JP5804283B2 - 膜形成材料 - Google Patents
膜形成材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5804283B2 JP5804283B2 JP2012546937A JP2012546937A JP5804283B2 JP 5804283 B2 JP5804283 B2 JP 5804283B2 JP 2012546937 A JP2012546937 A JP 2012546937A JP 2012546937 A JP2012546937 A JP 2012546937A JP 5804283 B2 JP5804283 B2 JP 5804283B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- carbon atoms
- forming material
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 71
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 94
- -1 triazine compound Chemical class 0.000 claims description 72
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 50
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 43
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 40
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 27
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 claims description 20
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 13
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 13
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 12
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 12
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims description 12
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 12
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 12
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 6
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 9
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 7
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical group C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 5
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 5
- 150000002829 nitrogen Chemical group 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical class NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 4
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004147 Sorbitan trioleate Substances 0.000 description 2
- PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N Sorbitan trioleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 2
- YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate Chemical compound COC(=O)C(O)C(C)C YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 235000019337 sorbitan trioleate Nutrition 0.000 description 2
- 229960000391 sorbitan trioleate Drugs 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHNRZXQVBKRYKN-VQHVLOKHSA-N (ne)-n-(1-phenylethylidene)hydroxylamine Chemical compound O\N=C(/C)C1=CC=CC=C1 JHNRZXQVBKRYKN-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluorocyclohexane Chemical compound FC1(F)CCCCC1 ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDDQUXDCKWYPKB-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[4-(oxiran-2-ylmethyl)phenyl]sulfanylphenyl]methyl]oxirane Chemical compound C=1C=C(SC=2C=CC(CC3OC3)=CC=2)C=CC=1CC1CO1 HDDQUXDCKWYPKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGVCWPVMJIEXBL-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CO)OCC BGVCWPVMJIEXBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-pyrazole Chemical compound CC=1C=C(C)NN=1 SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDBDKRLODRWQHL-UHFFFAOYSA-N 4-(oxiran-2-ylmethoxy)benzenethiol Chemical compound C1=CC(S)=CC=C1OCC1OC1 FDBDKRLODRWQHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNPPMOSOWNHABX-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)fluoren-9-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 SNPPMOSOWNHABX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-pyrazole Chemical compound CC1=CC=NN1 XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2-n,2-n-diethylpyrimidine-2,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(N)=CC(Cl)=N1 XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 COc(c(*)c1*)c(*)c(*)c1O Chemical compound COc(c(*)c1*)c(*)c(*)c1O 0.000 description 1
- 229920003275 CYMEL® 325 Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102000001708 Protein Isoforms Human genes 0.000 description 1
- 108010029485 Protein Isoforms Proteins 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N Sorbitan monopalmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N 0.000 description 1
- HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N Sorbitan monostearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- JSKZWIGBDHYSGI-UCSXVCBISA-L disodium;(6r,7r)-7-[[(2e)-2-(2-amino-1,3-thiazol-4-yl)-2-[1-[2-(3,4-dihydroxybenzoyl)hydrazinyl]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]oxyiminoacetyl]amino]-3-[(2-carboxylato-5-methyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidin-7-yl)sulfanylmethyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2. Chemical compound [Na+].[Na+].N([C@H]1[C@@H]2N(C1=O)C(=C(CS2)CSC1=CC(=NC2=NC(=NN21)C([O-])=O)C)C([O-])=O)C(=O)C(\C=1N=C(N)SC=1)=N\OC(C)(C)C(=O)NNC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JSKZWIGBDHYSGI-UCSXVCBISA-L 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012156 elution solvent Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000005027 hydroxyaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007031 hydroxymethylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- VABBJJOSOCPYIT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C(=O)OC VABBJJOSOCPYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKALVNREMFLWAN-UHFFFAOYSA-N n-(4-methylpentan-2-ylidene)hydroxylamine Chemical compound CC(C)CC(C)=NO ZKALVNREMFLWAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N n-benzhydrylidenehydroxylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=NO)C1=CC=CC=C1 DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 1
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001818 polyoxyethylene sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000010989 polyoxyethylene sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001816 polyoxyethylene sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 235000010988 polyoxyethylene sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940035044 sorbitan monolaurate Drugs 0.000 description 1
- 239000001593 sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000011069 sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 229940035049 sorbitan monooleate Drugs 0.000 description 1
- 239000001570 sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 235000011071 sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 229940031953 sorbitan monopalmitate Drugs 0.000 description 1
- 239000001587 sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000011076 sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 229940035048 sorbitan monostearate Drugs 0.000 description 1
- 239000001589 sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 235000011078 sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 229960004129 sorbitan tristearate Drugs 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical group CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02167—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
- H01L31/02168—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G12/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with only compounds containing hydrogen attached to nitrogen
- C08G12/02—Condensation polymers of aldehydes or ketones with only compounds containing hydrogen attached to nitrogen of aldehydes
- C08G12/26—Condensation polymers of aldehydes or ketones with only compounds containing hydrogen attached to nitrogen of aldehydes with heterocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
- C08G18/38—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen
- C08G18/3819—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having nitrogen
- C08G18/3842—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having nitrogen containing heterocyclic rings having at least one nitrogen atom in the ring
- C08G18/3851—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having nitrogen containing heterocyclic rings having at least one nitrogen atom in the ring containing three nitrogen atoms in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/80—Masked polyisocyanates
- C08G18/8061—Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
Description
しかしながら現時点では、太陽電池は高い製造コストに比して発電量は非常に小さく、従来の発電システムと比較すると費用対効果が非常に低い。また太陽電池は、長時間の使用に伴い、太陽光や水蒸気による封止材の黄変、剥離、白抜きやなどの劣化現象が見られる。このため現在、太陽電池に求められる特性として、長寿命化と共に最大出力の向上が重要となっている。
また、最大出力の向上に当たっては、入射光強度の変動に応じて動作点を最適に維持して最大出力を得るようにする最大電力点追従制御(MPPT)が多用されている(非特許文献1)。
第2観点として、前記有機系高分子化合物(A)は、トリアジン骨格又はフルオレン骨格を有する高分子化合物である、第1観点に記載の膜形成材料に関する。
第3観点として、前記有機系高分子化合物(A)は、トリアジン骨格を有する高分子化合物であって、ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物をモノマーとして重合された、重量平均分子量が少なくとも5,000である高分子であって、該トリアジン骨格同士はN−CH2−N基又はN−CH2−O−CH2−N基を介して結合され、高分子末端にヒドロキシメチル基、及び/又はアルコキシメチル基、及び/又はエステル部位を有する化合物である、第2観点に記載の膜形成材料に関する。
第4観点として、前記トリアジン化合物が、メラミン化合物及びベンゾグアナミン化合物からなる群から選択される化合物である、第3観点に記載の膜形成材料に関する。
第5観点として、さらに(B)成分として、ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物、又はヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するウレア化合物を含有する、第4観点に記載の膜形成材料に関する。
第6観点として、前記有機系高分子化合物(A)100質量部に対し、前記成分(B)を10乃至100質量部含有する、第5観点に記載の膜形成材料に関する。
第7観点として、前記有機系高分子化合物(A)は、フルオレン骨格を有する化合物であって、該化合物が芳香族カルド構造を有する、重量平均分子量が少なくとも5,000である高分子であり、該芳香族カルド構造同士がエーテル結合とチオエーテル結合を含む構造を介して結合している化合物である、第2観点に記載の膜形成材料に関する。
第8観点として、前記有機系高分子化合物(A)は、ベンゼン環を少なくとも4つ以上有する化合物である、第7観点に記載の膜形成材料に関する。
第9観点として、前記有機系高分子化合物(A)は、前記芳香族カルド構造に加えて、下記式(1)で表される構造を有する化合物である、第8観点に記載の膜形成材料に関する。
W8は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ホスホニル基又はスルホニル基を表す。)
第10観点として、さらに(C)成分として、ブロックイソシアナート基で置換された化合物を含有する、第9観点に記載の膜形成材料に関する。
第11観点として、前記有機系高分子化合物(A)100質量部に対し、前記化合物(C)を10乃至100質量部含有する、第10観点に記載の膜形成材料に関する。
第12観点として、前記有機系高分子化合物(A)100質量部に対して、更に(D)密着材を10質量部未満の割合で含有する、第6観点に記載の膜形成材料に関する。
第13観点として、前記(D)密着材が下記式(2)で表される化合物である、第12観点に記載の膜形成材料に関する。
W8は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ビニル基、アリル基、チオール基、グリシジル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ホスホニル基又はスルホニル基を表し、
zは、単結合、W9で置換されていてもよい炭素原子数1乃至10のアルキレン基、−C(O)O−、−C(O)NH−、−O−、−S−、−S(O)2−又は−C(O)−を表し、そして
W9は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基又は炭素原子数1乃至10のアルコキシ基を表す。)
第14観点として、前記式(2)で表される化合物において、R11乃至R13が炭素原子数1乃至10のアルコキシ基であり、R14がアミノ基である、第13観点に記載の膜形成材料に関する。
第15観点として、さらに溶剤(E)を含有しワニスの形態にある、第1観点乃至第14観点のうちいずれか一項に記載の膜形成材料に関する。
第16観点として、第1観点乃至第15観点のうちいずれか一項に記載の膜形成材料から作られる硬化膜を透明電極の表面上に被覆してなる太陽電池に関する。
そして本発明の膜形成材料から作られる硬化膜を透明電極の表面上に被覆してなる太陽電池は、その最大出力を向上させることができる。
本発明において、前記有機系高分子化合物(A)として、トリアジン骨格又はフルオレン骨格を有する高分子化合物を用いる。
本発明で用いるトリアジン骨格を有する高分子化合物とは、ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物をモノマーとして重合された、重量平均分子量が少なくとも5,000である高分子化合物である。そして該トリアジン骨格同士は、N−CH2−N基又はN−CH2−O−CH2−O−N基を介して結合され、高分子末端にヒドロキシメチル基、及び/又はアルコキシメチル基、及び/又はエステル部位を有する化合物である。
上記高分子化合物を構成するモノマーとなる、少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物の例として、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換された窒素原子を有するメラミン化合物、及び、ヒドロキシメチルヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換された窒素原子を有するベンゾグアナミン化合物を挙げることができる。
これらヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物及びベンゾグアナミン化合物は、市販品として入手可能である。上記メラミン化合物の例としては、日本サイテックインダストリーズ(株)製 サイメル300、同サイメル303、同サイメル325、同サイメル725、(株)三和ケミカル製 ニカラックMW−30M、同MW−30、同MW−30HM、同ニカラックMW−390、同ニカラックMW−100LM(以上、メトキシメチル化メラミン化合物);日本サイテックインダストリーズ(株)製 サイメル370、同サイメル701(以上、メチル化メトキシメチル化メラミン化合物);同サイメル266、同サイメル285、同サイメル212(以上、メトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン化合物);同サイメル272、同サイメル202(以上、メチル化メトキシメチル化メラミン化合物);同サイメル238(メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン化合物);日本サイテックインダストリーズ(株)製 マイコート506(ブトキシメチル化メラミン化合物)が挙げられる。また、上記ベンゾグアナミン化合物の例としては、日本サイテックインダストリーズ(株)製 サイメル1123(メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物);同サイメル1123−10、同マイコート30(以上、メトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物);同マイコート105、同マイコート106(以上、メトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物);同サイメル1128(ブトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物);同マイコート102(メチル化メトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物)が挙げられる。
この縮合反応に使用される有機溶媒は、例えば、酪酸エチル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、酢酸メチルセルローズ、酢酸エチルセルローズ、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸プロピレングリコールメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールプロピルエーテル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチルエステル、エトキシ酢酸エチルエステル、ヒドロキシ酢酸エチルエステル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、ピルビン酸メチルエステル、酢酸エチル、酢酸ブチルおよび酪酸ブチルである。
また上記縮合反応において、触媒としてp−トルエンスルホン酸、サリチル酸、スルホサリチル酸、クエン酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、メタンスルホン酸、トリフロオロ酢酸、およびトリフロオロメタンスルホン酸などの酸化合物が使用される。触媒を使用する場合、触媒の量はトリアジン化合物および使用された触媒の全量に対し0.001〜50質量%である。縮合反応の反応時間は0.5〜100時間、反応の反応温度は25〜200℃である。これらは使用するトリアジン化合物の種類や、所望の高分子化合物の重量平均分子量などによって適宜選択する。
本発明で用いるフルオレン骨格を有する高分子化合物とは、芳香族カルド構造を有し、重量平均分子量が少なくとも5,000である高分子であって、該芳香族カルド構造同士がエーテル結合とチオエーテル結合を含みて結合している化合物である。
上記芳香族カルド(蝶番)構造とは、9,9−ジアリールフルオレンに代表される構造であって、フルオレンに各種ベンゼン環を結合させることにより、ベンゼン環とフルオレン環が3方向に直交する特殊な立体配置を有する構造を表す。
より好ましくは、前記カルド構造に加えて、下記式(1)で表される構造を有すること、すなわち、前記カルド構造同士が式(1)で表される構造を含む結合を介して連結していることが好ましい。
またW8は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ホスホニル基又はスルホニル基を表す。
ここで用いられる芳香族カルド構造を有する化合物としては、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン化合物が挙げられる。
また、式(1)で表される構造を含む化合物としては、ビス(4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−ブチル−6−メチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−イソブチル−6−メチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−t−ブチル−6−メチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−ブチル−5−メチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−イソブチル−5−メチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−t−ブチル−5−メチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2メチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−エチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、(2−プロピル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、(2−イソプロピル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、(2−ブチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、(2−イソブチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、2−t−ブチル−4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−ブチル−6−メチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−イソブチル−6−メチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−t−ブチル−6−メチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−ブチル−5−メチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−イソブチル−5−メチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−t−ブチル−5−メチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2メチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(2−エチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、(2−プロピル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、(2−イソプロピル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、(2−ブチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、(2−イソブチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、2−t−ブチル−3−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン、ビス(4−(オキシラン−2イルメトキシ)−2,3−ジアミル−フェニル)スルファンなどが挙げられる。
上記縮合反応は、具体的には、例えば9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンと、ビス(4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファンとを、有機溶媒中で有機溶媒中で加熱し、ビス(4−(オキシラン)−2−イルメトキシ)フェニル)スルファンを開環させることにより実施される。
この反応に使用される有機溶媒は、<トリアジン骨格を有する高分子化合物>の製造に用いたものと同じもの、即ち、酪酸エチル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、酢酸メチルセルローズ、酢酸エチルセルローズ、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸プロピレングリコールメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールプロピルエーテル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチルエステル、エトキシ酢酸エチルエステル、ヒドロキシ酢酸エチルエステル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、ピルビン酸メチルエステル、酢酸エチル、酢酸ブチルおよび酪酸ブチルを挙げることができる。
また本反応にあたっては、通常、触媒の存在下に行われ、好ましい触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメチラート等のアルカリ金属アルコラート、N,N−ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の第3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド等の第4級アンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスフィン等の有機リン化合物、塩化リチウム、臭化リチウム等のアルカリ金属塩、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化スズ等のルイス酸などが挙げられる。
本発明において、有機系高分子化合物(A)として上述のトリアジン骨格を有する高分子化合物を使用するとき、架橋剤として(B)成分:ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物、又はヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するウレア化合物をさらに含有し得る。
これらヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物の例としては、前述の<トリアジン骨格を有する高分子化合物>項において、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換された窒素原子を有するメラミン化合物、及びヒドロキシメチルヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換された窒素原子を有するベンゾグアナミン化合物の具体例として挙げた化合物が挙げられる。
また、ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するウレア化合物としての具体例としては、(株)三和ケミカル製 ニカラックMX−270、同ニカラックMX−280、同ニカラックMX−290等が挙げられる。
上記(B)成分は、得られる膜の強度の観点から、前記有機系高分子化合物(A)100質量部に対し、1乃至50質量部の割合で、より好ましくは保存安定性の観点から、1乃至20質量部の割合で使用する。
本発明において、有機系高分子化合物(A)として上述のフルオレン骨格を有する高分子化合物を使用するとき、架橋剤として(C)成分:ブロックイソシアナート基で置換された化合物をさらに含有し得る。この成分は、1分子中二個以上のイソシアネート基を有する化合物に対して適当なブロック剤を作用せしめることにより、得ることができる。
1分子中二個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等、またはそれらの二量体、三量体、或いは、これらとジオール類、トリオール類、ジアミン類、トリアミン類との反応物が挙げられる。
ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−エトキシヘキサノール、2−N,N−ジメチルアミノエタノール、2−エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類、フェノール、o−ニトロフェノール、p−クロロフェノール、o−、m−又はp−クレゾール等のフェノール類、ε−カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類、ピラゾール、3,5−ジメチルピラゾール、3−メチルピラゾール、などのピラゾール類、ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類が挙げられる。
斯かる(C)成分の化合物としては、例えば次の具体例が挙げられる。なお、下記式中のRは有機基を表す。
上記(C)成分は、前記有機系高分子化合物(A)100質量部に対し、10乃至100質量部の割合で、より好ましくは10乃至20質量部の割合で使用する。
本発明において、上記成分に加えて、さらに(D)成分として密着材を含有してもよい。
ここで用いられる密着材としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルジエトキシメチルシラン等が挙げられる。
上記式(2)で表される化合物において、R11乃至R13が炭素原子数1乃至10のアルコキシ基であり、R14がアミノ基である化合物、具体的には3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランを用いることが好ましい。
