ組成範囲のものを用いた)の表面に電気ニッケルめっきを施した。数日間めっき処理を行った後、電気ニッケルめっき液中のNd不純物を分析したところ544ppmとなっていた。めっき液を3リットルのビーカーに採取し、90℃に加温した。
加温中は磁石式の攪拌機(マグネットスターラ)にて攪拌した。加温中はめっき液の濃度が一定になるように水を補給した。一定時間経過後にめっき液をICP発光分析に十分な量を採取し、採取しためっき液を冷却し濾紙で濾過したのち、そのめっき液中のNd不純物の含有量(濃度)を分析した。分析にはICP発光分析装置を用いた。
また、めっき液を採取したのち、めっき液を40℃まで冷却し40℃に保持した場合の分析結果を以下に示す。
40℃に保持後、1、3、6、24、48時間にて、めっき液をICP発光分析に充分な量採取し、濾過後、そのめっき液中のNd不純物の含有量(濃度)を分析した。
分析結果を表3に示した。
実施例2の結果から、60℃以上で加温状態を保持した場合には、濾過した後のめっき液ではNd不純物の量が低減しており、また、加温温度が高くなるほど低減効果は高まった。
Nd不純物の量とめっき膜の2重めっきや剥離発生との関係はめっき条件によって変わるが、Nd不純物の量が200ppm程度では、それらの発生は見られない。
Nd不純物の除去に1週間(168時間)かけたとき、加温温度が60℃では約200ppmに低減している。同様に70℃では5日間(120時間)、80℃では3日間(72時間)、90℃及び95℃では24時間(1日)で、ほぼ同程度の効果を得られることが確認されている。
このように、不純物の低減に必要な時間は、めっき液の加温温度によって変化する。
1週間を生産の単位期間とした場合、60℃で168時間保持し、その後濾過しためっき液はめっき処理に十分使用可能であり、また70℃では5日間でめっき可能な不純物量に低減できる。同様に80℃、90℃、95℃ではさらに短い時間でめっき液中の不純物が低減可能である。
加温時間24時間以下について調べた実施例4を参酌すると、90℃に加温した場合、不純物の析出は3時間程度経過した時点ですでに始まっており、約10%の不純物低下量となっている。この析出物の濾過により、不純物を除去できることがわかる。
このことから、希土類不純物の析出は加温後温度が高くなるにしたがって短時間のうちに始まることが予測される。よって、希土類不純物を含んだめっき液を加温用の熱交換器等で適正温度に加温することで希土類不純物を析出し、その後冷却し濾過することで、めっき液中から希土類不純物を効率的に除去することが可能となる。実施例2の結果を参酌すると、80℃の加温では24時間で不純物量は35%程度減少しており、加温温度として80℃以上を選定すれば、短い時間での不純物の析出が可能となり、目的とする効率的な不純物除去が可能となることを確認した。
また実施例5の結果から、一度析出した析出物は、めっき液の温度をめっき処理温度以下に下げてもめっき液中に再溶解しないことから、加温により析出した析出物を含むめっき液を加温前の温度(めっき処理を行う温度)まで冷却し、その後濾過することで濾過後のめっき液をめっき槽に戻す際の温度調整は不要となる。したがって、めっき処理を停止することなく、めっき液中の不純物除去を連続的に実施することができ、工業規模の生産において効率的に安定した性状のめっき被膜を形成可能なめっき処理を提供することができる。
更には、本発明の方法により、めっき液中のFe不純物やCu不純物についても低減可能である。
2,6 ポンプ
3,5,10 バルブ
7 加温用熱交換器
8 冷却用熱交換器
20 めっき液濾過系統
30 めっき液不純物除去系統
Claims (3)
- 希土類不純物を含む電気ニッケルめっき液の温度を80℃以上に加温した後、前記加温により析出した析出物を含む前記電気ニッケルめっき液をめっき処理を行う温度以下に冷却し、更に分離除去することで、前記電気ニッケルめっき液から前記析出物を除去することを特徴とする電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法。
- 前記冷却は、前記電気ニッケルめっき液の加温前の温度まで行うことを特徴とする請求項1記載の電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法。
- 希土類不純物を含む電気ニッケルめっき液をめっき処理中にめっき槽から抜き取る工程と、前記抜き取った電気ニッケルめっき液を加温手段に送り80℃以上に加温して析出物を析出する工程と、前記析出物を含む前記加温した電気ニッケルめっき液を冷却手段に送り前記加温前の温度まで冷却する工程と、前記析出物を含む電気ニッケルめっき液を分離除去手段に送り前記析出物を分離除去する工程と、前記析出物を分離除去した電気ニッケルめっき液を前記めっき槽に戻す工程を有することを特徴とする電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012039760A JP5835001B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012039760A JP5835001B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013173993A JP2013173993A (ja) | 2013-09-05 |
JP5835001B2 true JP5835001B2 (ja) | 2015-12-24 |
Family
ID=49267152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012039760A Active JP5835001B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5835001B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7063436B2 (ja) | 2019-09-06 | 2022-05-09 | Smc株式会社 | 流量コントローラ及びそれを備えた駆動装置 |
JP7089244B2 (ja) | 2019-09-06 | 2022-06-22 | Smc株式会社 | エアシリンダ、ヘッドカバー及びロッドカバー |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013047340A1 (ja) | 2011-09-28 | 2013-04-04 | 日立金属株式会社 | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 |
