JP5765333B2 - 成形金型、射出成形機及び対物光学素子の製造方法 - Google Patents
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Description
また、対物光学素子の中心厚さ等に関しては、短波長、高NAの光ディスクに対応する対物光学素子の場合、対物光学素子の焦点距離に対する光軸上の厚さの比が大きくなりすぎると、対物光学素子に対して軸外光束が入射した際に非点収差が発生しやすくなったり、作動距離が確保出来なくなったりするという課題が生じる。一方、対物光学素子の焦点距離に対する光軸上の厚さの比が小さくなりすぎると、レンズの光学面の芯ずれの感度が大きくなるという課題が生じる。上記式を満たすことにより非点収差の発生やレンズの光学面の芯ずれの感度を抑制することが可能となる。
また、少なくとも3種類の光ディスクに対して情報の記録及び/又は再生を行う対物光学素子の場合、1種類あるいは2種類の光ディスクに対してのみ情報の記録及び/又は再生を行う対物光学素子に比べて、光学面の芯ずれをより低減させる必要があるが、本発明によれば、レンズの光学面の芯ずれを低減させることが可能となるので、このような少なくとも3種類の光ディスクに対して情報の記録及び/又は再生を行う対物光学素子でも、光学特性良く成形することが可能である。
0.5mm≦t2≦0.7mm (2)
1.0mm≦t3≦1.3mm (3)
本明細書において、第1光源、第2光源、第3光源は、好ましくはレーザ光源である。レーザ光源としては、好ましくは半導体レーザ、シリコンレーザ等を用いることが出来る。第1光源から出射される第1光束の第1波長λ1、第2光源から出射される第2光束の第2波長λ2(λ2>λ1)、第3光源から出射される第3光束の第3波長λ3(λ3>λ2)は以下の条件式(4)、(5)を満たすことが好ましい。
1.8×λ1<λ3<2.0×λ1 (5)
また、第1光ディスク、第2光ディスク、第3光ディスクとして、それぞれ、BD、DVD及びCDが用いられる場合、第1光源の第1波長λ1は好ましくは、375nm以上、435nm以下、より好ましくは、390nm以上、420nm以下であって、第2光源の第2波長λ2は好ましくは570nm以上、680nm以下、より好ましくは630nm以上、680nm以下であって、第3光源の第3波長λ3は好ましくは、750nm以上、850nm以下、より好ましくは、760nm以上、820nm以下である。
2 第2取り付け板
3 第1受け板
4 第2受け板
5 第1型板
6 第2型板
7 第1コア
8 第2コア
9 第1光学転写面
10 第2光学転写面
11 第1フランジ形成面
12 第2フランジ形成面
13 キャビティ
14 流路
15 スプルー
16 ランナー
17 ゲート
18 第1コア支持穴
19 第2コア支持穴
Claims (5)
- NA値が0.70以上0.95以下の光ピックアップ装置用の対物光学素子を製造する射出成形用の成形金型において、
前記成形金型は、第1型板と第1コアと第2型板と第2コアを有し、
前記第1型板は、前記第1コアを装着するための第1コア支持穴を有し、前記第2型板は、前記第2コアを装着するための第2コア支持穴を有し、
前記第1型板に対して、前記第2型板は重力方向の上方側に重ねて配置されており、
前記第1コアは、前記対物光学素子の第1光学面を形成するための第1光学転写面を有し、前記第1型板と前記第2型板とが型開きする際に前記対物光学素子を保持し、
前記第2コアは、前記対物光学素子の第2光学面を形成するための第2光学転写面を有し、前記第1型板と前記第2型板とが型開きする際に前記対物光学素子を保持せず、
前記第1光学転写面の曲率半径の絶対値は、前記第2光学転写面の曲率半径の絶対値よりも小さく、
前記第1光学転写面の少なくとも一部が、複数の段差からなる光路差付与構造を有し、
前記対物光学素子の前記第1光束における焦点距離をf1(mm)とし、前記対物光学素子の中心厚さをd(mm)としたときに、0.7≦d/f1≦2.0を満たし、
前記対物光学素子は、波長λ1(375nm≦λ1≦435nm)の第1光束を厚さt1の保護層を有する第1光ディスクの情報記録面上に集光させ、波長λ2(λ1<λ2)の第2光束を厚さt2(t1<t2)の保護層を有する第2光ディスクの情報記録面上に集光させ、波長λ3(λ2<λ3)の第3光束を厚さt3(t2<t3)の保護層を有する第3光ディスクの情報記録面上に集光させることによって情報の記録及び/又は再生を行う光ピックアップ用の対物光学素子であり、
前記対物光学素子は、光軸を含む中心領域と、その周囲に設けられた周辺領域と、前記中心領域と前記周辺領域の間に設けられた中間領域とを少なくとも有し、
前記中心領域を通過した前記第1光束は前記第1光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、前記中心領域を通過した前記第2光束は前記第2光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、前記中心領域を通過した前記第3光束は前記第3光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、
前記中間領域を通過した前記第1光束は前記第1光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、前記中間領域を通過した前記第2光束は前記第2光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、前記中間領域を通過した前記第3光束は前記第3光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光されず、
前記周辺領域を通過した前記第1光束は前記第1光ディスクの情報記録面上に集光され、前記周辺領域を通過した前記第2光束は前記第2光ディスクの情報記録面上に集光されず、前記周辺領域を通過した前記第3光束は前記第3光ディスクの情報記録面上に集光されないようになっていることを特徴とする成形金型。 - 光ピックアップ装置用の対物光学素子であって、波長λ1(375nm≦λ1≦435nm)の第1光束を厚さt1の保護層を有する第1光ディスクの情報記録面上に集光させることによって、前記第1光ディスクに対してのみ情報の記録及び/又は再生を行う光ピックアップ装置用の対物光学素子であることを特徴とする請求項1に記載の成形金型。
- 前記対物光学素子の前記第1光束における焦点距離をf1(mm)とし、前記対物光学素子の中心厚さをd(mm)としたときに、0.9≦d/f1≦2.0を満たすことを特徴とする請求項2に記載の成形金型。
- 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の成形金型を有することを特徴とする射出成形機。
- NA値が0.70以上0.95以下の光ピックアップ装置用の対物光学素子を成形金型により製造する製造方法において、
前記成形金型は、第1型板と第1コアと第2型板と第2コアを有し、
前記第1型板は、前記第1コアを装着するための第1コア支持穴を有し、前記第2型板は、前記第2コアを装着するための第2コア支持穴を有し、
前記第1型板に対して、前記第2型板は重力方向の上方側に重ねて配置されており、
前記第1コアは、前記対物光学素子の第1光学面を形成するための第1光学転写面を有し、前記第2コアは、前記対物光学素子の第2光学面を形成するための第2光学転写面を有し、
前記第1光学転写面の曲率半径の絶対値は、前記第2光学転写面の曲率半径の絶対値よりも小さく、
前記第1光学転写面の少なくとも一部が、複数の段差からなる光路差付与構造を有し、
前記対物光学素子の前記第1光束における焦点距離をf1(mm)とし、前記対物光学素子の中心厚さをd(mm)としたときに、0.7≦d/f1≦2.0を満たしており、
前記対物光学素子は、波長λ1(375nm≦λ1≦435nm)の第1光束を厚さt1の保護層を有する第1光ディスクの情報記録面上に集光させ、波長λ2(λ1<λ2)の第2光束を厚さt2(t1<t2)の保護層を有する第2光ディスクの情報記録面上に集光させ、波長λ3(λ2<λ3)の第3光束を厚さt3(t2<t3)の保護層を有する第3光ディスクの情報記録面上に集光させることによって情報の記録及び/又は再生を行う光ピックアップ用の対物光学素子であり、
前記対物光学素子は、光軸を含む中心領域と、その周囲に設けられた周辺領域と、前記中心領域と前記周辺領域の間に設けられた中間領域とを少なくとも有し、
前記中心領域を通過した前記第1光束は前記第1光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、前記中心領域を通過した前記第2光束は前記第2光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、前記中心領域を通過した前記第3光束は前記第3光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、
前記中間領域を通過した前記第1光束は前記第1光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、前記中間領域を通過した前記第2光束は前記第2光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光され、前記中間領域を通過した前記第3光束は前記第3光ディスクの情報記録面上に情報の記録及び/又は再生ができるように集光されず、
前記周辺領域を通過した前記第1光束は前記第1光ディスクの情報記録面上に集光され、前記周辺領域を通過した前記第2光束は前記第2光ディスクの情報記録面上に集光されず、前記周辺領域を通過した前記第3光束は前記第3光ディスクの情報記録面上に集光されないようになっており、
前記第1光学転写面と前記第2光学転写面とで形成されたキャビティに樹脂を射出する工程と、
前記第1型板と前記第2型板を型開きし、前記対物光学素子を前記第1コアで保持する工程と、
前記対物光学素子を保持する前記第1コアから前記対物光学素子を離型させる工程を有することを特徴とする対物光学素子の製造方法。
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