本発明の膜形成材料には、その他慣用の添加剤、例えば界面活性剤等を添加できる。
前記界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップEF301、EF303、EF352(株式会社ジェムコ(旧(株)トーケムプロダクツ)製)、メガファックF171、F173、R−30(DIC株式会社(旧大日本インキ化学工業(株))製)、フロラードFC430、FC431(住友スリーエム(株)製)、アサヒガードAG710、サーフロンS−382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(旭硝子(株)製)等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)等を挙げることができる。
これらの界面活性剤の配合量は、本発明の膜形成材料の全成分中、通常0.2質量%以下、好ましくは0.1質量%以下である。これらの界面活性剤は単独で添加してもよいし、また2種以上の組合せで添加することもできる。
本発明の膜形成材料は、溶剤を添加して溶解し、ワニスの形態としてもよい。
この時使用される溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、及びγ−ブチロラクトン等を用いることができる。これらの溶剤は単独または2種以上の組合せで使用することができる。
本発明の膜形成材料における固形分は、例えば0.5乃至50質量%、1乃至30質量%、又は1乃至25質量%である。ここで固形分とは膜形成材料の全成分から溶剤成分を除いたものである。
本発明の膜形成材料は、従来提案されている種々のシリコン系太陽電池の材料として適用可能である。
なお太陽電池は、通常、透明電極(表面電極)−光電変換層−裏面電極から構成される太陽電池セルと、それを搭載するパネル材、すなわち、セルモジュールを封止するエチレン酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)などの封止材と、セルモジュール及び封止材を保護する表面ガラス(強化ガラス)及び保護フィルム(バックシート)より構成される。
本発明においては、太陽電池を構成する各構成成分、すなわち、太陽電池セル(裏面電極、光電変換層、透明電極)、封止材、表面ガラス、及び保護フィルム、並びに各種電極保護材料については、これまでに提案されている種々のものを使用可能である。
実際には、本発明の膜形成材料を太陽電池セルの透明電極の表面上に塗布することにより、電極表面被覆膜を形成する。そして強化ガラス−封止材−太陽電池セル(電極表面被覆膜−透明電極−光電変換層−裏面電極)−封止材−バックシートの順に積層し、太陽電池を製造する。
<モノマー・架橋材>
ニカラックMW−390:(株)三和ケミカル製 メラミン系化合物(ヘキサメトキシメチル化メラミン化合物)
サイメル1123:日本サイテックインダストリーズ(株)製 メラミン系化合物(メトキシメチル化ベンゾグアナミン化合物)
ニカラックMX−270:(株)三和ケミカル製 ウレア系化合物
ビス(4−(オキシラン−2−イルメトキシ)フェニル)スルファン
LS−2450:信越化学工業(株)製 3−アミノプロピルジエトキシメチルシラン
<溶剤>
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
HBM:2−ヒドロキシイソ酪酸メチル
NMP:N−メチル−2−ピロリドン
CHN:シクロヘキサノン
EL:乳酸エチル
γ−BL:γ−ブチロラクトン
<界面活性剤>
メガファックR−30:DIC(株)製
Motech社製 125mm角結晶シリコンセル
<封止材>
サンビック(株)製 封止材
<タブ>
丸正(株) 1.5mmPV−ribbon wire
<バックシート>
(株)エムエーパッケージング製 バックシート
<強化ガラス>
(株)新協和製 強化ガラス
以下の合成例に従い得られたポリマーの重量平均分子量(以下Mwと略す)と分子量分布は、日本分光(株)製GPC装置(Shodex(登録商標)カラムKF803L及びKF805L)を用い、溶出溶媒としてジメチルホルムアミドを流量1ml/分でカラム中に(カラム温度:50℃)流して溶離させるという条件で測定した。なお、Mwはポリスチレン換算値にて表される。
(株)ワイディー・メカトロソリューションズ製 スプレー塗布装置を用いてセルの透明電極上に膜形成材料を塗布した。
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)製 高速分光エリプソメーター M−2000を用いて測定した。
モジュールの作製は、(株)エヌ・ピー・シー製 ラミネータ LM−50×50−Sを用いて行った。強化ガラス上に、封止材、セル、封止材、バックシートの順にのせ、130℃20分ラミネートした。
IV測定は、山下電装(株)製のソーラーシミュレータ YSS−150を使用した。25℃中、モジュールに6回光を照射し、得られたIV測定データを平均化した。
<ポリマーA1の合成(トリアジン骨格を有する高分子化合物の合成)>
窒素置換したコンデンサー付三つ口フラスコに、ニカラック MW−390 10.4g(0.027mol)及びサイメル1123 9.64g(0.027mol)を溶解させたPGMEA 80mlを窒素気流中に加え、その後にパラトルエンスルホン酸0.05g(0.0003mol)を加えた。その後、150℃で加熱攪拌し、24時間後に反応を終了させた。得られたポリマーの分子量は12,000であった。また、得られた溶液を200℃で加熱し、残留物から固形分を算出した結果、19.56wt%であった。
窒素置換したコンデンサー付三つ口フラスコに、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン 10.3g(0.029mol)及びビス(4−(オキシラン−2−イルメチル)フェニル)スルファン 9.68g(0.029mol)を溶解させたPGME 80mlを窒素気流中に加え、その後にベンジルトリメチルアンモニウムクロリド0.05g(0.0003mol)を加えた。その後、120℃で加熱攪拌し、24時間後に反応を終了させた。得られたポリマーの重量平均分子量Mwは6,000であった。また、200℃で加熱し、残留物から固形分を算出した結果、19.99wt%であった。
次の表2に示す組成に従い、(A)成分:ポリマー溶液、(B)成分又は(C)成分:架橋剤、(D)成分:密着材、(E)成分:溶剤、及び界面活性剤を表1のように混合し、室温(およそ25℃)で3時間以上攪拌して均一な溶液とすることにより、ワニス状の膜形成材料を得た。
得られた実施例1乃至実施例4のワニス状の膜形成材料を、スプレー装置を用いてセルに塗布し、キュアをした後、モジュール化した。また、比較例として、膜形成材料を塗布していないモジュールも同様に作製した。使用した膜形成材料、キュア条件、並びに膜厚及び屈折率の測定結果を、表2に示す。
なお膜厚測定は、Si基板上に前記セルと同様の条件で塗布とキュアを行った試料に対して、接触式膜厚測定器(Dektak-3)を用いて行った。
また屈折率については、Si基板上にセルと同様の条件で塗布とキュアを行った試料において、633nmにおける屈折率を測定した。
Isc(%)=100×実施例X(Isc値)/比較例(Isc値)
Voc(%)=100×実施例X(Voc値)/比較例(Voc値)
Pmax(%)=100×実施例X(Pmax値)/比較例(Pmax値)
表2に示すように、本発明の膜形成材料を用いることにより、最大出力(Pmax)を1〜3%上昇させることが、実施例5乃至実施例10の結果より明らかとなった。
Claims (13)
- 太陽電池の透明電極上の集光膜を形成する材料であって、
633nmの波長で1.5から2.0の屈折率を有し、且つ400nmの波長の光に対して95%以上の透過率を有する、芳香族基を有する有機系高分子化合物(A)を含む、膜形成材料であり、
