JP5768034B2 - 銅スラグに発泡ウレタン層を形成した被覆粒状体の製造方法 - Google Patents
銅スラグに発泡ウレタン層を形成した被覆粒状体の製造方法 Download PDFInfo
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而も、発泡ウレタン層の残存工程では、余分な発泡層を薄肉化して比較的均一な被覆層を有する被覆粒状体とすることができるため、ベタツキ感がなくなって取扱いに優れたものにすることが出来、且つショットブラスト材として使用する場合には、騒音及び粉塵量を抑えることができると共に、掻き取り性を銅スラグ単体と同等に維持することができる。
アミン触媒としては、例えば、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ジエタノールアミン、ジメチルアミノモルフォリン、N−エチルモルホリン、テトラメチルグアニジン等を挙げることができ,又金属触媒としては、スタナスオクトエート(オクチル酸第一錫)やジブチルチンジラウレート等の錫触媒やフェニル水銀プロピオン酸塩あるいはオクテン酸鉛等を挙げることができる。
〔A法〕
銅スラグと反応混合物との撹拌混合時間を反応混合物のゲルタイム以上として、撹拌混合時の一次品どうしの接触により、各銅スラグに3〜40μm、望ましくは5〜20μmの発泡ウレタン層を残存させる。
〔B法〕
銅スラグと反応混合物との撹拌混合時間を反応混合物のゲルタイム以内とし、当該撹拌混合物を撹拌機から取り出し放置して、銅スラグに厚い発泡ウレタン層が形成された塊状の一次品とし、その後、該一次品を粉砕して、各銅スラグに3〜40μm、望ましくは5〜20μmの発泡ウレタン層を残存させる。
〔ポリオール組成物A1〕
開発品名;『EHX−6501A』、BASF INOACポリウレタン株式会社製、平均水酸基可330mgKOH/g、下記成分が含まれる組成物。
(成分)
・ポリエーテルポリオール:官能基数4、平均分子量560、平均水酸基価400mgK OH/g
・ポリエーテルポリオール:官能基数3、平均分子量1000、平均水酸基価160mg KOH/g
・アミン触媒:トリエチレンジアミン33%DPG溶液、品名;カオーライザーNo.3 1、株式会社花王製
・難燃剤(可塑剤):トリス(β−クロロプロピル)ホスフェート、品名;TCPP、大 八化学工業製
・整泡剤:シリコン系界面活性剤、品名;SH−193、東レダウコーニングシリコン製
・発泡剤:水(0.6〜0.65%)
〔ポリオール組成物A2〕
開発品名;『EHX−6502A』、BASF INOACポリウレタン株式会社製、平均水酸基可390〜430mgKOH/g、下記成分が含まれる組成物。
(成分)
・ポリエーテルポリオール:官能基数4、平均分子量560、平均水酸基価400mgK OH/g
・ポリエーテルポリオール:官能基数3、平均分子量1000、平均水酸基価160mg KOH/g
・ポリエーテルポリオール:官能基数4、平均分子量450、平均水酸基価500mgK OH/g
・架橋剤:エチレングリコール
・アミン触媒:トリエチレンジアミン33%DPG溶液、品名;カオーライザーNo.3 1、株式会社花王製
・難燃剤(可塑剤):トリス(β−クロロプロピル)ホスフェート、品名;TCPP、大 八化学工業製
・整泡剤:シリコン系界面活性剤、品名;SH−193、東レダウコーニングシリコン製
・発泡剤:水(0.75〜0.80%)
〔ポリオール組成物A3〕
開発品名;『EHX−2885』、BASF INOACポリウレタン株式会社製、平均水酸基可310〜350mgKOH/g、下記成分が含まれる組成物。
(成分)
・ポリエーテルポリオール、官能基数4、分子量560、水酸基価400mgKOH/g 、
・ポリエーテルポリオール、官能基数3、分子量420、水酸基価400mgKOH/g 、
・ポリエーテルポリオール、官能基数3、分子量5000、水酸基価33mgKOH/g 、
・アミン触媒:N,N,N',N',−テトラメチルヘキサメチレンジアミン、品名;カオーライザ ーNo.1、株式会社花王製
・難燃剤(可塑剤):トリス(β−クロロプロピル)ホスフェート、品名;TCPP、大 八化学工業製
・整泡剤:シリコン系界面活性剤、品名;SH−190、東レダウコーニングシリコン製
・発泡剤:水(6.5〜7.0%)
〔ポリオール組成物A4〕
開発品名;『EHX−2886』、BASF INOACポリウレタン株式会社製、平均水酸基可310〜350mgKOH/g、下記成分が含まれる組成物。
(成分)
・ポリエーテルポリオール、官能基数5.3、分子量650、水酸基価460mgKOH /g、
・ポリエーテルポリオール、官能基数3、分子量420、水酸基価400mgKOH/g 、
・ポリエーテルポリオール、官能基数3、分子量1000、水酸基価160mgKOH/ g、
・アミン触媒:N,N,N',N',−テトラメチルヘキサメチレンジアミン、品名;カオーライザ ーNo.1、株式会社花王製
・難燃剤(可塑剤):トリス(β−クロロプロピル)ホスフェート、品名;TCPP、大 八化学工業製
・整泡剤:シリコン系界面活性剤、品名;SH−193、東レダウコーニングシリコン製
・発泡剤:水(0.10〜0.15%)
但し、今回の実験で使用された上記〔ポリオール組成物A1〜A4〕は開発段階のものを使用したため、品名が開発段階で付される仮称『EHX−○○○○○』となっているが、正式品名は異なります。
〔イソシアネートB1〕
品名;イソシアネートフォームライト200B、BASF INOACポリウレタン株式会社製
(成分)
ポリメリックMDI、NCO%=30〜32%、
〔イソシアネートB2〕
品名;Luoranate M−20S、BASF INOACポリウレタン株式会社製
(成分)
ポリメリックMDI、NCO%=31%
「ゲルタイム」は、発泡成形において発泡原料を混合した後、発泡上昇していく途中で、フォーム表面にガラス棒などを押し当て、引き抜く際に糸を引き、棒に抵抗を有するまでの時間である。
「膜厚」は、紙やすり上にショットブラスト材の実施例1〜11を擦り付け断面をむき出しにして、電子顕微鏡により測定したウレタン発泡膜の厚みである。
掻き取り性「◎」、騒音「×」、粉塵量「×」のため、総合評価「×」である。
掻き取り性「○」、騒音「○」、粉塵量「○」のため、総合評価「○」である。
掻き取り性「○」、騒音「○」、粉塵量「◎」のため、総合評価「◎」である。
掻き取り性「△」、騒音「◎」、粉塵量「◎」のため、総合評価「○」である。
掻き取り性「△」、騒音「◎」、粉塵量「◎」のため、総合評価「○」である。
掻き取り性「○」、騒音「○」、粉塵量「◎」のため、総合評価「◎」である。
掻き取り性「○」、騒音「○」、粉塵量「△」のため、総合評価「△」である。
掻き取り性「◎」、騒音「○」、粉塵量「×」のため、総合評価「△」である。
掻き取り性「○」、騒音「△」、粉塵量「×」のため、総合評価「△」である。
掻き取り性「○」、騒音「○」、粉塵量「○」のため、総合評価「○」である。
粉塵測定は、天候:晴れ、気温:11.0°C、湿度:40%の条件下で行われた。
尚、『HV−500F型』の仕様は下記の通りである。
吸引流量:500l/min
吸引圧力:160hPa
吸引ポンプ:ブラシレスブロワー
よって、銅スラグに対し、実施例3は約20%で、実施例7は約15%となり、ブラスト処理時の粉塵量が極めて低く抑えられている。
又、試験1と試験4では、塗装の有無の差はあるが、処理時間がかかる塗装面を対象とした試験1の数値の方が試験4の数値より良好なため、実施例3は実施例7より処理能力が上であることは明白である。
銅スラグ粒体の表面には凹凸が多く角が多いことから、ショットブラスト材として使用する場合、そのままでは衝撃で角が取れて粉塵となり易く、耐用寿命も短いが、本発明に係る被覆粒状体によりショットブラスト処理を行えば、発泡ウレタン層の優れた弾性により衝撃が吸収されるため、銅スラグ粒体へのダメージは少ないと共に騒音が抑止され、又被覆層を発泡ウレタン層とすることで銅スラグ粒体への密着性が向上すると共に、発泡ウレタン層が薄いため、被覆層の母材への剥離付着が防止される。
Claims (2)
- 銅スラグを撹拌機に投入する工程と、ポリオールと発泡剤とを含んだポリオール組成物とイソシアネートとを予備混合する工程と、反応混合物を撹拌機に投入する工程と、撹拌機による撹拌混合により、銅スラグの周りに反応混合物をコーティングする工程と、コーティングされた反応混合物により銅スラグの周りに厚い発泡ウレタン層を形成して一次品とする工程と、該一次品に外力を作用させて、3〜40μmの発泡ウレタン層を残存させる工程と、を有している銅スラグに発泡ウレタン層を形成した被覆粒状体の製造方法において、
前記コーティング工程、一次品化工程及び外力作用工程を撹拌機内で行い、且つ銅スラグと反応混合物との撹拌混合時間を反応混合物のゲルタイム以上として、撹拌混合時の一次品どうしの接触により、各銅スラグに3〜40μmの発泡ウレタン層を残存させたことを特徴とする銅スラグに発泡ウレタン層を形成した被覆粒状体の製造方法。 - 銅スラグを撹拌機に投入する工程と、ポリオールと発泡剤とを含んだポリオール組成物とイソシアネートとを予備混合する工程と、反応混合物を撹拌機に投入する工程と、撹拌機による撹拌混合により、銅スラグの周りに反応混合物をコーティングする工程と、コーティングされた反応混合物により銅スラグの周りに厚い発泡ウレタン層を形成して一次品とする工程と、該一次品に外力を作用させて、3〜40μmの発泡ウレタン層を残存させる工程と、を有している銅スラグに発泡ウレタン層を形成した被覆粒状体の製造方法において、
銅スラグと反応混合物との撹拌混合時間を反応混合物のゲルタイム以内とし、当該撹拌混合物を撹拌機から取り出し放置して、銅スラグに厚い発泡ウレタン層が形成された塊状の一次品とし、該一次品を粉砕して、各銅スラグに3〜40μmの発泡ウレタン層を残存させたことを特徴とする銅スラグに発泡ウレタン層を形成した被覆粒状体の製造方法。
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