JP5780291B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
本願は、2011年2月24日に出願された米国特許仮出願61/446,197号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
以下、図面を参照して、本発明の第一実施形態を説明する。
図1は、本実施形態に係る基板処理装置FPAの全体構成を示す斜視図である。図2及び図3は、基板処理装置FPAの一部の構成について、図1とは異なる視点から見たときの状態を示す斜視図である。
図1から図3に示すように、基板処理装置FPAは、帯状に形成され可撓性を有する基板Sを搬送する搬送部1と、基板Sに対して所定の処理を行う処理部2と、搬送部1及び処理部2を統括的に制御する制御部CONTとを有している。基板処理装置FPAは、例えば製造工場の床面FLに載置された基台(ペデスタル)ST上に設けられている。
まず、搬送部1のうち供給ローラー5bと回収ローラー6bとの間に基板Sを掛け渡す動作を行う場合について説明する。
次に、本発明の第二実施形態を説明する。
図15は、本実施形態に係る基板処理装置FPA2の構成を示す断面図である。
図15に示すように、本実施形態では、チャンバー装置CBにポンプなどの圧力調整装置(圧力調整部)60が接続されており、チャンバー装置CBの内部の圧力を調整(例えば加圧、減圧)可能な構成となっている。チャンバー装置CBには、処理装置10として、例えば減圧環境下で処理を行うプラズマ装置12が設けられている。チャンバー装置CBの+Y側には差動排気室61及び62が設けられており、チャンバー装置CBの−Y側には差動排気室63及び64が設けられている。各差動排気室61〜64にもポンプが接続される。
図16に示すように、シール機構65は、基板SをZ方向に挟む第一エアパッド機構65A及び第二エアパッド機構65Bと、第一エアパッド機構65Aを第二エアパッド機構65B側へ押圧する押圧機構70とを有している。
次に、本発明の第三実施形態を説明する。
図17は、本実施形態に係る基板処理装置FPA3の構成を示す断面図である。
図17に示すように、チャンバー装置CBの第一部分CB1及び第二部分CB2のそれぞれには、収容室開閉機構SLが設けられている。収容室開閉機構SLは、第一部分CB1に取り付けられたスライド機構(開閉部)SL1と、第二部分CB2に取り付けられたスライド機構(開閉部)SL2とを有している。
なお、図18〜図22の基板送り出し機構5において、基板Sは、ロールの下側から引き出され、図17における基板Sの処理面とは逆の面が処理される。
本実施形態では、第一部分CB1と第二部分CB2との分離や接続を、第一部分CB1のみの移動によって行っているが、第二部分CB2のみの移動によってまたは第一部分CB1及び第二部分CB2の移動によって行ってもよい。
次に、本発明の第四実施形態を説明する。
図23Aは、本実施形態に係る差動排気装置(差動排気室)100の構成を示す図である。
図23Aに示すように、本実施形態では、差動排気装置100が単独で配置されているが、この差動排気装置100は図18〜22に示した差動排気室85及び86としても組み込めるものである。この差動排気装置100は第一部分101と第二部分102とに分離可能な構成となっている。差動排気装置100は、Z方向に長手となるように形成されている。
例えば、図8、図9に示した第一実施形態において、案内ローラーGR1、GR2、GR5及び案内パッドGPがZ方向に沿って移動する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、図24のような変形が可能である。
Claims (26)
- 可撓性を有する帯状の基板を長尺方向に巻き付けると共に、前記長尺方向に送り出す供給ローラー部と、
該供給ローラー部から前記長尺方向に離して配置され、前記供給ローラー部から送り出された前記基板を巻き取る回収ローラー部と、
前記供給ローラー部と前記回収ローラー部との間の前記基板の移動経路に設けられ、前記基板の第1面側に配置される第1部分と、前記基板の第2面側に配置される第2部分とに分離可能に構成されて、前記基板の一部を囲うチャンバーと、
前記チャンバーに収容され、前記チャンバーで囲われた前記基板の一部に対して所定の処理を行う処理部と、
前記基板の一部が前記移動経路における前記基板の移動方向と交差する方向に前記チャンバーの内部に搬入及び搬出されるように、前記供給ローラー部及び前記回収ローラー部と前記チャンバー及び前記処理部とを相対的に移動させる駆動部と、
を備える基板処理装置。 - 前記供給ローラー部と前記回収ローラー部とを支持するステージを更に備え、前記第1部分は、前記ステージに支持されている、
請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記ステージは、前記第1部分を支持する支持部を有し、
前記支持部は、前記基板の移動方向において、前記供給ローラー部と前記回収ローラー部とを挟む位置に一対設けられている、