該有機系高分子化合物(A)は、トリアジン骨格又はフルオレン骨格を有する高分子化合物であり、
該トリアジン骨格を有する高分子化合物は、ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物をモノマーとして重合された、重量平均分子量が少なくとも5,000である高分子であって、該トリアジン骨格同士はN−CH 2 −N基又はN−CH 2 −O−CH 2 −N基を介して結合され、高分子末端にヒドロキシメチル基、及び/又はアルコキシメチル基、及び/又はエステル部位を有する化合物であり、
該フルオレン骨格を有する高分子化合物は、芳香族カルド構造を有する、重量平均分子量が少なくとも5,000である高分子であり、該芳香族カルド構造同士がエーテル結合とチオエーテル結合を含む構造を介して結合している化合物である、
膜形成材料。 - 前記トリアジン化合物が、メラミン化合物及びベンゾグアナミン化合物からなる群から選択される化合物である、請求項1に記載の膜形成材料。
- さらに(B)成分として、ヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するトリアジン化合物、又はヒドロキシメチル基及び/又はアルコキシメチル基で置換された少なくとも2つの窒素原子を有するウレア化合物を含有する、請求項2に記載の膜形成材料。
- 前記有機系高分子化合物(A)100質量部に対し、前記成分(B)を10乃至100質量部含有する、請求項3に記載の膜形成材料。
- 前記有機系高分子化合物(A)は、ベンゼン環を少なくとも4つ以上有する化合物である、請求項1に記載の膜形成材料。
- 前記有機系高分子化合物(A)は、前記芳香族カルド構造に加えて、下記式(1)で表される構造を有する化合物である、請求項5に記載の膜形成材料。
W8は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ホスホニル基又はスルホニル基を表す。) - さらに(C)成分として、ブロックイソシアナート基で置換された化合物を含有する、請求項6に記載の膜形成材料。
- 前記有機系高分子化合物(A)100質量部に対し、前記化合物(C)を10乃至100質量部含有する、請求項7に記載の膜形成材料。
- 前記有機系高分子化合物(A)100質量部に対して、更に(D)密着材を10質量部未満の割合で含有する、請求項4に記載の膜形成材料。
- 前記(D)密着材が下記式(2)で表される化合物である、請求項9に記載の膜形成材料。
W8は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、ビニル基、アリル基、チオール基、グリシジル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ホスホニル基又はスルホニル基を表し、
zは、単結合、W9で置換されていてもよい炭素原子数1乃至10のアルキレン基、−C(O)O−、−C(O)NH−、−O−、−S−、−S(O)2−又は−C(O)−を表
し、そして
W9は、炭素原子数1乃至10のアルキル基、炭素原子数1乃至10のハロアルキル基又は炭素原子数1乃至10のアルコキシ基を表す。) - 前記式(2)で表される化合物において、R11乃至R13が炭素原子数1乃至10のアルコキシ基であり、R14がアミノ基である、請求項10に記載の膜形成材料。
- さらに溶剤(E)を含有しワニスの形態にある、請求項1乃至請求項11のうちいずれか一項に記載の膜形成材料。
- 請求項1乃至請求項12のうちいずれか一項に記載の膜形成材料から作られる硬化膜を透明電極の表面上に被覆してなる太陽電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012546937A JP5804283B2 (ja) | 2010-12-02 | 2011-12-01 | 膜形成材料 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010269501 | 2010-12-02 | ||
JP2010269501 | 2010-12-02 | ||
PCT/JP2011/077810 WO2012074058A1 (ja) | 2010-12-02 | 2011-12-01 | 膜形成材料 |
JP2012546937A JP5804283B2 (ja) | 2010-12-02 | 2011-12-01 | 膜形成材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012074058A1 JPWO2012074058A1 (ja) | 2014-05-19 |
JP5804283B2 true JP5804283B2 (ja) | 2015-11-04 |
Family
ID=46171983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012546937A Expired - Fee Related JP5804283B2 (ja) | 2010-12-02 | 2011-12-01 | 膜形成材料 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9761741B2 (ja) |
JP (1) | JP5804283B2 (ja) |
CN (2) | CN103339533B (ja) |
TW (1) | TWI529197B (ja) |
WO (1) | WO2012074058A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109659604B (zh) * | 2017-10-12 | 2020-09-01 | 北京大学深圳研究生院 | 一种固体电解质复合材料及其制备方法和应用 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11140147A (ja) * | 1997-11-06 | 1999-05-25 | Tdk Corp | 絶縁性塗膜形成樹脂および電子デバイス |
JP2001267597A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-28 | Sharp Corp | 光電変換素子 |
JP2008168488A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 反射防止導電性フィルム |
JP2010135652A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 太陽電池用面状封止材および太陽電池モジュール |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5633331A (en) * | 1996-05-02 | 1997-05-27 | The Dow Chemical Company | Blends of polysulfone with diaryl fluorene carbonate polymer |
JP3991472B2 (ja) * | 1998-10-05 | 2007-10-17 | Jsr株式会社 | 液状硬化性樹脂組成物 |
JP4437349B2 (ja) | 1999-10-21 | 2010-03-24 | 三井・デュポンポリケミカル株式会社 | 太陽電池封止材料及び太陽電池モジュール |
KR100634927B1 (ko) * | 2002-09-13 | 2006-10-18 | 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 | 포스파젠 조성물 |
