JP5803025B2 - フォトクロミック分子 - Google Patents
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Description
50%の過酸化水素水2ml加え、15分間撹拌させた。室温に戻した後反応溶液を250mlの水に入れ、吸引ろ過、さらに蒸留水で数回洗った。この粉末を真空引きし、白い粉末を得た。
mg, 0.630mmol), H5IO6(40mg, 0.175mmol)を入れ室温で3時間撹拌させた。反応溶液を200mlの水で薄めた後にチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水、炭酸ナトリウムで処理し、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で単離し、目的化合物(IIa)を
得た。
1H NMR(400MHz, CDCl3): ・δ・2.00 (s.3H), 2.16 (s.3H), 6.79 (dd, J= 8Hz, J=
16Hz, 2H), 7.75 - 795 (dd, 2H), 7.69-7.78 (m, 2H),
MS m/z = 784 [M]+
同様の方法を用いてIVaを合成した。
(m. 4H), 6.78-6.84, 6.89-6.95 (d, J= 8Hz, 2H), 7.76-7.81, 7.93-7.98 (dd, J= 1.6Hz, J= 8Hz, 2H), 7.99-8.03, 8.05-8.09 (d, J= 1.6Hz, 2H)
MS m/z = 812 [M]+
〔合成例2〕
混合した後に、フェニルボロン酸(47.3 mg, 0.388mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(30 mg, 0.033mmol)、トリシクロヘキシルホスフィン(0.1 ml, 0.06 mmol)を加え、80℃で1時間還流させた。反応液を室温に戻した後、希塩酸、飽和食塩水で処理し、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)を行い、目的化合物(Va)を
得た。収量:123 mg (収率:94%)
MS m/z= 712 [M] +
〔合成例3〕
混合した後に、4-ホルミルフェニルボロン酸(97 mg, 0.647mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(40 mg, 0.044mmol)、トリシクロヘキシルホスフィン(0.1 ml, 0.06 mmol)を加え、80℃で1時間還流させた。反応液を室温に戻した後、希塩酸、飽和食塩水で処理し、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)を行い、目的化合物(VIa)を得た。
収量:226 mg(収率:95%)
MS m/z= 768 [M]+
〔合成例4〕
混合した後に、4-アセチルフェニルボロン酸(63.6 mg, 0.388mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(40 mg, 0.044mmol)、トリシクロヘキシルホスフィン(0.1 ml, 0.06 mmol)を加え、80℃で1時間還流させた。反応液を室温に戻した後、希塩酸、飽和食塩水で処理し、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)を行い、目的化合物(VIIa)を得た。
収量:138 mg(収率:94%)
MS m/z= 796 [M] +
〔合成例5〕
MS m/z= 752 [M] +
〔合成例6〕
MS m/z= 692 [M] +
〔合成例7〕
混合した後に、4アセチルフェニルボロン酸(22.2 mg, 0.135mmol)、5-メチル-2-チオフェンボロン酸(19.2 mg, 0.135mmol) 、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(15 mg, 0.016mmol)、トリシクロヘキシルホスフィン(0.05 ml, 0.03 mmol)を加え室温で20分撹拌させた。反応液を室温に戻した後、希塩酸、飽和食塩水で処理し、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)を行い、目的化合物(Xa)を得た。収量:69mg
(収率:33%)
MS m/z= 774 [M] +
〔合成例8〕
れにトリフェニルホスフィノメチルベンゼン(226 mg, 0.52mmol)及びカリウムtert-ブトキシドを入れ、室温で24時間撹拌させた。希塩酸、飽和食塩水で処理し、クロロホルムで抽出した。有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)を行い、目的化合物(XIa)を得た。収量:102mg (収率:43%)