請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記第1部分と前記第2部分とが互いに分離する方向に前記第1部分と前記第2部分とを相対的に移動させる第2駆動部を更に備え、
前記第2駆動部は、前記基板の搬入又は搬出に同期させて前記第1部分と前記第2部分との相対的な移動を行わせる、
請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1部分及び前記第2部分のうち少なくとも一方は、内部空間を開放及び閉塞させる開閉部を有する、
請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記第1部分の内部空間の圧力と、前記第2部分の内部空間の圧力とを個別に調整可能な圧力調整部を更に備える、
請求項5に記載の基板処理装置。 - 前記開閉部は、移動可能なスライド部材で構成され、
前記第1部分及び前記第2部分は、前記スライド部材を収容するフランジ部をそれぞれ有する、
請求項5に記載の基板処理装置。 - 前記チャンバーは、前記基板の移動方向の両端の壁部に前記基板を通過させる通過部を有する
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記通過部に設けられ、前記基板を検出する光センサを更に備える、
請求項8に記載の基板処理装置。 - 前記処理部は、前記基板に対して塗布液を転写する転写ローラーを有する、
請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記処理部は、前記基板を前記転写ローラーへ押圧する3つの押圧ローラーを有する、
請求項10に記載の基板処理装置。 - 3つの前記押圧ローラーは、互いに位置が固定されている、
請求項11に記載の基板処理装置。 - 3つの前記押圧ローラーは、前記転写ローラー上の異なる位置に前記基板を押圧するように移動可能に設けられている、
請求項12に記載の基板処理装置。 - 前記基板に転写された前記塗布液を乾燥させる乾燥部を更に備える、
請求項10に記載の基板処理装置。 - 前記乾燥部は、前記基板の移動方向に交差する方向から前記基板に対して乾燥気体を噴射する噴射部を有する、
請求項14に記載の基板処理装置。 - 前記乾燥部は、前記噴射部と前記転写ローラーとの間で前記乾燥気体の気流を調整する気流調整部を有する、
請求項15に記載の基板処理装置。 - 前記基板の第1面側及び第2面側にそれぞれ配置され、前記基板が掛けられる複数の案内ローラーを更に備え、
前記気流調整部は、複数の前記案内ローラーに亘って設けられた蛇腹部を有する、
請求項16に記載の基板処理装置。 - 前記基板の第1面側及び第2面側にそれぞれ配置され、前記基板が掛けられる複数の案内ローラー
を更に備える請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 複数の前記案内ローラーは、前記基板の移動方向について、前記基板の前記第1面側と前記基板の前記第2面側とに交互に配置されている
請求項18に記載の基板処理装置。 - 前記チャンバーのうち前記基板の移動方向の側方に配置される壁部には、前記処理部を出し入れする蓋部が設けられている
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記チャンバーに対して前記基板の移動方向の側方に配置され、前記基板に前記処理部と同一の処理を行う予備処理部を更に備える
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記駆動部は、前記供給ローラー及び前記回収ローラーを、前記処理部と前記予備処理部との間で移動可能である
請求項21に記載の基板処理装置。 - 前記基板の移動方向に交差する方向に前記供給ローラーが移動可能となるように前記供給ローラーを支持する第一レールと、
前記基板の移動方向に交差する方向に前記回収ローラーが移動可能となるように前記回収ローラーを支持する第二レールと、
前記第一レール及び前記第二レールのうち少なくとも一方を駆動するレール駆動部と、を更に備える、
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記チャンバーの内部の圧力を調整する圧力調整部と、
前記チャンバーに対して前記基板の移動方向の上流側及び下流側のうち少なくとも一方に配置された差動排気室と、を更に備える、
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記チャンバー及び前記差動排気室は、前記基板の第1面側に配置される第三部分と、前記基板の第2面側に配置される第四部分とに分離可能に設けられており、
前記第三部分及び前記第四部分は、それぞれ一体的に設けられており、
前記第三部分と前記第四部分との間の隙間を塞ぐ気体の層を前記第三部分と前記第四部分との間に形成するシール機構を更に備える、
請求項24に記載の基板処理装置。 - 案内ローラーを更に備える、
請求項25に記載の基板処理装置。
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