JP4410540B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2010-02-03 | 大阪瓦斯株式会社 | フルオレン骨格含有樹脂組成物およびその成形体 |
US20060199928A1 (en) * | 2005-03-07 | 2006-09-07 | Tang Ben Z | Hyber-branched diacetylene polymers and their use in ceramics, photonic devices and coating films |
JP5055830B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2012-10-24 | 日立化成工業株式会社 | ポリヒドロキシポリエーテル樹脂及びこれを用いた樹脂組成物、回路部材接続用接着剤並びに回路板 |
US7666510B2 (en) * | 2005-09-07 | 2010-02-23 | Transitions Optical, Inc. | Optical elements that include curable film-forming compositions containing blocked isocyanate adhesion promoters |
JP5098097B2 (ja) * | 2006-09-13 | 2012-12-12 | 国立大学法人東京工業大学 | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂およびその製造方法 |
KR101039543B1 (ko) * | 2006-09-28 | 2011-06-09 | 후지필름 가부시키가이샤 | 자발광 표시 장치, 자발광 표시 장치의 제조 방법, 투명 도전성 필름, 전계 발광 소자, 태양 전지용 투명 전극 및 전자 페이퍼용 투명 전극 |
KR100955571B1 (ko) * | 2007-01-05 | 2010-04-30 | 주식회사 엘지화학 | 트리아진 구조의 아미노 수지가 혼합된 폴리아릴레이트수지를 포함하는 광학필름용 수지 조성물 및 이를 이용하여제조된 광학필름 |
JP5334253B2 (ja) | 2008-07-03 | 2013-11-06 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 樹脂封止シート、これを用いた太陽電池モジュール及び複合材 |
-
2011
- 2011-12-01 JP JP2012546937A patent/JP5804283B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-01 US US13/990,916 patent/US9761741B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-01 WO PCT/JP2011/077810 patent/WO2012074058A1/ja active Application Filing
- 2011-12-01 CN CN201180066623.3A patent/CN103339533B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-01 CN CN201510459653.0A patent/CN105017952B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-02 TW TW100144406A patent/TWI529197B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11140147A (ja) * | 1997-11-06 | 1999-05-25 | Tdk Corp | 絶縁性塗膜形成樹脂および電子デバイス |
JP2001267597A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-28 | Sharp Corp | 光電変換素子 |
JP2008168488A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 反射防止導電性フィルム |
JP2010135652A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 太陽電池用面状封止材および太陽電池モジュール |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130284262A1 (en) | 2013-10-31 |
JPWO2012074058A1 (ja) | 2014-05-19 |
US9761741B2 (en) | 2017-09-12 |
CN105017952A (zh) | 2015-11-04 |
CN103339533A (zh) | 2013-10-02 |
WO2012074058A1 (ja) | 2012-06-07 |
TWI529197B (zh) | 2016-04-11 |
TW201302849A (zh) | 2013-01-16 |
CN103339533B (zh) | 2016-01-20 |
CN105017952B (zh) | 2017-08-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10174164B2 (en) | Triazine ring-containing polymer and composition for film formation comprising same | |
KR101851671B1 (ko) | 막 형성용 조성물 | |
KR102556198B1 (ko) | 박리층 형성용 조성물 및 박리층 | |
KR20180037327A (ko) | 트리아진환 함유 중합체 및 그것을 함유하는 막 형성용 조성물 | |
CN107674201A (zh) | 含三嗪环的聚合物和含有其的成膜组合物 | |
TW202132410A (zh) | 含有三嗪環之聚合物及含有其之膜形成用組成物 | |
JP5804283B2 (ja) | 膜形成材料 | |
JP5783384B2 (ja) | 膜形成材料 | |
JP5423013B2 (ja) | プラスチックシート | |
JP5718777B2 (ja) | 熱硬化性白色インク組成物 | |
JP5880891B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
US12044969B2 (en) | Resist underlayer film-forming composition | |
WO2021149705A1 (ja) | アルカリガラス用剥離層形成用組成物及び剥離層 | |
CN117279979A (zh) | 含三嗪环的聚合物以及含有其的膜形成用组合物 | |
CN117279998A (zh) | 无溶剂型组合物 | |
CN117625100A (zh) | 粘合剂组合物及膜状密封材料 | |
JPWO2020158521A1 (ja) | スリットダイコート用剥離層形成用組成物及び剥離層 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150701 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150805 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150818 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |