WO2015147126A1 - ペンタアリールビイミダゾール化合物および該化合物の製造方法 - Google Patents

ペンタアリールビイミダゾール化合物および該化合物の製造方法 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a pentaarylbiimidazole compound and a method for producing the compound. More specifically, a pentaarylbiimidazole compound that has both high-speed color-decoloring properties and high durability, can be produced at low cost, and can precisely control color tone and density, and The present invention relates to a method for producing the compound having a high degree of freedom in molecular design and synthesis.
  • HABI hexaarylbisimidazole
  • Non-patent document 1 diarylethene
  • spirooxazine pattern 2
  • Patent Document 3 Since compounds exhibit reversible coloring when irradiated with light, research aimed at application to light-modulating materials (Patent Document 3) and optical recording materials (Patent Documents 4 and 5) has been actively conducted. .
  • a photochromic compound is a P-type photochromic compound that is isomerized by light irradiation and then reversibly returns to its original structure by irradiation with light of different wavelengths. After isomerization by light irradiation, a thermal reaction causes several hours to several minutes.
  • a T-type photochromic compound is known that reversibly returns to its original structure.
  • these conventional photochromic compounds have a problem that the decoloring reaction takes at least several minutes to several seconds in order to move between isomers having different structures.
  • two triarylimidazolyl radicals generated by the cleavage of the carbon-nitrogen bond diffuse into the medium, and it takes time for the radicals to recombine. There are problems such as poor stability over time.
  • Non-patent document 2 the synthesis of a molecule (1-NDPI-8-TPI-naphthalene) in which two molecules of triarylimidazolyl radical are introduced at the 1- and 8-positions of naphthalene has been reported ( Non-patent document 2).
  • the colored body which is a stabilized radical species, deteriorates due to a hydrogen abstraction reaction from the surrounding medium.
  • Patent Document 9 synthesis of pseudogem-bisDPI [2.2] paracyclophane in which a triarylimidazolyl radical is introduced into paracyclophane has been reported (Patent Document 9).
  • TAIR triarylimidazolyl radicals
  • Patent Literature 1 JP 2005-325087 A Patent Literature 2: JP 2005-266608 A Patent Literature 3: JP 2005-215640 A Patent Literature 4: JP 2000-112074 Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-245579 Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-089789 Patent Document 7: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-309442 Patent Document 8: Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-292573 Patent Document 9: International Patent Publication 2010/061579 Patent Document 10: JP 2012-201665 A Non-Patent Document Non-Patent Document 1: Hayashi, T .; Maeda, K., Bull. Chem. Soc.
  • Non-Patent Document 2 Fujita, K .; Hatano, S .; Kato, D .; Abe, J., Org. Lett. 2008, 10, 3105-3108.
  • the present inventors have introduced a diarylimidazolyl radical at the ortho position of the aryl group, whereby the compound has photochromic properties, and further has high-speed extinction. It has been found that it has color reaction and high durability. As a result, it has also been found that it can be synthesized with a small number of manufacturing steps and inexpensive raw materials. As a result of further research, the present invention has been completed.
  • One or more substituents selected from the above, and the substituent of the aryl group does not form an aliphatic ring or an aromatic ring together with the bonded carbon atom and other substituents, or And a compound having no or having a substituent having the same meaning as the substituent of the aryl group on the ring.
  • the substituents R A to RE are one or more substituents selected from hydrogen, methyl group, methoxy group, nitro group and cyano group About.
  • h ⁇ ⁇ means that the compound of the present invention shifts to a radical species that is a color former having a high energy level by absorption of energy such as ultraviolet light.
  • ⁇ ⁇ means that the radical species absorbs heat energy and reversibly transfers to the original imidazole dimer having a low energy level.
  • the compounds of the present invention are characterized in that two diarylimidazolyl radicals are bonded at the ortho position of the aryl group.
  • Introducing two diarylimidazoles into adjacent sites as in the compound according to the present invention has a difficulty in synthesis (such as two diarylimidazoles produced by-products cannot be introduced) Actually, it has two diarylimidazoles like the compounds shown in Non-Patent Document 1, Patent Document 9, and Patent Document 10, but two diarylimidazoles are introduced at relatively distant sites in the molecule. It had been.
  • two diarylimidazoles can be introduced at the ortho position of the aryl group, and further, one diarylimidazole is introduced in the system and then another identical or different diarylimidazole is introduced. It is possible to realize a one-pot reaction.
  • the compound of the present invention has both high-speed color-decoloring properties and high durability and high-speed color-decoloring properties as compared to conventional photochromic compounds. Furthermore, it discovered that it could synthesize
  • a further object is to provide a photochromic compound that can be synthesized at low cost and can be more industrially used. Therefore, the compound of the present invention can be expected to be applied in a wide range of fields such as security ink, hologram material, light control material, and optical switch element.
  • the time-resolved visible and near-infrared absorption spectrum of the color former of the compound of Example 6 measured by nanosecond laser flash photolysis. The spectrum was measured at intervals of 1.6 ⁇ s after irradiation with nanosecond laser pulses.
  • Absorption time decay of the chromophore at 710 nm in the first and 13000th laser irradiation of the compound of Example 6 by nanosecond laser flash photolysis measurement The ultraviolet-visible absorption spectrum of the compound of Example 6 before laser irradiation and after 13,000 laser irradiations.
  • Absorption time decay of the chromophore at 710 nm in the first and 13000th laser irradiation of the compound of Example 10 by nanosecond laser flash photolysis measurement The ultraviolet and visible absorption spectrum of the compound of Example 10 before laser irradiation and after 13,000 laser irradiations.
  • the time-resolved visible / near-infrared absorption spectrum of the chromophore of the compound of Example 13 measured by nanosecond laser flash photolysis. The spectrum was measured at intervals of 0.8 ⁇ s after irradiation with nanosecond laser pulses.
  • the compound of the present invention is represented by the general formula (1).
  • carbon atoms not bonded to the imidazole ring may have substituents R A to R E independently of each other, and the subscript m is an integer of 1 to 4 Subscripts n to q are integers of 1 to 5 independently of each other.
  • the substituents R A may be the same or different independently from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a hydroxyl group, a thiol group, an amino group, diphenyl Amino group and carbazole group, linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, linear or branched alkylamino group having 1 to 20 carbon atoms, and linear chain having 1 to 20 carbon atoms And branched alkoxyl groups, as well as —Y 1 —SiZ 1 Z 2 Z 3 groups, —Y 1 —SiY 2 Z 1 Z 2 groups and —Y 1 —SiY 2 Y 3 Z 1 groups (where Y 1 to Y 3 and Z 1 to Z 3 may be the same or different independently from each other, and Y1 to Y3 are each a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms
  • the substituents R B to R E may be the same or different independently from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a hydroxyl group, a thiol group.
  • the structure of one diarylimidazole moiety and the other diarylimidazole moiety in the general formula (1) may be the same or different.
  • the molecular structure is optimally designed according to the use of the compound of the present invention, and It is possible to control the photochromic characteristics such as the density and the density more precisely.
  • the substituents R A to R E introduced for the purpose of precise control of photochromic properties are preferably an electron donating group such as hydrogen, methyl group, methoxy group, nitro group, etc. from the viewpoint of color tone / response speed control.
  • the polymerizable substituents R B to R E in this case are preferably a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an isocyanate group, a halogen group, an azide group, a vinyl group, an ethynyl group, and the following partial structural formula ( iv) Substituents selected from acrylic acid or methacrylic acid esters such as butyl methacrylate, butyl acrylate, and propoxy methacrylate, and the like, more preferably selected from hydroxyl, butyl methacrylate, and the like The substituent which can be mentioned is mentioned. You may substitute using these substituents 1 type (s) or 2 or more types.
  • substituents R A to R E possessed by the aryl group of the compound of the present invention the substituents introduced for the purpose of precise control of the photochromic properties and the functions contained in the main chain or side chain of the polymer compound
  • the substituents R X1 to R X4 other than the substituent used for the polymerization with a group and the like and the substituents R X1 to R X4 possessed by the bridging group are preferably a hydrogen atom, a linear or branched group having 1 to 20 carbon atoms It is selected from an alkyl group and the like, more preferably selected from a hydrogen atom and a methyl group. You may substitute using these substituents 1 type (s) or 2 or more types.
  • the substituent includes a carbon atom to which the substituent is bonded, a carbon atom to which the other substituent and the other substituent are bonded, and a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, etc. May form a heterocyclic ring such as a pyridine ring, a pyrrole ring, a furan ring or a thiophene ring, or an alicyclic ring [J12] such as a cyclopentane ring or a cyclohexane ring, and further the above aryl on the ring. You may have a substituent which has the same meaning as the substituent which group etc. have.
  • the polymer compound of the present invention has the following partial structural formula (ii) on the main chain and / or side chain. And / or the following partial structural formula (iii): It is a high molecular compound which has a repeating structural unit represented by these.
  • B is one or more linking groups selected from the group consisting of carbon, nitrogen and oxygen atoms
  • F is a derivative of the compound of the present invention
  • FB is Represents a bond between the linking group and one or two substituents selected from the substituents RC to RF of the derivative of the compound, wherein ⁇ , ⁇ , ⁇ , ⁇ and ⁇ are each independently one or more A repeating structural unit represented by an integer is exemplified.
  • Polymerizable substituents such as one or two hydroxyl groups selected from the substituents R C to R F of the compound of the present invention, and one or two contained in the polymer main chain or side chain of the polymer compound It is possible to introduce the compound of the present invention into a polymer compound as a functional site by condensation polymerization with a polymerizable linking group such as a carboxyl group.
  • photochromic material containing the compound, solvent and resin include security ink, hologram material, light control material, optical switch element and the like.
  • the compound of the present invention is a photochromic compound characterized by a particularly high-speed decoloring characteristic, and can also realize a photochromic characteristic that is visually decolored simultaneously with the stop of light irradiation.
  • the decoloration rate of the compound of the present invention is measured, for example, by measuring a solution using benzene as a solvent (concentration: 3.1 ⁇ 10 ⁇ 4 M) by a nanosecond laser flash photolysis method described later.
  • the half-life is preferably 1 to 2000 ⁇ s, more preferably 1 to 1000 ⁇ s, and still more preferably 1 to 500 ⁇ s.
  • the method for producing the compound of the present invention comprises the following general formula (2): (2)
  • the o-halobenzaldehyde represented by the following general formula (3) is obtained by protecting the aldehyde moiety and then derivatizing the o-position with an aldehyde.
  • a benzyl derivative containing a 1,2-diketone is reacted.
  • the substituent R A and the subscript m have the same meaning as the substituent R A and the subscript m defined in the general formula (1) and the like, respectively.
  • the substituents R B to R E and the subscripts n to q are the substituents R B to R E defined in the general formula (1) and the like, respectively. Has the same meaning as the subscripts n to q.
  • FIG. 2 shows a nanosecond ultraviolet laser (pulse width) with a wavelength of 355 nm in a benzene solution of 2,3,4 ′, 5′-tetraphenylspiro [imidazo [2,1- ⁇ ] isoindole-5,2′-imidazole].
  • FIG. 4 shows the measurement results of the time decay of absorbance at 710 nm after the first nanosecond ultraviolet laser irradiation and after 13,000 irradiations.
  • FIG. 8 shows the measurement results of the time decay of absorbance at 710 nm after the first nanosecond ultraviolet laser irradiation and after 13000 irradiation.
  • the crude product was obtained by neutralizing with aqueous ammonia, extracting with chloroform, drying the organic layer with sodium sulfate, and distilling off the solvent under reduced pressure. Recrystallization from a mixed solvent of chloroform / hexane gave 138 mg (0.240 mmol) of 1,2-bis (4,5-diphenyl-1H-imidazol-2-yl) -4,5-dimethoxybenzene in a yield of 49%. Got in.
  • FIG. 10 shows a nanoparticle having a wavelength of 355 nm in a benzene solution of 7,8-dimethoxy-2,3,4 ′, 5′-tetraphenylspiro [imidazo [2,1- ⁇ ] isoindole-5,2′-imidazole].
  • FIG. 11 also shows a wavelength of 355 nm in a benzene solution of 7,8-dimethoxy-2,3,4 ′, 5′-tetraphenylspiro [imidazo [2,1- ⁇ ] isoindole-5,2′-imidazole].
  • the measurement results of the time decay of the absorption band of 710 nm appearing simultaneously with irradiation of a nanosecond ultraviolet laser (pulse width: 5 ns, output: 4 mJ) are shown.
  • FIG. 13 shows the first nanosecond ultraviolet laser irradiation and 7,8-dimethoxy-2,3,4 ′, 5′-tetraphenylspiro [imidazo [2,1- ⁇ ] isoindole- after 13000 irradiation. 5,2′-imidazole] shows an ultraviolet / visible absorption spectrum. It can also be seen that the ultraviolet / visible absorption spectrum does not change between the first irradiation of the nanosecond ultraviolet laser and after the irradiation of 13,000 times.
  • FIG. 15 also shows the wavelength of a 4 ', 5'-bis (4-methoxyphenyl) -2,3-diphenylspiro [imidazo [2,1-a] isoindole-5,2'-imidazole] solution in benzene.
  • damping of the 710 nm absorption band which appears simultaneously with irradiating a 355 nm nanosecond ultraviolet laser (pulse width: 5 ns, output: 4 mJ) is shown.
  • FIG. 16 shows the measurement results of the time decay of absorbance at 710 nm after the first nanosecond ultraviolet laser irradiation and after 13,000 irradiations.
  • a PMMA thin film containing 2,3,4 ′, 5′-tetraphenylspiro [imidazo [2,1- ⁇ ] isoindole-5,2′-imidazole] was prepared by casting using this solution.
  • the nanosecond laser flash photolysis measurement of this thin film was performed at 25 degreeC.
  • the pentaarylbiimidazole compound of the present invention and the method for producing the compound are excellent photochromic compounds and methods for producing the same, in a wide range of fields such as security inks, hologram materials, light control materials, and optical switch elements, particularly industrially. Is highly available.

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Abstract

従来のフォトクロミック化合物は、発消色速度・耐久性の観点から十分とはいえない、製造工程数が多いといった問題があった。本発明では、高速な発消色反応と高い耐久性を併せ持ち、さらには低コストで合成できることをも実現し、工業的に利用可能なフォトクロミック化合物を提供する。 本発明の化合物は、ジアリールイミダゾリルラジカルをアリール基のオルト位に導入することが特徴であり、当該化合物がフォトクロミック特性を有すること、また、高速な発消色反応と高い耐久性を併せ持つフォトクロミック化合物を実現する。さらには、低コストで合成できることをも実現し、工業的利用がより可能なフォトクロミック化合物を提供する。

Description

ペンタアリールビイミダゾール化合物および該化合物の製造方法
本発明は、ペンタアリールビイミダゾール化合物および該化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、高速な発消色特性と高い耐久性を併せ持ち、また、安価に製造することが可能であり、さらには発色の色調および濃度の精密制御が可能となる、ペンタアリールビイミダゾール化合物および分子設計と合成の自由度が高い該化合物の製造方法に関する。
フォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物として、ヘキサアリールビスイミダゾール(以下、「HABI」ともいう)(非特許文献1)、ジアリールエテン(特許文献1)、スピロオキサジン(特許文献2)などが知られており、これらの化合物は、光照射によって可逆な着色を示すことから、調光材料への応用(特許文献3)や光記録材料への応用(特許文献4および5)を目指した研究が盛んに行われている。
ヘキサアリールビスイミダゾール(HABI)は、紫外光照射により、反応性の高いラジカル種であるトリアリールイミダゾリルラジカル(以下、「TAIR」ともいう)を生成することから、従来、光重合開始剤として幅広く利用されてきた(特許文献6~8)。
フォトクロミック化合物には、光照射によって異性化後、波長の異なる光を照射することで元の構造へと可逆的に戻るP型フォトクロミック化合物、光照射によって異性化後、熱反応によって数時間から数分かけて元の構造へと可逆的に戻るT型フォトクロミック化合物が知られている。
しかし、これら従来のフォトクロミック化合物は、構造の異なる異性体間を行き来するために、消色反応に少なくとも数分から数秒の時間を要するという問題点があった。また、HABIでは、炭素-窒素結合が開裂して生成する2つのトリアリールイミダゾリルラジカルが媒体中に拡散して、ラジカルの再結合に時間がかかるため、消色反応速度が遅く、また繰り返し耐久性などの経時安定性に劣るなどの問題点を有していた。
 この問題を解決するための一つの試みとして、2分子のトリアリールイミダゾリルラジカルをナフタレンの1位と8位に導入した分子(1-NDPI-8-TPI-ナフタレン)の合成が報告されている(非特許文献2)。これは、専ら2つのナフタレン骨格とイミダゾリルラジカルが共役して共鳴構造をとることにより発色体を安定化してラジカルの拡散を抑制するものであり、消色速度の観点からなお十分とはいえない面があるばかりでなく、安定化されたラジカル種である発色体が周囲の媒体から水素引き抜き反応を起こして劣化するという重大な問題点を有していた。
 さらなる問題を解決する手段として、トリアリールイミダゾリルラジカルをパラシクロファンに導入されたpseudogem-bisDPI[2.2]パラシクロファンの合成が報告されている(特許文献9)。これは、2つのトリアリールイミダゾリルラジカル(TAIR)を、TAIRと共役しない架橋基によって束縛することにより、熱安定性と経時安定性に優れ、高速な発消色反応と高い発色濃度を実現したものであるが、未だ、用途によっては、発消色速度・耐久性の観点から十分といえるものではなかった。
 また、製造工程数が多いことや[2.2]パラシクロファンが高価であることから製造コストを要し、工業的な利用という観点において問題を有していた。
 その他、可視光領域の光源の照射により発色し、発色濃度や消色速度を制御した共役架橋基による2つのトリアリールイミダゾリルラジカル(TAIR)の合成も報告されている(特許文献10)。これは、幅広い可視光領域の光源にて高い発色濃度を実現したものであるが、上記pseudogem-bisDPI[2.2]パラシクロファンと同様に、発消色速度・耐久性の観点から十分とはいえない、製造工程数が多いといった問題を有していた。
先行技術文献
特許文献
特許文献1:特開2005-325087号公報
特許文献2:特開2005-266608号公報
特許文献3:特開2005-215640号公報
特許文献4:特開2000-112074号公報
特許文献5:特開平08-245579号公報
特許文献6:特開2008-089789号公報
特許文献7:特開2005-309442号公報
特許文献8:特開平08-292573号公報
特許文献9:国際特許公開2010/061579
特許文献10:特開2012-201655号公報
非特許文献
非特許文献1:Hayashi,T.;Maeda,K.,Bull.Chem.Soc.Jpn.1960,33,565-566.
非特許文献2:Fujita,K.;Hatano,S.;Kato,D.;Abe,J.,Org.Lett.2008,10,3105-3108.
 したがって本発明は上記の問題点を解消し、高速な発消色反応と高い耐久性を併せ持ち、さらには低コストで合成できることをも実現し、工業的に利用可能なフォトクロミック化合物を提供することを目的とする。
 本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねる中で、ジアリールイミダゾリルラジカルを、アリール基のオルト位に導入することで、当該化合物がフォトクロミック特性を有すること、さらには高速な発消色反応と高い耐久性を有することを見出した。
 これにより、少ない製造工程数かつ低廉な原料で合成できることをも見出した。そしてさらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
 すなわち、本発明は、
[1] 下記一般式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
(1)
式中、5個のアリール基は、置換基R~Rを有しないまたは有し、mは1~4の整数であり、n~qは、それぞれ互いに独立して1~5の整数であり、置換基Rは、互いに独立して同一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基、ジフェニルアミノ基およびカルバゾール基、ならびに炭素数1~20の直鎖状または分枝状の、アルキル基、アルキルアミノ基およびアルコキシ基、ならびに-Y-SiZ基、-Y-SiY基および-Y-SiY基(ここで、Y~YおよびZ~Zは、互いに独立して同一または異なり、Y~Yは、炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキル基またはアルキレン基を表し、Z~Zは、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1~8の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基を表す)、互いに結合して環を形成した芳香環、複素環、脂環式環からなる群より選ばれる1種または2種以上の置換基であり、置換基R~Rは、互いに独立して同一または異なり、前記置換基Rと同一の意味を有する置換基、ならびに下記部分構造式(i)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
(ここで、Ri1は、炭素数1~4のアルキレン基またはアルコキシレン基を表し、Ri2は、水素または炭素数1~3のアルキル基を表す)で表される置換基、からなる群より選ばれる1種または2種以上の置換基であり、前記アリール基が有する置換基は、結合している炭素原子および他の置換基と一体となって脂肪族環または芳香環を形成しないまたは形成し、該環上にさらに前記アリール基の有する置換基と同一の意味を有する置換基を有しないまたは有する、で表される化合物に関する。
[2] 一方のジアリールイミダゾール部位と、他方のジアリールイミダゾール部位との構造が異なり非対称である、[1]に記載の化合物に関する。
[3] 置換基R~REが、水素、メチル基、メトキシ基、ニトロ基およびシアノ基から選ばれる1種または2種以上の置換基である、[1]または[2]に記載の化合物に関する。
[4] [1]~[3]のいずれかに記載の化合物を含有するフォトクロミック材料に関する。
[5] [1]~[3]のいずれかに記載の化合物を含有する溶媒に関する。
[6] [1]~[3]のいずれかに記載の化合物を含有する樹脂。
[7] [1]~[3]のいずれかに記載の化合物の製造方法であって、下記一般式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
(2)
(ここで、式中のアリール基は、置換基Rを有しないまたは有し、mは、1~4の整数であり、置換基Rは互いに独立して同一または異なり、それぞれ一般式(1)における置換基Rと同一の意味を有する)で表わされる化合物と、下記一般式(3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
(3)
(ここで、式中2個のアリール基は、置換基RBおよびRCを有しないまたは有し、nおよびoはそれぞれ互いに独立して1~5の整数であり、置換基RおよびRは、互いに独立して同一または異なり、それぞれ一般式(1)における置換基RおよびRと同一の意味を有する)および/または下記一般式(4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(4)
(ここで、式中2個のアリール基は、置換基RおよびRを有しないまたは有し、pおよびqはそれぞれ互いに独立して1~5の整数であり、置換基RおよびRは、互いに独立して同一または異なり、それぞれ一般式(1)における置換基RおよびRと同一の意味を有する)で表される1,2-ジケトンを含む任意のベンジル誘導体とを反応させる、前記製造方法に関する。
 なお、前記一般式(2)において、「hν→」は、本発明の化合物が紫外光などのエネルギーの吸収により、エネルギー準位の高い発色体であるラジカル種へ移行することを意味し、「←Δ」は、該ラジカル種が熱エネルギーを吸収して、エネルギー準位の低い元のイミダゾール二量体に可逆的に移行することを意味する。
 本発明の化合物は、2つのジアリールイミダゾリルラジカルがアリール基のオルト位で結合していることを特徴とする。
 本発明にかかる化合物のように2つのジアリールイミダゾールを近接する部位に導入することは、合成上の困難性(副生成物が生成する、2つのジアリールイミダゾールが導入できないなど)を有しており、現に上記非特許文献1、特許文献9、特許文献10に示されている化合物のように、2つのジアリールイミダゾールを有するものであるが、分子内の比較的離れた部位に2つのジアリールイミダゾールが導入されていた。
 本発明にかかる製造方法により、アリール基のオルト位に2つのジアリールイミダゾールを導入することができること、さらには、系中で1つのジアリールイミダゾールを導入した後もう1つの同一または異なるジアリールイミダゾールを導入するというワンポットの反応をも実現可能としたものである。
 本発明の化合物が、従来のフォトクロミック化合物と比較して、高速な発消色特性と高い耐久性を併せ高速な発消色特性を併せ持つことを見出したものである。さらには、少ない製造工程数かつ低廉な原料で合成できることを見出した。そしてさらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。さらには低コストで合成できることをも実現し、工業的利用がより可能なフォトクロミック化合物を提供することを目的とする。
 したがって、本発明の化合物は、セキュリティーインク、ホログラム材料、調光材料、光スイッチ素子などの広い分野に応用が期待できるものである。
単結晶X線構造解析によって明らかにした、実施例3の2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の分子構造。 実施例3の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の時間分解可視・近赤外吸収スペクトル。スペクトルはナノ秒レーザーパルスを照射後から0.8μs間隔で測定。 実施例3の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。 実施例3の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、レーザー照射1回目と13000回目における発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。 実施例3の化合物の、レーザー照射前とレーザー照射13000回後の紫外・可視吸収スペクトル。 実施例6の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の時間分解可視・近赤外吸収スペクトル。スペクトルはナノ秒レーザーパルスを照射後から1.6μs間隔で測定。 実施例6の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。 実施例6の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、レーザー照射1回目と13000回目における発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。 実施例6の化合物の、レーザー照射前とレーザー照射13000回後の紫外・可視吸収スペクトル。 実施例10の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の時間分解可視・近赤外吸収スペクトル。スペクトルはナノ秒レーザーパルスを照射後から40μs間隔で測定。 実施例10の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。 実施例10の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、レーザー照射1回目と13000回目における発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。 実施例10の化合物の、レーザー照射前とレーザー照射13000回後の紫外・可視吸収スペクトル。 実施例13の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の時間分解可視・近赤外吸収スペクトル。スペクトルはナノ秒レーザーパルスを照射後から0.8μs間隔で測定。 実施例13の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。 実施例13の化合物の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、レーザー照射1回目と13000回目における発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。 実施例13の化合物の、レーザー照射前とレーザー照射13000回後の紫外・可視吸収スペクトル。 実施例15のPMMA薄膜の、ナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定による、発色体の710nmにおける吸光度時間減衰。
 以下に本発明の実施形態について詳述する。
 本発明の化合物は、前記一般式(1)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
(1)
 前記一般式(1)中のアリール基において、イミダゾール環と結合していない炭素原子は、互いに独立して置換基R~Rを有してもよく、添字mは、1~4の整数であり、添字n~qは、互いに独立して1~5の整数である。
 上記置換基Rは、互いに独立して、同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基、ジフェニルアミノ基およびカルバゾール基、ならびに炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキル基、炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキルアミノ基および炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルコキシル基、ならびに-Y-SiZ基、-Y-SiY基および-Y-SiY基(ここで、Y~YおよびZ~Zは、互いに独立して、同一であっても異なっていてもよく、Y1~Y3は、炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキル基またはアルキレン基を表し、Z1~Z3は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1~8のアルコキシ基を表す。)、互いに結合して環を形成したベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などの芳香環、ピリジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環などの複素環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環などの脂環式環などから選ばれる置換基である。これらの置換基を1種または2種以上用いて置換してもよい。
 また、上記置換基R~Rは、互いに独立して、同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基、ジフェニルアミノ基およびカルバゾール基、ならびに炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキル基、炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキルアミノ基および炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルコキシル基、ならびに-Y-SiZ基、-Y-SiY基および-Y-SiY基(ここで、Y~YおよびZ~Zは、互いに独立して、同一であっても異なっていてもよく、Y~Yは、炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキル基またはアルキレン基を表し、Z~Zは、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1~8のアルコキシ基を表す。)、互いに結合して環を形成したベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などの芳香環、ピリジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環などの複素環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環などの脂環式環ならびに下記部分構造式(i)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
(ここで、Ri1は、炭素数1~4のアルキレン基またはアルコキシレン基を表し、Ri2は、水素または炭素数1~3のアルキル基を表す)で表される置換基などから選ばれる置換基である。これらの置換基を1種または2種以上用いて置換してもよい。
 本発明の化合物は、前記一般式(1)において、一方のジアリールイミダゾール部位と、他方のジアリールイミダゾール部位との構造が同一であっても異なっていてもよい。吸収波長などが異なる2つのジアリールイミダゾリルラジカルを組み合わせることや、本化合物のアリール部位に置換基を導入することにより、本発明の化合物の用途に応じて分子構造を最適に設計して、発色の色調や濃度などのフォトクロミック特性をより精密に制御することが可能となる。
 この場合のフォトクロミック特性の精密制御を目的として導入される置換基R~Rとしては、色調・応答速度制御の観点から、好ましくは、水素、メチル基、メトキシ基などの電子供与基、ニトロ基、シアノ基などから選ばれる置換基が挙げられ、より好ましくは、メトキシ基およびニトロ基などから選ばれる置換基が挙げられる。これらの置換基を1種または2種以上用いて置換してもよい。
 また、本発明の化合物は、置換基R~Rから選ばれる2個または1個の重合可能な置換基と、高分子化合物の高分子主鎖または側鎖に含まれる重合可能な2個または1個の官能基との、縮合重合などにより、本発明の化合物を機能性部位として高分子化合物中へ導入することや、置換基R~Rから選ばれる2個以上の重合可能な置換基を有する本発明の化合物同士を、ラジカル重合などすることにより、鎖状または網目状の高分子化合物とすることも可能である。この場合の重合可能な置換基R~Rとしては、好ましくは、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、イソシアネート基、ハロゲン基、アジド基、ビニル基、エチニル基、ならびに下記の部分構造式(iv)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
で表されるメタクリル酸ブチル基、アクリル酸ブチル基、メタクリル酸プロポキシ基などのアクリル酸またはメタクリル酸エステルなどから選ばれる置換基が挙げられ、より好ましくは、ヒドロキシル基、メタクリル酸ブチル基などから選ばれる置換基が挙げられる。これらの置換基を1種または2種以上用いて置換してもよい。
 本発明の化合物のアリール基が有する上記置換基R~Rの中で、上記のフォトクロミック特性の精密制御を目的として導入される置換基および高分子化合物の主鎖または側鎖に含まれる官能基などとの重合に用いられる置換基以外の他の置換基ならびに架橋基が有する置換基RX1~RX4は、好ましくは、水素原子、炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキル基などから選ばれ、より好ましくは、水素原子およびメチル基から選ばれる。これらの置換基を1種または2種以上用いて置換してもよい。
 また、上記置換基は、該置換基が結合している炭素原子、他の上記置換基および該他の置換基が結合している炭素原子と一体となってベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などの、ピリジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環などの複素環またはシクロペンタン環、シクロヘキサン環などの脂環式環[J12]を形成してもよく、また該環上にさらに他の上記アリール基などが有する置換基と同一の意味を有する置換基を有してもよい。これらの環構造や置換基により本発明の2つのジアリールイミダゾール部位を互いに非対称の構造としてもよい。
 さらに、本発明の化合物の5つのアリール基上の置換基の数、種類、該置換基により形成される芳香環などの構造などにより、2つのイミダゾール環の距離および角度、分子の柔軟性などを調整して、本発明の化合物の用途に応じて、発消色反応速度や発色濃度などのフォトクロミック特性を適宜調整することも可能である。
 前記一般式(1)で表される具体的な化合物としては、好ましくは、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]、2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]、7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]およびこれらの化合物の誘導体などが挙げられる。
 前述のように本発明の高分子化合物は、主鎖および/または側鎖に、下記部分構造式(ii)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
および/または、下記部分構造式(iii)、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
で表される繰り返し構造単位を有する高分子化合物である。具体的には、Bは、炭素、窒素および酸素原子などからなる群より選ばれる1種または2種以上の連結基であり、Fは、本発明の化合物の誘導体であり、F-Bは、前記連結基と前記化合物の誘導体の置換基RC~RFから選ばれる1個または2個の置換基との結合を表し、α、β、γ、δおよびεは、それぞれ互いに独立して1以上の整数である、で表される繰り返し構造単位などが例示される。
 本発明の化合物の置換基R~Rから選ばれる1個または2個のヒドロキシル基などの重合可能な置換基と、高分子化合物の高分子主鎖または側鎖に含まれる1個または2個のカルボキシル基などの重合可能な連結基との縮合重合などにより、本発明の化合物を機能性部位として高分子化合物中へ導入することが可能である。
 本発明の化合物は、溶媒中においても高速な発消色特性と高い発色濃度を有していることから、所定の溶媒と混合してもよい。混合する溶媒としては、好ましくは、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレンなどが挙げられ、なかでも発色体の安定性の観点から、ベンゼン、トルエンがより好ましい。これらの溶媒を2種以上混合してもよい。
 本発明の化合物は、プラスチック材料などの樹脂やガラスといった固相中においても高速な発消色特性と高い発色濃度を有していることから、所定の樹脂やガラスなどの固体と混合してもよく、また樹脂の主鎖などに機能性部位として化学的に結合させてもよい。混合などする樹脂としては、好ましくは、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリイミド、テフロン(登録商標)、ポリカーボネート、ポリウレタンなどが挙げられ、なかでも、発色体の安定性の観点から、ポリメチルメタクリレート、テフロン(登録商標)、ポリカーボネート、ポリウレタンがより好ましい。
 本発明の化合物、該化合物を含有するフォトクロミック材料、溶媒および樹脂の用途としては、例えば、セキュリティーインク、ホログラム材料、調光材料、光スイッチ素子などが挙げられる。
 本発明の化合物は、特に高速な消色特性が特長のフォトクロミック化合物であり、視覚的に、光照射停止と同時に消色するフォトクロミック特性をも実現できるものである。
 本発明の化合物の消色速度は、例えば、溶媒としてベンゼンを用いた溶液(濃度3.1×10-4M)を、後述するナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定方法により測定して、発色体の半減期が、好ましくは1~2000μsであり、より好ましくは1~1000μsであり、さらに好ましくは1~500μsの範囲である。
 本発明の化合物の製造方法は、下記一般式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
(2)
で表されるo-ハロベンズアルデヒド体をスタート化合物として、アルデヒド部位を保護したのちo位をアルデヒドに誘導体化した下記一般式(3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
(3)
と下記一般式(4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
(4)
および/または下記一般式(5)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
(5)
で表される1,2-ジケトンを含む任意のベンジル誘導体とを反応させる製造方法である。
 前記一般式(2)および一般式(3)において、置換基Rおよび添字mは、それぞれ前述の一般式(1)などにおいて定義した置換基Rおよび添字mと同一の意味を有する。
 また、前記一般式(4)および一般式(5)において、置換基R~Rならびに添字n~qは、それぞれ前述の一般式(1)などにおいて定義した置換基R~Rおよび添字n~qと同一の意味を有する。
 以下に本発明を実施例および比較例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ベンズアルデヒドの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 100mL二口フラスコに2‐ブロモベンズアルデヒド4.97g(26.9mmol)、エチレングリコール3.49g(56.2mmol)、p-トルエンスルホン酸一水和物470mg(2.47mmol)を入れ、ベンゼン10mLを加え、Dean-Stark装置で24時間還流した。室温に放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応を終了させ、ジクロロメタンで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン)で精製を行い2-(2-ブロモフェニル)-1,3-ジオキソラン5.01g(22.1mmol)を収率82%で得た。NMRの測定結果を以下に示す。
H NMR(400MHz,CDCl): δ=7.61-7.56(m,2H),7.34(dd, J1 = 7.5Hz , J2 =7.5Hz,1H ) ,7.24-7.20 7 (m, 1H) ,6.11(s,1H) ,4.17-4.06(m,4H)
 2-(2-ブロモフェニル)-1,3-ジオキソラン4.83g(21.1mmol)を脱水テトラヒドロフラン(THF)15mLに溶解させ-78℃まで降温した。その後、n-ブチルリチウムヘキサン溶液1.60Mヘキサン溶液16mLをゆっくりと滴下し、-78℃で2時間撹拌した。-30℃まで昇温した後、再び-78℃まで降温し、脱水ジメチルホルムアミド(DMF)1.3mL を加えた。室温まで昇温し、12時間撹拌した。飽和炭酸ナトリウム水溶液で反応を終了させ、酢酸エチルで抽出、有機層を硫酸ナトリウム水溶液で乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製を行い2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ベンズアルデヒド3.61g(20.2mmol)を収率96%で得た。
H NMR(400MHz,CDCl): δ=10.42(s,1H),7.94(d, J = 7.6Hz ,1H ) ,7.74 (d, J = 7.6Hz ,1H ),7.62(dd,J1 = 7.5Hz , J2 =7.5Hz,1H ) ,7.53(dd,J1 = 7.5Hz , J2 =7.5Hz,1H ) ,6.41(s,1H) ,4.16-4.10(m,4H)
1,2-ビス(4,5-ジフェニル-1H―イミダゾール-2-イル)ベンゼンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 封管容器に2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ベンズアルデヒド38.7mg(2.31mmol)、ベンジル513mg(2.44mmol)、酢酸アンモニウム747mg(9.69mmol)を入れ、クロロホルム8mLを加え、110 ℃で18時間撹拌した。ベンジル517mg(2.46mmol)、酢酸アンモニウム488mg(6.33mmol)、酢酸1 mLを加え110℃でさらに24時間撹拌を続けた。アンモニア水で中和しクロロホルムで抽出、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。クロロホルム/ヘキサン混合溶媒から再結晶を行うことで1,2-ビス(4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール-2-イル)ベンゼン596mg(1.16mmol)を収率50%で得た。
 H NMR(400MHz,DMSO-d): δ=14.08(s,2H),8.19-8.17(m,2H ) ,7.61-7.59 (m,2H ),7.55-7.41(m,10H ) ,7.30-7.28(m,12H)
 2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 1,2-ビス(4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール-2-イル)ベンゼン38.7mg(0.0752mmol)をベンゼン5mLに懸濁させ、フェリシアン化カリウム745mg(2.26mmol)と水酸化カリウム200mg(3.56mmol)をイオン交換水20mLに溶解させ加え、60℃で2時間激しく撹拌した。室温まで放冷後、分液ロートに入れ有機層をイオン交換水でよく洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去することで2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]34.7mg(0.0677mmol)、を収率90%で得た。
 H NMR(400MHz,CDCl): δ=8.03(d,J=7.5Hz,1H),7.57(d,J=7.1Hz,2H),7.53-7.49(m,3H ) ,7.38-7.35 (m,4H ),7.30-7.28(m,7H ) ,7.25-7.10(m,6H),6.84(d,J=6.8Hz,1H),ESI-TOF-MS(m/z):513[M+H]
 CCD搭載単結晶X線構造解析装置(ブルカー・エイエックスエス株式会社製、SMART APEX II)を用いて、合成した2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の結晶構造解析を行った。解析によって明らかにした分子構造を図1に示す。
 2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定
 合成した2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のレーザーフラッシュフォトリシス測定を、時間分解分光測定装置(型式TSP-1000、株式会社ユニソク製)を用いて行った。光路長10mmの石英製分光セルを用いて、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液(濃度3.1×10-4M)のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定を、アルゴン雰囲気下、25℃で行った。
 図2に、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:8mJ)を照射した直後から、時間分解分光測定装置によって0.8μs間隔で測定した、可視・近赤外吸収スペクトルの測定結果を示す。この結果より、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]では、紫外光照射により、710nm付近に強い吸収帯を有する発色体が可逆的に生成することを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 また図3には、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:4mJ)を照射すると同時に現れる、710nmの吸収帯の時間減衰の測定結果を示す。この結果より、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾールの発色体は光照射停止後25℃において半減期2.6μsで速やかに減衰することが確認された。
 次に2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅; 5ns、出力 4mJ)13000回照射する耐久性試験を25℃で行った。図4にナノ秒紫外レーザー照射1回目と、13000回照射後の710nmにおける吸光度の時間減衰の測定結果を示す。ナノ秒紫外レーザーを13000回照射しても、吸光度の時間減衰の様子は変わらず試料が劣化していないことがわかる。また、図5にナノ秒紫外レーザー照射1回目と、13000回照射後の2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の紫外・可視吸収スペクトルを示す。紫外・可視吸収スペクトルもナノ秒紫外レーザーの照射1回目と13000回照射後とでは変化していないことがわかる。これらの結果より、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]は高い繰り返し耐久性を有するフォトクロミック化合物であることが示された。
 1,2-ビス(4,5-ビス(4-メトキシフェニル)-1H-イミダゾール-2-イル)ベンゼンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 封管容器に2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ベンズアルデヒド501mg(2.81mmol)、4,4’-ジメトキシベンジル1.60g(5.92mmol)、酢酸アンモニウム1.21mg(15.7mmol )を入れ、クロロホルム8mLを加え、110 ℃で24時間撹拌した。酢酸1 mLを加え110 ℃でさらに24時間撹拌を続けた。アンモニア水で中和、クロロホルムで抽出、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製を行い1,2-ビス(4,5-ビス(4-メトキシフェニル)-1H-イミダゾール-2-イル)ベンゼン701mg(1.10mmol)収率39%で得た。
H NMR(400MHz,DMSO-d): δ=14.08(s,2H),8.17-8.15(m,2H),7.57-7.54(m,2H),7.35(s,8H),6.86(d,J=8.8Hz,8H),3.77(s,12H)
 2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 1,2-ビス(4,5-ビス(4-メトキシフェニル)-1H-イミダゾール-2-イル)ベンゼン344mg(0.542mmol)をベンゼン10mLに懸濁させ、フェリシアン化カリウム1.34g(4.07mmol)と水酸化カリウム406mg(7.24mmol)をイオン交換水20mLに溶解させ加え、60℃で2時間激しく撹拌した。室温まで放冷した後、分液ロートに入れ有機層をイオン交換水でよく洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去することで2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]310mg(0.49mmol)収率90%で得た。
H NMR(400MHz,CDCl): δ=7.98(d,J=7.6Hz,1H),7.67-7.63(m,1H),7.53(d,J=8.9Hz,2H),7.44-7.41(m,1H),7.30(d,J=5.1Hz,5H),7.26(d,J=7.7Hz,1H),7.16(d,J=8.7Hz,2H),7.06(d,J=8.9Hz,4H),6.90(d,J=8.9Hz,2H),6.75(d,J=8.7Hz,2H),3.88(s,6H).3.77(s,3H),3.70(s,3H),ESI-TOF-MS(m/z):633[M+H]
 2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定
 合成した2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のレーザーフラッシュフォトリシス測定を、時間分解分光測定装置(型式TSP-1000、株式会社ユニソク製)を用いて行った。光路長10mmの石英製分光セルを用いて、2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液(濃度3.3×10-4M)のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定を、アルゴン雰囲気下、25℃で行った。
 図6に、2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:8mJ)を照射した直後から、時間分解分光測定装置によって1.6μs間隔で測定した、可視・近赤外吸収スペクトルの測定結果を示す。この結果より、2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]では、紫外光照射により、750nm付近に強い吸収帯を有する発色体が可逆的に生成することを確認した。イミダゾール環の4,5位のフェニル基にメトキシ基を導入することで発色体の極大吸収波長が長波長側にシフトすることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 
 また図7には、2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:4mJ)を照射すると同時に現れる、710nmの吸収帯の時間減衰の測定結果を示す。この結果より、2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の発色体は光照射停止後25℃において半減期4.2μsで速やかに減衰することが確認された。イミダゾール環の4,5位にメトキシ基を導入しても半減期はほとんど変わらないことがわかる。
 次に2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅; 5ns、出力 4 mJ)13000回照射する耐久性試験を25℃で行った。図8にナノ秒紫外レーザー照射1回目と、13000回照射後の710 nmにおける吸光度の時間減衰の測定結果を示す。ナノ秒紫外レーザーを13000回照射しても、吸光度の時間減衰の様子は変わらず試料が劣化していないことがわかる。また、図9にナノ秒紫外レーザー照射1回目と、13000回照射後の2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の紫外・可視吸収スペクトルを示す。紫外・可視吸収スペクトルもナノ秒紫外レーザーの照射1回目と13000回照射後とでは変化していないことがわかる。これらの結果より、2,3,4’,5’-テトラキス(4-メトキシフェニル)スピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]は高い繰り返し耐久性を有するフォトクロミック化合物であることが示された。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)-4,5-ジメトキシベンズアルデヒドの合成
 2-ブロモ-4,5-ジメトキシベンズアルデヒド2.00g(8.16mmol)、エチレングリコール1.10g(17.7mmol)、p-トルエンスルホン酸一水和物140mg(0.736mmol)を入れ、ベンゼン10mLを加え、Dean-Stark装置で2日間還流した。室温まで放冷した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応を終了させ、ジクロロメタンで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=95/5)で精製を行い2-(2-ブロモ-4,5-ジメトキシフェニル)-1,3-ジオキソラン569mg(1.97mmol)を収率24%で得た。
H NMR(400MHz,CDCl): δ=7.11(s,1H),7.02(s,1H),6.00(s,1H),4.20-4.05(m,4H),3.89(s,3H),3.88(s,3H)
 2-(2-ブロモ-4,5-ジメトキシフェニル)-1,3-ジオキソラン437mg(1.51mmol)を脱水THF10mLに溶解させ-78℃まで降温した。n-ブチルリチウムヘキサン溶液1.60Mヘキサン溶液1.2mLをゆっくりと滴下し、-78℃ で2時間撹拌した。-30 ℃まで昇温した後、再び-78 ℃まで降温し、脱水DMF0.1mLを加えた。室温まで昇温し、12時間撹拌した。飽和炭酸ナトリウム水溶液で反応を終了させ、酢酸エチルで抽出、有機層を硫酸ナトリウム水溶液で乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒から再結晶を行うことで2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)-4,5-ジメトキシベンズアルデヒド165mg(0.693mmol)を収率46%で得た。
H NMR(400MHz,CDCl): δ=10.34(s,1H),7.48(s,1H),7.22(s,1H),6.36(s,1H),4.20-4.09(m,4H),3.99(s,3H),3.95(s,3H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 1,2-ビス(4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール-2-イル)-4,5-ジメトキシベンゼンの合成
 封管容器に2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)-4,5-ジメトキシベンズアルデヒド116mg(0.487mmol)、ベンジル109mg(0.518mmol)、酢酸アンモニウム300mg(3.89mmol)を入れ、クロロホルム3mLを加え、110 ℃で18時間撹拌した。酢酸1mLを加え110 ℃でさらに24時間撹拌を続けた。アンモニア水で中和、クロロホルムで抽出、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。クロロホルム/ヘキサン混合溶媒から再結晶を行うことで1,2-ビス(4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール-2-イル)-4,5-ジメトキシベンゼン138mg(0.240mmol)を収率49%で得た。
 H NMR(400MHz,DMSO-d6): δ=14.10(s,2H),7.70(s,2H),7.49-7.47(m,4H),7.39-7.38(m,4H),7.29-7.27(m,12H),3.93(s,6H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の合成
 1,2-ビス(4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール-2-イル)-4,5-ジメトキシベンゼン54.8mg(0.0954mmol)をベンゼン10mLに懸濁させ、フェリシアン化カリウム367mg(1.11mmol)と水酸化カリウム203mg(3.62mmol)をイオン交換水20mLに溶解させ加え、60℃ で2時間激しく撹拌した。室温まで放冷した後、分液ロートに入れ有機層をイオン交換水でよく洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製を行い7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]44.0mg(0.0768mmol)を収率81%で得た。
H NMR(400MHz,CDCl): δ=7.59(s,1H),7.56-7.50(m,4H),7.39-7.35(m,4H),7.31-7.28(m,6H),7.23-7.08(m,6H),6.31(s,1H),4.01(s,3H),3.81(s,3H).ESI-TOF-MS(m/z):573[M+H]
 7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定
 合成した7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のレーザーフラッシュフォトリシス測定を、時間分解分光測定装置(型式TSP-1000、株式会社ユニソク製)を用いて行った。光路長10mmの石英製分光セルを用いて、7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液(濃度2.6×10-4M)のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定を、アルゴン雰囲気下、25℃で行った。
 図10に、7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:8mJ)を照射した直後から、時間分解分光測定装置によって40μs間隔で測定した可視・近赤外吸収スペクトルの測定結果を示す。この結果より、7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]では、紫外光照射により、750nm付近に強い吸収帯を有する発色体が可逆的に生成することを確認した。イミダゾール環の2位のアリール基に2つのメトキシ基を導入することで発色体の極大吸収波長が長波長側にシフトすることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 また図11には、7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:4mJ)を照射すると同時に現れる、710nmの吸収帯の時間減衰の測定結果を示す。この結果より、7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の発色体は光照射停止後25℃において半減期102μsで速やかに減衰することが確認された。イミダゾール環の2位に結合しているアリール基に2つのメトキシ基を導入すると半減期が大幅に増大することがわかる。
 次に7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅; 5ns、出力 4mJ)13000回照射する耐久性試験を25℃で行った。図12にナノ秒紫外レーザー照射1回目と、13000回照射後の710 nmにおける吸光度の時間減衰の測定結果を示す。ナノ秒紫外レーザーを13000回照射しても、吸光度の時間減衰の様子は変わらず試料が劣化していないことがわかる。また、図13にナノ秒紫外レーザー照射1回目と、13000回照射後の7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の紫外・可視吸収スペクトルを示す。紫外・可視吸収スペクトルもナノ秒紫外レーザーの照射1回目と13000回照射後とでは変化していないことがわかる。これらの結果より、7,8-ジメトキシ-2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]は高い繰り返し耐久性を有するフォトクロミック化合物であることが示された。
2-(2-(4,5-ビス(4-メトキシフェニル)-1H-イミダゾール-2-イル)フェニル)-4,5-ジフェニル-1H-イミダゾールの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 封管容器に2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ベンズアルデヒド1.00g(5.61mmol)、ベンジル1.21g(5.76mmol)、酢酸アンモニウム1.59g(20.6mmol)を入れ、クロロホルム8mLを加え、110 ℃で18時間撹拌した。アンモニア水で中和しクロロホルムで抽出、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製を行い2-(2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)フェニル)-4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール731mg(1.94mmol)を収率35%で得た。
 H NMR(400MHz,DMSO-d): δ=12.59(s,1H),7.97-7.94(m,2H ) ,7.74-7.70 (m,2H ),7.64-7.23(m,9H ) ,6.85(s,1H),4.09-3.92(m,4H)
 2-(2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)フェニル)-4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール713mg(1.94mmol)をアセトン5mLに溶解させ、p-トルエンスルホン酸ヒ゜リジニウム176mg(0.70mmol)とイオン交換水3mLを加え、2時間還流を行った。イオン交換水を加え析出した固体をろ取、イオン交換水でよく洗浄した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製を行い2-(4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール-2-イル)ベンズアルデヒド410mg(1.26mmol)を収率65%で得た。
 H NMR(400MHz,CDCl): δ=13.07(s,1H),10.67(s,1H),8.02(d,J=7.7Hz,1H),7.87(d,J=7.2Hz,1H),8.02(J1 = 7.5Hz , J2 =7.5Hz,1H),7.60-7.29(m,11H )
 封管容器に2-(4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール-2-イル)ベンズアルデヒ82.9mg(0.256mmol)、4,4’-ジメトキシベンジル75.4mg(0.279mmol)、酢酸アンモニウム172mg(2.23mmol)を入れ、酢酸3mLを加え、110 ℃で18時間撹拌した。アンモニア水で中和しクロロホルムで抽出、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/2)で精製を行い2-(2-(4,5-ビス(4-メトキシフェニル)-1H-イミダゾール-2-イル)フェニル)-4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール15.0mg(0.0261mmol)を収率10%で得た。
 H NMR(400MHz,CDCl): δ=14.31(s,1H),13.85(s,1H),8.21-6.78(m,22H ) ,3.77 (s,6H )
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の合成
 2-(2-(4,5-ビス(4-メトキシフェニル)-1H-イミダゾール-2-イル)フェニル)-4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール15.0mg(0.0261mmol)をベンゼン3mLに懸濁させ、フェリシアン化カリウム354mg(1.08mmol)と水酸化カリウム198mg(3.53mmol)をイオン交換水20mLに溶解させ加え、60℃ で2時間激しく撹拌した。室温まで放冷した後、分液ロートに入れ有機層をイオン交換水でよく洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去することで粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/2)で精製を行い4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]11.0mg(0.0192mmol)を収率74%で得た。
H NMR(400MHz,CDCl): δ=8.01(d,J=7.6Hz,2H),7.64-7.03(m,12H),6.87(d,J=8.8Hz,8H),3.86(s,6H).ESI-TOF-MS(m/z):573[M+H]
 4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定
 合成した4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のレーザーフラッシュフォトリシス測定を、時間分解分光測定装置(型式TSP-1000、株式会社ユニソク製)を用いて行った。光路長10mmの石英製分光セルを用いて、4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液(濃度3.0×10-4M)のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定を、アルゴン雰囲気下、25℃で行った。
 図14に、4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:8mJ)を照射した直後から、時間分解分光測定装置によって0.8μs間隔で測定した、可視・近赤外吸収スペクトルの測定結果を示す。この結果より、4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]では、紫外光照射により、740nm付近に強い吸収帯を有する発色体が可逆的に生成することを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 また図15には、4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:4mJ)を照射すると同時に現れる、710nmの吸収帯の時間減衰の測定結果を示す。この結果より、4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の発色体は光照射停止後25℃において半減期2.3μsで速やかに減衰することが確認された。
 次に4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]のベンゼン溶液に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅; 5ns、出力 4mJ)13000回照射する耐久性試験を25℃で行った。図16にナノ秒紫外レーザー照射1回目と、13000回照射後の710nmにおける吸光度の時間減衰の測定結果を示す。ナノ秒紫外レーザーを13000回照射しても、吸光度の時間減衰の様子は変わらず試料が劣化していないことがわかる。また、図17にナノ秒紫外レーザー照射1回目と、13000回照射後の4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の紫外・可視吸収スペクトルを示す。紫外・可視吸収スペクトルもナノ秒紫外レーザーの照射1回目と13000回照射後とではほとんど変化していないことがわかる。これらの結果より、4’,5’-ビス(4-メトキシフェニル)-2,3-ジフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-a]イソインドール-5,2’-イミダゾール]は高い繰り返し耐久性を有するフォトクロミック化合物であることが示された。
 2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]を含有するPMMAのナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定
 ポリメチルメタクリレート(PMMA)(Aldrich、分子量350,000)20.2mgを、クロロホルム0.4mLに溶解させ、これに実施例3で合成した2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]4.0mgを加えて溶液を調整した(濃度20wt%)。この溶液を用いてキャスト法により、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]を含有するPMMA薄膜を作製した。この薄膜のナノ秒レーザーフラッシュフォトリシス測定を25℃で行った。
 図18に、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]を含有するPMMA薄膜に波長355nmのナノ秒紫外レーザー(パルス幅:5ns、出力:4mJ)を照射すると同時に現れる、710nmの吸収帯の時間減衰の測定結果を示す。この結果より、2,3,4’,5’-テトラフェニルスピロ[イミダゾ[2,1-α]イソインドール-5,2’-イミダゾール]の発色体は固相のPMMA中においても光照射停止後25℃において半減期約3μsで速やかに減衰することが確認された。
産業上の利用可能性
 本発明のペンタアリールビイミダゾール化合物を含むフォトクロミック材料は、従来のフォトクロミック材料と比較して、高速な発消色反応と高い耐久性を有する。また、本発明の化合物のアリール基上の置換基の数、種類、該置換基により形成される芳香環などの構造などにより、2つのイミダゾール環の距離および角度、分子の柔軟性などを調整して、本発明の化合物の用途に応じて、発消色反応速度や発色濃度などのフォトクロミック特性を適宜調整することも可能である。さらには、少ない製造工程数かつ低廉な原料で合成できることをも実現し、工業的に利用可能なフォトクロミック化合物を提供することが可能である。したがって、本発明のペンタアリールビイミダゾール化合物および該化合物の製造方法は、優れたフォトクロミック化合物およびその製造方法として、セキュリティーインク、ホログラム材料、調光材料、光スイッチ素子などの広い分野において、特に産業上の利用可能性が高いものである。
 

Claims (7)

  1.  下記一般式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (1)
    式中、5個のアリール基は、置換基R~Rを有しないまたは有し、mは1~4の整数であり、n~qは、それぞれ互いに独立して1~5の整数であり、置換基Rは、互いに独立して同一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基、ジフェニルアミノ基およびカルバゾール基、ならびに炭素数1~20の直鎖状または分枝状の、アルキル基、アルキルアミノ基およびアルコキシ基、ならびに-Y-SiZ基、-Y-SiY基および-Y-SiY基(ここで、Y~YおよびZ~Zは、互いに独立して同一または異なり、Y~Yは、炭素数1~20の直鎖状または分枝状のアルキル基またはアルキレン基を表し、Z~Zは、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1~8の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基を表す)、互いに結合して環を形成した芳香環、複素環、脂環式環からなる群より選ばれる1種または2種以上の置換基であり、置換基R~Rは、互いに独立して同一または異なり、前記置換基RAと同一の意味を有する置換基、ならびに下記部分構造式(i)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (ここで、Ri1は、炭素数1~4のアルキレン基またはアルコキシレン基を表し、Ri2は、水素または炭素数1~3のアルキル基を表す)で表される置換基、からなる群より選ばれる1種または2種以上の置換基であり、前記アリール基が有する置換基は、結合している炭素原子および他の置換基と一体となって脂肪族環または芳香環を形成しないまたは形成し、該環上にさらに前記アリール基の有する置換基と同一の意味を有する置換基を有しないまたは有する、で表される化合物。
  2.  一方のジアリールイミダゾール部位と、他方のジアリールイミダゾール部位との構造が異なり非対称である、請求項1に記載の化合物。
  3.  置換基R~Rが、水素、メチル基、メトキシ基、ニトロ基およびシアノ基から選ばれる1種または2種以上の置換基である、請求項1または2に記載の化合物。
  4.  請求項1~3のいずれかに記載の化合物を含有するフォトクロミック材料。
  5.  請求項1~3のいずれかに記載の化合物を含有する溶媒。
  6.  請求項1~3のいずれかに記載の化合物を含有する樹脂。
  7.  請求項1~3のいずれかに記載の化合物の製造方法であって、下記一般式(2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    (2)
    (ここで、式中のアリール基は、置換基Rを有しないまたは有し、mは、1~4の整数であり、置換基Rは互いに独立して同一または異なり、それぞれ一般式(1)における置換基Rと同一の意味を有する)で表わされる化合物と、下記一般式(3)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    (3)
    (ここで、式中2個のアリール基は、置換基RおよびRを有しないまたは有し、nおよびoはそれぞれ互いに独立して1~5の整数であり、置換基RおよびRは、互いに独立して同一または異なり、それぞれ一般式(1)における置換基RおよびRと同一の意味を有する)および/または下記一般式(4)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    (4)
    (ここで、式中2個のアリール基は、置換基RおよびRを有しないまたは有し、pおよびqはそれぞれ互いに独立して1~5の整数であり、置換基RおよびRは、互いに独立して同一または異なり、それぞれ一般式(1)における置換基RおよびRと同一の意味を有する)で表される1,2-ジケトンを含む任意のベンジル誘導体とを反応させる、前記製造方法。
     
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