〔合成例9−1〕
却した後、1.6 M n-BuLiヘキサン溶液(1.4 mL ; 2.2 mmol)をゆっくり滴下し、30分撹拌させた。続けてB(OBu)3を約0.6 ml滴下ロートを用いて滴下した。1時間 -70℃以下に保ち反応させた後、Na2CO3 20%水溶液200 ml、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム触媒を1.2 g、(XIIIa)(800 mg ; 0.9 mmol)を加え、約40時
間還流した。NaCl飽和水溶液で処理し、ジエチルエーテルで抽出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン:酢酸エチル=8:2)で単離し、目的化合物(XIVa)を得た。収量:417mg (収率:51%)
MS m/z= 740 [M] +
〔合成例9−2〕
ロロ過安息香酸(MCPBA)200 gを合計三回混合した。反応溶液をNa2SO4飽和水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶液、少量の炭酸水素ナトリウムで処理し、酢酸エチルで抽出した。カラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:5)を行い、目的化合物(XVa)を得た。収量:30mg (収率:28%)
MS m/z= 803 [M] +
1H NMR(400MHz, CDCl3): ・λ・1.91 (s. 6H), 3.60 (s. 6H), 5.28 (s. 4H), 7.19
(d, J= 8.8, 2H) , 7.66 (d, J= 8.8, 2H) , 7.96 ~ 8.04 (m, 2H) , 8.13 ~ 8.22 (m, 2H) , 8.24 ~ 8.33 (m, 2H)
〔合成例9−3〕
加え、3h還流した。水、飽和食塩水溶液で処理し、ジエチルエーテルで抽出した。エバポレーターで溶媒を除去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で単離し、目的化合物(XVIa)を得た。収量:12mg (
収率:96%)
1H NMR(400MHz, CDCl3): ・λ・1.89 (s. 6H), 5.31 (b. 2H), 7.99 (d, J= 8.8, 4
H), 7.62 (d, J= 8.8, 4H) , 8.00 (dd, J= 1.6J= 4.4, 2H), 8.13 (d, J= 1.6, 2H) , 8.13 (d, J= 1.6, 2H) , 8.25 (d, J= 4.4, 2H)
MS m/z = 714 [M]+
〔合成例10〕
た。これにNaBH4(40 mg, 1.05 mmol)を加え、1時間撹拌させた。反応後、希塩酸、飽和食塩水で処理し、クロロホルムで抽出した。有機層を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン:酢酸エチル=2:8)を行い、目的化合物(XVIIa)を
得た。収量:26mg (収率:39%)
MS m/z = 772 [M]+
<実施例1>
上記合成例により得られた化合物の閉環体の蛍光量子収率をジオキサン中で測定した。吸収極大波長および蛍光量子収率を以下に示す。いずれも0.6以上の値が得られた。
化合物(Va)は、図1に示すように紫外光(365 nm)の照射により、光照射前には吸収
の存在していない可視部(〜450 nm)に閉環体に由来する新しい吸収が現れた。なお同図における光照射時間は、それぞれ、5秒、10秒、15秒、20秒、25秒、30秒そして35秒としている。図2に示すようにこの吸収位置の波長の光を照射すると、λ> 500 nm 波長の位置に強い蛍光が現れた。蛍光強度は、450 nm 付近の吸収の増加に伴い増大した。450 nm 付近の吸収帯は、λ> 450 nm の光を長時間照射すると徐々に退色し、消滅することが認められた。それとともに、蛍光も減少した。すなわち、紫外光(365 nm)と可視光(λ> 450 nm)の交互照射により、450 nm付近の吸収帯が生成/消滅し、蛍光も同様の(オン/オフ)スイッチ挙動を示すことが確認された。
(VIIIa)、(IXa)、(Xa) 、(XVIa)、(XVIIa)においても認められた。化合物(XI
a)は450 nm の光照射による有意な退色を示さなかった。
Claims (2)
- 一般式(6a)、(8a)で表されるジアリールエテン系化合物よりなり、閉環体の蛍光量子収率が0.5以上であるフォトクロミック分子
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