JP6319297B2 (ja) * | 2013-03-25 | 2018-05-09 | 日立金属株式会社 | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 |
JP6281565B2 (ja) * | 2013-03-25 | 2018-02-21 | 日立金属株式会社 | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58740B2 (ja) * | 1977-12-27 | 1983-01-07 | 住友金属鉱山株式会社 | 希土類元素含有合金から有価金属を分離する方法 |
JPS60145400A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-31 | Nisshin Steel Co Ltd | シアン化銅めつき液再生処理法および装置 |
JPH02209500A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | NiまたはNi合金めっき廃液の再生方法 |
JP2006077271A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Tdk Corp | めっき方法、めっき装置 |
JP5394953B2 (ja) * | 2010-03-08 | 2014-01-22 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | 亜硫酸金めっき液を用いた金めっき方法 |
JP5440569B2 (ja) * | 2011-04-15 | 2014-03-12 | 住友金属鉱山株式会社 | 重希土類元素の回収方法 |
-
2012
- 2012-02-27 JP JP2012039760A patent/JP5835001B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7063436B2 (ja) | 2019-09-06 | 2022-05-09 | Smc株式会社 | 流量コントローラ及びそれを備えた駆動装置 |
JP7089244B2 (ja) | 2019-09-06 | 2022-06-22 | Smc株式会社 | エアシリンダ、ヘッドカバー及びロッドカバー |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013173993A (ja) | 2013-09-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5692400B2 (ja) | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 | |
JP5835001B2 (ja) | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 | |
TWI628287B (zh) | 高純度錫及其製造方法 | |
TW200300804A (en) | Copper electroplating method, pure copper anode for copper electroplating, and semiconductor wafer plated thereby with little particle adhesion | |
JP5715411B2 (ja) | めっき液中から不純物を除去する方法 | |
JP5830242B2 (ja) | めっき液中から不純物を除去する方法 | |
JP6119353B2 (ja) | 電気ニッケルめっき装置 | |
JP6319297B2 (ja) | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 | |
JP6281565B2 (ja) | 電気ニッケルめっき液中の希土類不純物の除去方法 | |
JPH0734300A (ja) | めっき浴の不純物金属イオンの除去方法 | |
JPH0762600A (ja) | めっき浴の不純物金属イオンの連続除去方法およびその装置 | |
JP5937320B2 (ja) | めっき液中から不純物を除去する方法 | |
JP6728906B2 (ja) | 熱交換器のスケール除去方法 | |
JP2017214612A (ja) | 銅の電解精製方法 | |
JP5924278B2 (ja) | 銅の電解精製における電解液の脱15族方法 | |
CN118773477A (zh) | 一种阻垢合金材料及其制备方法和应用 | |
JP2005105309A (ja) | クロムめっき液中の銅不純物除去方法 | |
KR20230159574A (ko) | 황산계 철 전기도금용액의 제2철 이온 제거 방법 | |
JP2012057214A (ja) | 銅合金板への高電流密度Snめっき用硫酸浴及びSnめっき方法 | |
JP2012077337A (ja) | 銀の電解精製方法 | |
Qoriati et al. | Improving Nickel Recovery Through an Integrated Membrane Distillation, Supported Liquid Membrane, and Electrodeposition (Md-Slm-Ed) Process for Electroplating Wastewater | |
JPS58110691A (ja) | Zn−Fe系電気合金メツキ鋼板の製造方法 | |
JP2013040368A (ja) | 鉛電解精製設備の操業方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20130613 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140807 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150310 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150417 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151006 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151019 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5835001 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |