JP5757921B2 - 流延支持体の表面検査装置及び方法並びに溶液製膜方法 - Google Patents

流延支持体の表面検査装置及び方法並びに溶液製膜方法 Download PDF

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Description

本発明は、流延支持体の表面検査装置及び方法並びに溶液製膜方法に関する。
光透過性を有する熱可塑性フィルムは、軽量であり、成形が容易であるため、光学フィルムとして多方面に利用されている。中でも、セルロースアシレートなどを用いたセルロースエステル系フィルムは、写真感光用フィルムをはじめとして、近年市場が拡大している液晶表示装置の構成部材である光学フィルム(例えば、位相差フィルムや偏光板保護フィルム等)に用いられている。
このようなフィルムは、溶液製膜方法によりつくられる。溶液製膜方法は、ポリマーと溶剤とを含むポリマー溶液(ドープ)を支持体上に流し、流延膜を形成する。次に、流延膜が搬送可能な程度に固くなった後、これを湿潤フィルムとして支持体から剥がす。そして、この湿潤フィルムを乾燥室へ送る。乾燥室では、湿潤フィルムをローラに巻きかけて搬送しながら、湿潤フィルムから溶剤を蒸発させてフィルムとする。また、流延膜を冷却により固化させる冷却流延方式の場合には、乾燥室の代わりにピンテンタに送り、ピンテンタで湿潤フィルムを乾燥させる。
ところで、近年の液晶ディスプレイ(LCD)の高精細化や、スマートフォン(多機能携帯電話)、タブレット型コンピュータなどのモバイル型端末装置の普及に伴って、これらの表示装置に用いられる光学フィルムには、今まで以上に表面に微細な突起や穴などが無いものが要求される。
これら光学フィルムの表面上の微細な突起や穴などの欠陥については、特許文献1に記載されているように、連続走行するフィルムにその幅方向に光ビームを走査し、フィルムを透過もしくは反射した検査光を光ビームの径以下のスリット幅をもち、光ビームの走行方向と平行に配置した受光窓を通して受光器に入射させ、この受光器からの光電変換出力により被検査体の表面欠陥を検査している。また、特許文献2では、検査光のビーム径に対してスリットの開口幅をその(1/10)以上(2/3)以下の範囲に設定して、表面欠陥を精度良く検査している。
特開平6−207910号公報 特開平8−261949号公報 韓国特許公開公報第2009−110082号公報
しかしながら、上記特許文献1及び2のものでは、製品としてのフィルムの欠陥を検査するものである。そして、欠陥検査データに基づきフィルム上の欠陥部分を特定し、表示装置などにこの欠陥部分が使用されることがないように表示する。製品化に際しては、欠陥部分を除外して使用する。したがって、上記特許文献1及び2のものでは、欠陥部分の使用は避けられるものの、フィルム自体の欠陥部分を少なくするという根本的な解決は図られていない。
溶液製膜方法では、流延支持体に流延した流延膜を剥がして乾燥しフィルムとする関係上、フィルムの面状態は、流延支持体の面状態に依存する。したがって、流延支持体の製造段階において、その面状態を検査し、微細な凹凸が発見されると、凸の場合にはこの部分を研磨し、凹の場合にはスポット溶接した後に研磨して、製品としてのフィルムに微細な欠陥が発生することがないように、微細な凹凸を無くす表面仕上げを行う。
従来では、このような流延支持体の検査は、熟練した検査者が表面を目視により観察し、微細な凹凸欠陥を発見する。しかしながら、LCDの高精細化や、スマートフォン、タブレット型コンピュータなどのモバイル型端末装置の普及に伴って、これら装置に用いられる光学フィルムの品質要求レベルは年々向上している。したがって、これまで、熟練者が行ってきた面状態保証に求められる欠陥サイズが目視レベルを下回るものになってきている。このため、熟練者による検査に限界が出てきており、新たな流延支持体の検査方法が求められている。
また、近年のLCDの大画面化の要請により、溶液製膜における流延支持体も広幅のものが求められている。しかしながら、流延支持体の材料である帯鋼はその幅が帯鋼の製造ラインの設備幅によって限界があり、広幅化には容易に対応することができない。このため、特許文献3に記載のように、従来の流延支持体の両側に新たな側板を縦溶接し、側板分だけ幅を広げた縦溶接バンドも提案されている。また、従来の流延バンドにあっても、エンドレスバンドを製造する際に帯鋼の両端部を幅方向に溶接(横溶接)し、環状に連結している。このため、従来の流延バンドでも、幅方向に延びた横溶接ラインが存在する。このような縦溶接ラインや横溶接ラインなどの溶接部を含む流延バンドでは、流延バンドの納入時に、熟練者による厳重なる表面の欠陥検査が行われている。そして、溶接部のピンホールやクラックは厳重な検査によって発見され、この発見された欠陥はスポット溶接やその後の研磨等の仕上げ処理によって、消滅する。したがって、溶液製膜設備に流延バンドとして導入直後には、フィルムの欠陥として面写りするサイズの欠陥は排除されており、得られるフィルムに微細な凹凸欠陥が現れることはない。
しかしながら、溶液製膜後の研磨補修などによって流延バンドが研磨されると、流延バンドの納入時には微小であり、欠陥と判定されなかった例えば壺状のピンホール等の場合には、研磨によってピンホールが大きく開口することになって欠陥に発展する場合もある。したがって、流延バンドの納入時における面欠陥の検査では、後の研磨補修も考慮して、研磨後に欠陥に発展する壺状の微細なピンホールも欠陥として判定する必要があり、熟練者による目視検査に代わる検出精度が高い検査方法や検査装置の開発が望まれている。
このため、上記特許文献1及び2のようなフィルムを対象とした欠陥検査方法を流延支持体の表面の欠陥検査に適用することも可能である。しかしながら、流延バンドや流延ドラムのような流延支持体は鏡面仕上げとなっており、フィルムに対するような欠陥検出方法をそのまま適用しても、表面の欠陥を精度よく検出することができないという問題がある。
本発明はこのような課題を解決するものであり、流延支持体の微細な凹凸による欠陥を精度良く検査することができる流延支持体の表面検査装置及び方法並びに溶液製膜方法を提供することを目的とする。
本発明の流延支持体の表面検査装置は、連続走行する流延支持体に対してその幅方向にレーザーを走査するスキャナと、流延支持体で反射したレーザーを光電変換するレシーバと、レシーバからの光電変換信号を二値化し、この二値化信号に基づき欠陥を検出し、検出した欠陥が予め設定されている値よりも大きい場合に欠陥と判定する欠陥判定部とを有する。流延支持体は、1対の支持ドラムに巻き掛けられたエンドレスな流延バンド及び流延ドラムのいずれか一方であり、レーザーによる走査ラインは支持ドラムに巻き掛けられた流延バンド部分及び流延ドラムの周面のいずれか一方に形成される。これにより、支持ドラムにより支持された流延バンドや流延ドラムに対してレーザーを照射するため、流延バンドが振動することが少なくなり、精度のよい欠陥検出が可能になる。
レシーバは、流延支持体で反射したレーザーの走査ラインに沿って配されるスリット開口を持つ遮光板を有する。走査ラインが形成される流延支持体の曲率半径は100mm以上4000mm以下であり、流延支持体から遮光板までの距離は40mm以上100mm以下であり、レーザーの流延支持体上のスポット径が20μm以上50μm以下であり、スリット開口のスリット幅はスポット径に対して30倍以上200倍以下である。
スキャナとレシーバとを流延支持体に対し位置決めする位置決めユニットを備える。位置決めユニットは、流延支持体に対面するように配されるフレームと、レーザーの流延支持体上における走査ラインと平行なX軸の回りにスキャナを回動し、任意回動位置でスキャナを固定するスキャナ保持部と、流延支持体から反射したレーザーをスリット開口で受けるように、レシーバをX軸回りに回動し、任意回動位置でレシーバを固定するレシーバ保持部とを有する。これにより、検査対象である流延支持体に対して、スキャナ及びレシーバを迅速に位置決めすることができる。
スキャナ及びレシーバをX軸に直交するY軸に沿って並べてスキャナ保持部及びレシーバ保持部を一体化し、この一体化したスキャナ保持部及びレシーバ保持部を、X軸及びY軸を含むXY面に直交するZ軸回りに回動し、任意回動位置でスキャナ保持部及びレシーバ保持部をフレームに固定するスキャナ及びレシーバの回動保持部を有する。これにより、スキャナ及びレシーバをY軸に対して傾斜して配置させることができ、流延支持体の走行方向に沿った縦スジからなる微細な凹凸を検出することができる。この縦スジからなる微細な凹凸はその形状からストリア(stria)と称している。このストリアは流延バンドの素材自体の結晶構造に起因して発生すると思われる。結晶構造によって硬度差の分布が発生し、研磨によって軟らかい部分が深く研磨され、固い部分が浅く研磨される。従来はこれを検査者の目視によって確認しているだけであり、基準となる指標が得られていない状態であった。スキャナ及びレシーバをY軸に対して傾斜して配置させることにより、微細な縦スジであるストリアを画像としてとらえることや、各画素の輝度レベルから各ストリアの深さの表示も可能となり、基準とする指標の作成も可能になる。
スキャナ保持部は流延支持体における設計時走査ラインを中心にスキャナを回動し、レシーバ保持部は設計時走査ラインを中心にレシーバを回動することが好ましい。なお、設計時走査ラインとは、スキャナからのレーザーが流延支持体の表面で反射し、この反射光がレシーバに到達する設計時走査ラインのことを言い、この設計時走査ラインを検査対象の流延支持体の表面に位置決めユニットにより合わせることで、スキャナ及びレシーバが正規検査位置に精度良く設定される。スキャナ及びレシーバの回動保持部をY軸方向でフレームに対し移動自在に保持するY軸スライド部と、フレームをX軸回りに回動し、任意回動位置でフレームを固定するフレームX軸回動保持部と、フレームX軸回動保持部をZ軸方向に移動自在に保持するZ軸スライド部とを有することが好ましい。これらスライド部や回動保持部を有することにより、流延支持体の湾曲度合いに応じて、その適宜位置での表面検査が可能になる。
さらに、Z軸スライド部をX軸方向に移動自在に保持するX軸スライド部を有することが好ましい。この場合には、スキャナによる走査ライン長さが流延支持体の幅に対して短い場合に、流延支持体の幅方向であるX軸方向にスキャナ及びレシーバを移動することにより、流延支持体の全面について表面検査が可能になる。
流延支持体上で離間する二点にスポット光を照射して、レーザーの走査方向を決定するレーザーポインタを有することが好ましい。この場合には、このレーザーポインタで照射されたスポット光上にスキャナの走査光が位置するように、位置決めユニットの各部を微調整することにより、被検査面に触れる事なく精度よくスキャナやレシーバの位置合わせが可能になる。
本発明の流延支持体の表面検査方法は、連続走行する流延支持体に対してその幅方向にスキャナによりレーザーを走査し、流延支持体で反射したレーザーをレシーバにより光電変換し、この光電変換信号を二値化し、この二値化信号に基づき欠陥を検出し、検出した欠陥が予め設定されている値よりも大きい場合に欠陥と判定する流延支持体の表面検査方法であって、流延支持体は、1対の支持ドラムに巻き掛けられたエンドレスな流延バンド及び流延ドラムのいずれか一方であり、レーザーによる走査ラインは支持ドラムに巻き掛けられた流延バンド部分及び流延ドラムの周面のいずれか一方に形成され、レシーバは、流延支持体で反射したレーザーの走査ラインに沿って配されるスリット開口を持つ遮光板を有し、走査ラインが形成される流延支持体の曲率半径は100mm以上4000mm以下であり、流延支持体から遮光板までの距離は40mm以上100mm以下であり、スキャナとレシーバとは流延支持体に対し位置決めユニットにより位置決めされ、レーザーの流延支持体上における走査ラインと平行なX軸の回りにスキャナを回動し、任意回動位置でスキャナを固定するスキャナ保持ステップと、流延支持体から反射したレーザーをスリット開口で受けるように、レシーバをX軸回りに回動し、任意回動位置でレシーバを固定するレシーバ保持ステップと、スキャナ及びレシーバをX軸に直交するY軸に沿って並べてスキャナ及びレシーバを一体化し、これらスキャナ及びレシーバを、X軸及びY軸を含むXY面に直交するZ軸回りに回動し、スキャナとレシーバとを結ぶ中心線がY軸に対して任意の傾斜角度となるように、スキャナ及びレシーバを保持するスキャナ及びレシーバの回動保持ステップとを含むことを特徴とする。
スキャナ及びレシーバの回動保持ステップの後に、スキャナ及びレシーバをY軸方向に移動自在に保持するY軸スライドステップと、Y軸スライドステップを経たスキャナ及びレシーバをX軸回りに回動した後に任意回動位置で固定するフレームX軸回動保持ステップと、フレームX軸回動保持ステップを経たスキャナ及びレシーバをXY面に交差するZ軸方向で移動自在に保持するZ軸スライドステップとを含むことが好ましい。
本発明の溶液製膜方法は、上記流延支持体の表面検査方法により適正と評価された流延支持体を用い、この流延支持体上に流延ダイからポリマー及び溶剤を含むドープを流して流延膜を形成し、この流延膜から前記溶剤を蒸発させて湿潤フィルムとして剥ぎ取ることを特徴とする。
本発明によれば、従来は人手による目視検査に頼っていた流延支持体の欠陥検査を精度良く自動的に行うことができる。これにより、微細な凹凸による欠陥が少ない溶液製膜が可能になる。スキャナ及びレシーバをY軸に対して傾斜して配置させることにより、微細な縦スジであるストリアを画像としてとらえることや、各画素の輝度レベルから各ストリアの深さの表示も可能となる他に、基準とする指標の作成も可能になる。
本発明の表面検査装置の使用状態を示す側面図である。 検査原理を説明する側面図である。 図2AにおけるエリアA1の正面図である。 位置決めユニットの概略構成を示す側面図である。 同正面図である。 同背面図である。 同フローチャートである。 溶液製膜設備の概略構成を示す側面図である。
図1に示すように、流延支持体の表面検査装置10は、流延支持体11、例えば1対の支持ドラム12間に巻き掛けたエンドレスの流延バンド11aの表面を検査し、微細なピンホールやストリアなどの欠陥を見つける。このため、表面検査装置10は、スキャナ15、レシーバ16、欠陥判定部17(図2A参照)、位置決めユニット18を備え、可搬タイプとして構成されている。したがって、測定する場所に移動して、適宜タイミングで欠陥検査を行うことができる。例えば、溶液製膜設備の流延室の他に、流延支持体メーカーの工場などの適宜場所にて測定が可能になる。
図2Aに示すように、スキャナ15は、連続走行する流延支持体11に対してその幅方向にレーザー20を走査する。レシーバ16は、流延支持体11で反射したレーザー20を光電変換する。レシーバ16からの光電変換信号はケーブル22によって欠陥判定部17に送られる。欠陥判定部17は、光電変換信号を二値化し、この二値化信号に基づき欠陥候補を検出する。そして、検出した欠陥候補が予め設定されているしきい値(基準値)よりも大きい場合に欠陥と判定する。判定された欠陥は、その位置データとともに、メモリに記憶される。この欠陥位置データは、オペレータによって、メモリから読み出すことができる。この場合にはディスプレイ17aに、流延支持体の位置データとともに、欠陥画像やその欠陥画像部の輝度差信号をグラフ化したものが表示される。
本実施形態では、欠陥検査位置を、支持ドラム12に巻き掛けられている部位の流延バンド11aとしている。これにより、支持ドラム12に密着した状態で流延バンド11aが保持される。したがって、厚み方向(Z軸方向)に流延支持体11が振れることがなく、精度の良い欠陥検査が可能になる。なお、本実施形態では、欠陥検査位置でのレーザー20による走査ラインSLに平行な水平軸をX軸とし、これに交差する鉛直軸をY軸とし、これらX軸及びY軸を含むXY面に直交する軸をZ軸として、位置決めユニット18の構成を説明する。
本実施形態のスキャナ15、レシーバ16、欠陥判定部17などの詳細な構成は、特許文献1、2などに記載の従来のものと基本的には同じである。ただし、欠陥検査対象物が鏡面仕上げされた金属(例えばSUS316製)バンド11aからなる流延支持体11である点で、レシーバ16の遮光板21の構成が従来のものと異なり、本願独自の構成となっている。
スキャナ15は、周知のように、レーザー発振器,レンズ群,ポリゴンミラー,光路折り曲げ用ミラーなどを有する。レーザー発振器から放射されたレーザーはレンズ群に入射し、そのスポット径が調節される。この後、ミラーを介して高速回転するポリゴンミラーに入射し、ここで反射する。この反射したレーザー20は、流延バンド11aの走行方向と直交する方向(X軸)の検査光となって、流延バンド11aを幅方向に走査する。
図2Bに示すように、スキャナ15から照射されたレーザー20は流延バンド11a上では一定のスポットとなる。レーザー20は、走査ラインSLの幅方向中心から流延バンド11aに対し垂直に伸ばした法線に対し、傾斜角度θ1にて流延バンド11aの走行方向上流からレーザー20を照射し、法線CL1に対して傾斜角度θ2にて流延バンド11aの走行方向下流にレーザー20を反射させている。したがって、図2Aにおけるスポット光が照射された流延バンド11a上のエリアA1を拡大して正面から見ると、図2Bのような状態になり、Y軸方向に長い楕円となる。本発明でいう流延バンド11a上でのスポット径Dsは、X方向には変化しない短軸径を言う。この流延バンド11a上でのレーザー20のスポット径Dsは20μm以上50μm以下である。スポット径Dsが20μm未満であると、検査範囲が狭くなり、好ましくない。また、スポット径Dsが50μmを超えると、欠陥検出の精度が低下し、好ましくない。
スキャナ15及びレシーバ16がY軸方向に一直線上に並べて配置されている関係で、走査ラインSLのレーザー20によるスポットは、スポット径Dsが大きい場合には、シリンドリカルな凸面鏡により、Y軸方向に反射するときに、スポットが円弧面の曲率分に応じて細長く拡散し、レシーバ16の受光面では略楕円状になる。しかし、スポット径Dsが20μm以上50μm以下と微小なため、スポットが照射された流延バンド部分は略平面状であり、凸面鏡としての作用は微小であり、無視することができる。
流延バンド11aで反射したレーザーは、レシーバ16に入る。レシーバ16は遮光板21を有する。遮光板21にはスリット開口21aが形成されている。このスリット開口21aは、流延バンド11aで反射したレーザーの走査ラインと平行に配される。
スリット開口21aの幅Wsは、支持ドラム12の半径Rd、流延バンド11aからレシーバ16の遮光板21までの距離Lrや、スポット径Dsに応じて決定される。例えば、支持ドラム12の半径Rdが100mm以上4000mm以下の場合で、流延バンド11aからレシーバ16の遮光板21までの距離Lrが40mm以上100mm以下である場合には、スポット径Dsの30倍以上200倍以下であることが好ましい。特に好ましくは、支持ドラム12の半径Rdが800mm以上3000mm以下のときには、スポット径Dsの50倍以上150倍以下である。
スリット開口21aのスリット幅Wsがスポット径Dsに対し、30倍未満であると流延支持体で反射したレーザーがスリット開口21aに入光しないことがあり、欠陥検出の精度が低下する。また、スリット幅Wsがスポット径Dsに対し200倍を越えると、コントラストがの低下し、同じく欠陥検出の精度が低下するので好ましくない。
図1に示すように、位置決めユニット18は、支持ドラム12に巻き掛けられた部位の流延バンド11aや、流延ドラム(図示せず)などの任意の検査対象面に対し、スキャナ15及びレシーバ16を正確に位置決めすることができるように、構成されている。このため、図3に示すように、位置決めユニット18は、フレーム31と、このフレーム31に取り付けられるスキャナ保持部32、レシーバ保持部33、Z軸回動保持部(スキャナ及びレシーバの回動保持部)34、Y軸スライド部35、X軸回動保持部36、Z軸スライド部37、X軸スライド部38、レーザーポインタ39(図1参照)を有する。
図4,図5に示すように、フレーム31は矩形枠に形成されており、図1に示すように流延バンド11aに対面するように配される。図3に示すように、フレーム31には、スキャナ保持部32,レシーバ保持部33,Z軸回動保持部34,Y軸スライド部35が配される。そして、スキャナ15は、スキャナ保持部32,Z軸回動保持部34,Y軸スライド部35により、フレーム31に取り付けられる。同様にして、レシーバ16は、レシーバ保持部33,Z軸回動保持部34,Y軸スライド部35により、フレーム31に取り付けられる。
図4に示すように、スキャナ保持部32は、1対の側板40と1対の支持板41とを有する。側板40は、スキャナ15を両側から挟持固定する。支持板41は側板40を両側から支持するもので、Z軸方向に延びるように背板42から突出して形成されている。
図1に示すように、支持板41には、2個の円弧状長孔43が形成してある。円弧状長孔43は、欠陥検査位置にセットされた検査状態のときに、流延バンド11a上の走査ラインSL(以下、単に走査ラインSLという)を中心とする円上に形成されている。これら円弧状長孔43は、円上で離間して形成されている。なお、図1において走査ラインSLは紙面に直交する方向であるため、点として描かれている。
側板40には、取付ネジ44が取り付けられる。取付ネジ44は、各長孔43に入り、この長孔43内を移動する。そして、長孔43内で取付ネジ44の位置を変更することにより、スキャナ15からのレーザー20の流延支持体11に対する入射角度θ1が変更可能になる。長孔43は例えば15°の角度分の長さで形成してある。これにより、スキャナ15からのレーザーの入射角度θ1を、走査ラインSLを中心として15°の角度範囲で変更することができる。取り付け角度の変更後は、取付ネジ44を締める方向に回すことにより、側板40を支持板41に固定することができる。
同様にして、図3に示すように、フレーム31には、レシーバ16がレシーバ保持部33,Z軸回動保持部34,Y軸スライド部35により、取り付けられる。図4に示すように、レシーバ保持部33は、スキャナ保持部32と同様な構成であり、レシーバ16が固定される1対の側板45と、この側板45が取り付けられる1対の支持板46とを有する。支持板46はZ軸方向に突出するように背板42に取り付けられている。
図1に示すように、支持板46には2個の円弧状長孔47が形成してある。これら円弧状長孔47は、検査位置にセットされた検査状態のときに、流延バンド11a上の走査ラインSLを中心とした同心円上に形成されるもので、これらは離間して2個形成されている。
側板45には、取付ネジ48が取り付けられる。取付ネジ48は、各長孔47に入り、この長孔47内を移動する。そして、長孔47内で取付ネジ48の位置を変更することにより、流延バンド11aで反射するレーザー20の反射角度θ2が変更される。長孔47は15°の角度分の長さで形成してあり、走査ラインSLを中心としてレシーバ16を15°の角度範囲で取付角度を変更することができる。取り付け角度の変更後は、取付ネジ48を締める方向に回すことにより、側板45を支持板46に固定することができる。
両側板45の外側面には、レーザーポインタ39が取り付けられている。レーザーポインタ39は、走査ラインSLの両端部に向けてレーザーを照射する。このレーザーポインタ39により流延バンド11a上に投影されたポイントと、スキャナ15の走査ラインとが重なるように、各部32,33,34,35の固定位置を調節して位置合わせする。両者が流延バンド11a上で重なり合うことにより、スキャナ15による走査ラインと、レシーバ16による受光ラインとが流延バンド11a上で同一位置となり、スキャナ15及びレシーバ16の位置決めが完了する。
図5に示すように、背板42には2個の取付ネジ52が取り付けられる。この取付ネジ52により、背板42はY軸スライド部35の支持板54に取り付けられる。支持板54には2個の円弧状長孔55が形成してある。2個の円弧状長孔55は、走査ラインSLの幅方向中間位置を通るZ軸に平行な走査中心線CL1を中心とする円に沿って形成されている。この円弧状長孔55内に取付ネジ52が入り、背板42は、走査中心線CL1を中心として、長孔55の長さ分である90度の角度で回動可能になる。そして、取付ネジ52を回して締めつけることにより、背板42を走査中心線CL1の回りに90°の角度範囲内で任意の取付角度で支持板54に固定することができる。
これら背板42、支持板54、2個の円弧状長孔55、取付ネジ52によって、Z軸回動保持部34が構成される。
支持板54の2個の円弧状長孔55の両側にはY軸方向に長い長孔60が形成してあり、これに取付ネジ61が入れられる。フレーム31の内側で両サイドには基板62が取り付けられている。この基板62には、支持板54の長孔60に対応する位置にネジ孔63が形成してある。取付ネジ61は長孔60内に挿入された後に、ネジ孔63に取り付けられる。このように長孔60及び取付ネジ61により支持板54が、フレーム31の基板62に取り付けられるため、支持板54をY軸方向で長孔55の長さ分だけスライドさせることができる。したがって、スキャナ15及びレシーバ16を一体化した状態でY軸方向に移動させることができる。これら支持板54、長孔60、取付ネジ61、基板62、ネジ孔63によってY軸スライド部35(図3参照)が構成される。
図1に示すように、フレーム31の下端部は基台65の一端部でX軸方向の取付軸66により、X軸回りに回動自在に取り付けられている。基台65は、水平方向に長い矩形枠から構成されている。
基台65とフレーム31との間には、揺動規制レバー67が斜めに取り付けられている。揺動規制レバー67は、一端部が基台65の一端近くに、取付軸68により揺動可能に取り付けられている。また、揺動規制レバー67の他端部には、長手方向に長孔69が形成してある。この長孔69内には、取付ネジ70が入れられる。取付ネジ70はフレーム31にネジ止めされる。したがって、取付ネジ70を弛めて取付軸68を中心にフレーム31を回動し、フレーム31をX軸回りに任意の傾斜で取り付けることができる。これら取付軸68及び揺動規制レバー67、取付ネジ70によって、X軸回動保持部36(図3参照)が構成される。
基台65の下面にZ軸スライド部37が設けられている。Z軸スライド部37は、基台65を図示しないレールによりZ軸方向に移動案内する。
Z軸スライド部37の底板には自在車輪75が取り付けられている。また、Z軸スライド部37のZ軸方向先端部には、ガイド部材76が配される。このガイド部材76は、X軸方向に延びており、支持ドラム12の下方位置で、支持ドラム12の軸に平行に取り付けられる。ガイド部材76にはZ軸スライド部37の先端が係合する。したがって、Z軸スライド部37は、ガイド部材76によってX軸方向に案内されて自在車輪75により移動する。
Z軸スライド部37には支柱80を介して、除塵装置81が取り付けられている。除塵装置81は、イオナイザを有する送風機を備え、流延バンド11aに付着した塵埃を吹き飛ばす。なお、除塵装置81は、支柱80を介してZ軸スライド部37に取り付けたが、この他に、フレーム31の上下端部に取り付けてもよい。この場合には、流延バンド11aの走行方向が図1に示す反時計方向の場合には、フレーム31の下端部近くに取り付け、時計方向の場合にはフレーム31の上端部近くに取り付ける。
次に、図6に示すフローチャートを参照しながら、本実施形態の作用を説明する。使用に際しては、検査対象物である流延バンド11aが設置されている設備に、表面検査装置10を搬入する。本実施形態では、新たな流延バンド11aのメーカーからの受け入れ前の最終検査に実施した場合で説明する。なお、この他に、溶液流延設備(図7参照)に流延バンド11aを取り付けて、溶液製膜を行い、定期的な修理時に、流延バンド11aの表面欠陥を検査する場合に、本発明装置を用いてもよい。
まず、検査対象部位の近くで、先ずX軸方向にガイド部材76を取り付ける。このガイド部材76にZ軸スライド部37を取り付けて、X軸方向にZ軸スライド部37を移動自在とする。
Z軸スライド部37やY軸スライド部35をスライドさせて、スキャナ15及びレシーバ16を流延バンドの走査ラインに位置決めする。この時、レーザーポインタ39で走査ラインSL上の例えば両端部近くの二点にレーザーを照射し、スポットを形成する。次に、スキャナ15をONにして、レーザー20による走査を行うと、流延バンド11aの表面上に、例えば赤色レーザーにより走査ラインSLが表示される。この走査ラインSLがレーザーポインタ39による例えば赤色スポット光と重なるように、Y軸スライド部35、Z軸スライド部37、X軸回動保持部36などを微調整する。
スキャナ保持部32及びレシーバ保持部33は、設計走査ラインに合わせて入射角θ1と出射角θ2とが流延バンド面に対する法線CL1に対して45度振り分けとなるように設定されている。したがって、X軸回動保持部36、Y軸スライド部35、Z軸スライド部37を微調整して、図1に示すような位置関係になると、レシーバ16へ入射する信号レベルが検査可能レベルになっていることを自動判定し、位置決め完了をディスプレイ17aやアラームなどによりオペレータに知らせる。このため、欠陥判定部17には、位置決めのための受光信号レベルが適正か否かを判定する位置決め判定モードが選択可能になっている。
また、除塵装置81の向きや位置を変更し、流延バンド11a上の塵埃などが走査ラインSLの位置に到達することがないように、吹き飛ばす。なお、この吹き飛ばした塵埃を吸入する吸入機を塵埃装置の近くに設けてもよい。
流延バンド11aを支持する支持ドラム12の直径が変更になった場合や特殊な欠陥を検査する場合などで、入射角θ1や出射角θ2を変更する必要がある場合には、スキャナ保持部32やレシーバ保持部33の取り付け位置を変更して微調整を行う。この場合には、それぞれの取付ネジ44,48を弛めて、各保持部32,33の取付角度を変更する。
以上のようにして、レーザーポインタのスポット光により流延バンド上の所望の走査ラインに対して、設計走査ラインを合わせて、位置決めが完了すると、欠陥検査を行う。この欠陥検査では、流延バンドを0.5m/min以上5.0m/min以下の範囲内で一定速度、例えば1.0m/minで走行させることができる。
スキャナ15からは例えば赤色レーザー光が照射され、この赤色レーザー光は流延バンド11aの表面で反射し、レシーバ16に入射する。このとき、遮光板21のスリット開口21aが流延バンド11a状のスポット径Dsに対応させて30倍以上200倍以下に設定されているので、欠陥検査に必要十分な受光量を得られ、精度の良い検査が可能である。
受光信号からの欠陥検査は周知の方法を用いている。例えば、欠陥判定部17では、レシーバ16からの光電変換信号をAGC回路(オート・ゲイン・コントロール回路)、二値化回路を介して欠陥検出部27に送り、欠陥の有無を判定する。そして、欠陥と判定されたときには、この欠陥信号とその位置データとがデータ処理部に送られる。この欠陥信号と位置データとはデータ処理部内のメモリに記憶されて、種々のデータ加工が行われる。また、必要に応じてディスプレイ17aに表示される他にプリンタ(図示せず)を用いてプリントが行われる。そして、この欠陥情報に基づき、欠陥を無くすような仕上げ処理が行われる。例えば、凸状欠陥の場合には研磨処理が、ピンホールやクラックなどの凹状欠陥の場合にはスポット溶接後の研磨処理などが行われて、欠陥を無くす処理が行われる。そして、このような仕上げ処理の後に、再度欠陥検査が行われることにより、欠陥の有無が判定される。このように、欠陥が無くなるまで、検査処理が行われる。
なお、流延バンド11aとしては、従来のように、横溶接ラインのみを有する通常幅サイズのものや、中央部材と側部材とを縦溶接により接合して、幅方向に広くした幅広サイズのものなどがあり、いずれのものであっても良い。特に、縦溶接バンドのように、溶接ラインがバンドの周長の2倍の長さを有するものである場合に、検査者の負担を軽減することができる。
上記実施形態では、長孔内での取付ネジの固定位置を変えることで、スキャナ及びレシーバの走査ラインに対する取付角度の変更や、X軸、Y軸、Z軸方向でのスライド位置を変更するようにしたが、長孔や取付ネジによる位置決めの他に、取付軸による揺動角度の調整などにより行うようにしてもよい。また、微調整に際して、ネジの螺合により回転運動を直線運動に変換するアジャスト機構などを用いてもよい。また、これらアジャスト機構をモータにより回転させて自動的に位置決めしてもよい。
なお、図1に示すように、レシーバ保持部33の側板45の外周面にレーザーポインタ39を設けたが、これは、表面検査装置10とは別個に設けてもよい。
(溶液製膜設備)
以上のようにして欠陥検査に合格した流延バンド11aは溶液製膜設備100に設置されて、溶液製膜が行われる。図7に示すように、溶液製膜設備100は、流延装置101と、第1テンタ102と、ロール乾燥装置103と、第2テンタ104と、スリッタ105と、巻取装置106とを上流側から順に直列に接続して構成される。ポリマーの種類は特に限定されず、溶液製膜でフィルムにすることができる公知のポリマーを用いてよい。以下の実施形態では、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いた場合を例にして説明する。
流延装置101は、ドラム111,112に掛け渡された流延バンド11aと、流延ダイ114と、ダクト(膜固化機)115と、減圧チャンバ116と、剥ぎ取りロール117とを備える。流延バンド11aは、環状に形成されたエンドレスの金属製流延支持体であり、第1ドラム111と第2ドラム112との周面に掛け渡される。この流延バンド11aは、上記表面検査装置10により欠陥が無いものと評価されたものである。第1ドラム111はモータ(図示省略)により回転駆動され、これにより流延バンド11aが矢印Aで示す第1方向に走行する。
第1ドラム111の上方には流延ダイ114が配置される。流延ダイ114は、走行している流延バンド11aに対し、ドープ120を連続的に流す。これにより、流延バンド11a上には流延膜121が形成される。ドープ120は、例えばセルロースアシレートを溶剤に溶解したものであり、図示しないドープ製造ラインで製造され、流延ダイ114に供給される。
流延ダイ114からのビード124に対して、流延バンド11aの走行方向における上流には、減圧チャンバ116が設けられる。この減圧チャンバ116は、ビード124の上流側エリアの雰囲気を吸引して前記エリアを減圧し、ビード124の振動を減少させる。
製造速度を向上するために、剥ぎ取りロール117に向かう流延膜121は、第2ドラム112及び流延バンド11aにより加熱される。また、流延位置では、流延バンド11aが過度に昇温することがないように、第1ドラム111により流延バンド11aが冷却される。このため、各ドラム111,112は図示しない温度調節装置を有する。
ダクト115は流延バンド11aの走行路に沿って、複数が並べて設けられる。各ダクト115はそれぞれ送風機を有する温風コントローラ(共に図示無し)に接続され、流出口から乾燥風を吹き出す。温風コントローラは、乾燥風の温度、湿度、流量を独立して制御する。乾燥風の温度及び流量の制御と、ドラム111,112自体の温度調節装置による温度制御とにより、流延膜121の温度が調節され、流延膜121の乾燥が進行する。そして、第1テンタ102での搬送が可能な程度にまで流延膜121が固化されて自己支持性が付与される。なお、ダクト115に代えて又は加えて、他のヒータなどによって膜固化機を構成してもよい。
第1ドラム111の流延ダイ114の走行方向上流側には、剥ぎ取りロール117が設けられる。剥ぎ取りロール117は、溶剤を含む状態の乾燥が進行した流延膜121を流延バンド11aから剥がす際に、流延膜121を支持する。剥ぎ取られた流延膜121、すなわちフィルム122は、第1テンタ102に案内される。
第1テンタ102では、クリップ123によりフィルム122の両側縁部を把持して、フィルム122を搬送しながら、フィルム幅方向への張力を付与し、フィルム122の幅を拡げる。第1テンタ102には、上流側から順に、予熱エリア、延伸エリア、及び緩和エリアが形成される。なお、緩和エリアは必要に応じて設けられる。
第1テンタ102は、1対のレール及びチェーン(共に図示無し)を有する。レールはフィルム122の搬送路の両側に、所定の間隔で離間して配される。このレール間隔は、予熱エリアでは一定であり、延伸エリアでは下流に向かうに従って次第に広くなり、緩和エリアでは一定、または下流に向かうに従って次第に狭くなっている。チェーンには一定間隔でクリップ123が取り付けられる。
予熱エリア、延伸エリア、緩和エリアは、ダクト115からの乾燥風の送り出しによって空間として形成されるもので、これら各エリアの間に明確な境界はない。ダクト115のスリットからは、所定の温度や湿度に調整した乾燥風がフィルム122に向けて送られる。
ロール乾燥装置103では、多数のロール126にフィルム122が巻き掛けられて搬送される。ロール乾燥装置103の内部の雰囲気は、温度や湿度などが図示しない温調機により調節されており、フィルム122が搬送されている間に、フィルム122から溶剤が蒸発する。
第2テンタ104は、第1テンタ102と同様の構造であり、クリップ128及びダクト129を有する。第2テンタ104は、フィルム122をクリップ128により保持して延伸する。この延伸により、所望の光学特性を有するフィルム122となる。得られるフィルム122は、例えば液晶ディスプレイ用の位相差フィルムとして利用することができる。なお、フィルム122の光学特性によっては、第2テンタ104は用いなくてもよい。
スリッタ105は、第1テンタ102や第2テンタ104の各クリップ123,128による保持跡を含む側部を切除する。側部が切除されたフィルム122は、巻取装置106によりロール状に巻き取られる。本発明により得られるフィルムロール126は、特に、位相差フィルムや偏光板保護フィルムに用いることができる。
なお、流延バンド11aの幅は、例えば、ドープ120の流延幅の1.1倍以上2.0倍以下であることが好ましい。流延バンド11aの長さは、例えば、20m以上200m以下であることが好ましい。流延バンド11aの厚みは、例えば、0.5mm以上2.5mm以下であることが好ましい。流延バンド11aの厚みムラは、全体の厚みに対して0.5%以下のものを用いることが好ましい。また、流延膜121が形成される表面の表面粗さは0.05μm以下であることが好ましい。
製品としてのフィルムの幅は、600mm以上であることが好ましく、1400mm以上2500mm以下であることがより好ましい。また、本発明は、フィルムの幅が2500mmより大きい場合にも効果がある。またフィルムの膜厚は、10μm以上80μm以下であることが好ましい。
(ポリマー)
本発明に用いることのできるポリマーは、熱可塑性樹脂であれば特に限定されず、例えば、セルロースアシレート、ラクトン環含有重合体、環状オレフィン、ポリカーボネイト等が挙げられる。中でも好ましいのがセルロースアシレート、環状オレフィンであり、中でも好ましいのがアセテート基、プロピオネート基を含むセルロースアシレート、付加重合によって得られた環状オレフィンであある。
(セルロースアシレート)
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は1種類だけでも良いし、あるいは2種類以上のアシル基が使用されていても良い。2種類以上のアシル基を用いるときは、その1つがアセチル基であることが好ましい。セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、すなわち、アシル基の置換度が下記式(I)〜(III)の全てを満足するものが好ましい。なお、以下の式(I)〜(III)において、A及びBは、アシル基の置換度を表わし、Aはアセチル基の置換度、またBは炭素原子数3〜22のアシル基の置換度である。なお、トリアセチルセルロース(TAC)の90質量%以上が0.1mm〜4mmの粒子であることが好ましい。
(I) 2.0≦A+B≦3.0
(II) 1.0≦ A ≦3.0
(III) 0 ≦ B ≦2.9
アシル基の全置換度A+Bは、2.20以上2.90以下であることがより好ましく、2.40以上2.88以下であることが特に好ましい。また、炭素原子数3〜22のアシル基の置換度Bは、0.30以上であることがより好ましく、0.5以上であることが特に好ましい。
なお、セルロースアシレートの詳細については、特開2005−104148号の[0140]段落から[0195]段落に記載されている。これらの記載も本発明にも適用できる。また、溶剤及び可塑剤,劣化防止剤,紫外線吸収剤(UV剤),光学異方性コントロール剤,レターデーション制御剤,染料,マット剤,剥離剤,剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開2005−104148号の[0196]段落から[0516]段落に詳細に記載されている。また、セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター、パルプのいずれかから得られたものでもよい。
上記実施形態では、流延支持体として、流延バンドについて説明したが、これに代えて、ドラムを流延支持体としてもよい。この場合には、ドラムに対して上記表面検査装置10を用いて表面検査が行われる。また、支持ドラム12に巻き掛けられた流延バンド11aや流延ドラムに対して表面検査したが、この他に、支持ドラム12間の流延バンド11aに対して表面検査してもよい。
10 表面検査装置
11 流延支持体
11a 流延バンド
15 スキャナ
16 レシーバ
17 欠陥判定部
21 遮光板
21a スリット開口
31 フレーム
32 スキャナ保持部
33 レシーバ保持部
34 Z軸回転保持部
35 Y軸スライド部
36 X軸回動保持部
37 Z軸スライド部
38 X軸スライド部
39 レーザーポインタ
41 支持板
42 背板
43,47,55,60 長孔
44,48,52,61 取付ネジ
62 基板
67 揺動規制レバー
75 自在車輪
76 ガイド部材
81 除塵装置
100 溶液製膜設備
101 流延装置

Claims (8)

  1. 連続走行する流延支持体に対してその幅方向にレーザーを走査するスキャナと、前記流延支持体で反射した前記レーザーを光電変換するレシーバと、前記レシーバからの光電変換信号を二値化し、この二値化信号に基づき欠陥を検出し、検出した欠陥が予め設定されている値よりも大きい場合に欠陥と判定する欠陥判定部とを有する流延支持体の表面検査装置であって、
    前記流延支持体は、1対の支持ドラムに巻き掛けられたエンドレスな流延バンド及び流延ドラムのいずれか一方であり、
    前記レーザーによる走査ラインは前記支持ドラムに巻き掛けられた流延バンド部分及び前記流延ドラムの周面のいずれか一方に形成され、
    前記レシーバは、前記流延支持体で反射した前記レーザーの走査ラインに沿って配されるスリット開口を持つ遮光板を有し、
    前記走査ラインが形成される前記流延支持体の曲率半径は100mm以上4000mm以下であり、前記流延支持体から前記遮光板までの距離は40mm以上100mm以下であり、
    前記レーザーの前記流延支持体上のスポット径が20μm以上50μm以下であり、
    前記スリット開口のスリット幅は前記スポット径に対して30倍以上200倍以下であり、
    前記スキャナと前記レシーバとを前記流延支持体に対し位置決めする位置決めユニットを備え、
    前記位置決めユニットは、前記流延支持体に対面するように配されるフレームと、
    前記レーザーの前記流延支持体上における走査ラインと平行なX軸の回りに前記スキャナを回動し、任意回動位置で前記スキャナを固定するスキャナ保持部と、
    前記流延支持体から反射した前記レーザーを前記スリット開口で受けるように、前記レシーバをX軸回りに回動し、任意回動位置で前記レシーバを固定するレシーバ保持部と、
    前記スキャナ及び前記レシーバをX軸に直交するY軸に沿って並べて前記スキャナ保持部及び前記レシーバ保持部を一体化し、この一体化した前記スキャナ保持部及び前記レシーバ保持部を、X軸及びY軸を含むXY面に直交するZ軸回りに回動し、前記スキャナと前記レシーバとを結ぶ中心線がY軸に対して任意の傾斜角度となるように、前記スキャナ保持部及び前記レシーバ保持部を前記フレームに固定するスキャナ及びレシーバの回動保持部とを有することを特徴とする流延支持体の表面検査装置。
  2. 前記スキャナ保持部は前記流延支持体における設計時走査ラインを中心にスキャナを回動し、前記レシーバ保持部は前記設計時走査ラインを中心にレシーバを回動することを特徴とする請求項1記載の流延支持体の表面検査装置。
  3. 前記スキャナ及びレシーバの回動保持部を前記Y軸方向で前記フレームに対し移動自在に保持するY軸スライド部と、
    前記フレームをX軸回りに回動し、任意回動位置で前記フレームを固定するフレームX軸回動保持部と、
    前記フレームX軸回動保持部をZ軸方向に移動自在に保持するZ軸スライド部とを有することを特徴とする請求項1又は2記載の流延支持体の表面検査装置。
  4. 前記Z軸スライド部をX軸方向に移動自在に保持するX軸スライド部を有することを特徴とする請求項3記載の流延支持体の表面検査装置。
  5. 前記流延支持体上で前記レーザーによる走査ライン上の両端部近くの二点にスポット光を照射して、前記レーザーの走査方向を決定するレーザーポインタを有することを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の流延支持体の表面検査装置。
  6. 連続走行する流延支持体に対してその幅方向にスキャナによりレーザーを走査し、
    前記流延支持体で反射したレーザーをレシーバにより光電変換し、この光電変換信号を二値化し、この二値化信号に基づき欠陥を検出し、検出した欠陥が予め設定されている値よりも大きい場合に欠陥と判定する流延支持体の表面検査方法において、
    前記流延支持体は、1対の支持ドラムに巻き掛けられたエンドレスな流延バンド及び流延ドラムのいずれか一方であり、
    前記レーザーによる走査ラインは前記支持ドラムに巻き掛けられた流延バンド部分及び前記流延ドラムの周面のいずれか一方に形成され、
    前記レシーバは、前記流延支持体で反射した前記レーザーの走査ラインに沿って配されるスリット開口を持つ遮光板を有し、
    前記走査ラインが形成される流延支持体の曲率半径は100mm以上4000mm以下であり、前記流延支持体から前記遮光板までの距離は40mm以上100mm以下であり、
    前記レーザーの前記流延支持体上のスポット径が20μm以上50μm以下であり、
    前記スリット開口のスリット幅は前記スポット径に対して30倍以上200倍以下であり、
    前記スキャナと前記レシーバとは前記流延支持体に対し位置決めユニットにより位置決めされ、
    前記レーザーの前記流延支持体上における走査ラインと平行なX軸の回りに前記スキャナを回動し、任意回動位置で前記スキャナを固定するスキャナ保持ステップと、
    前記流延支持体から反射した前記レーザーを前記スリット開口で受けるように、前記レシーバをX軸回りに回動し、任意回動位置で前記レシーバを固定するレシーバ保持ステップと、
    前記スキャナ及び前記レシーバをX軸に直交するY軸に沿って並べて前記スキャナ及び前記レシーバを一体化し、これらスキャナ及びレシーバを、X軸及びY軸を含むXY面に直交するZ軸回りに回動し、前記スキャナと前記レシーバとを結ぶ中心線がY軸に対して任意の傾斜角度となるように、前記スキャナ及び前記レシーバを保持するスキャナ及びレシーバの回動保持ステップとを含むことを特徴とする流延支持体の表面検査方法。
  7. 前記スキャナ及びレシーバの回動保持ステップの後に、前記スキャナ及びレシーバをY軸方向に移動自在に保持するY軸スライドステップと、
    前記Y軸スライドステップを経た前記スキャナ及びレシーバをX軸回りに回動した後に任意回動位置で固定するフレームX軸回動保持ステップと、
    前記フレームX軸回動保持ステップを経た前記スキャナ及びレシーバをXY面に交差するZ軸方向で移動自在に保持するZ軸スライドステップと
    を含むことを特徴とする請求項6記載の流延支持体の表面検査方法。
  8. 請求項6又は7記載の流延支持体の表面検査方法により適正と評価された流延支持体を用い、この流延支持体上に流延ダイからポリマー及び溶剤を含むドープを流して流延膜を形成し、この流延膜から前記溶剤を蒸発させて湿潤フィルムとして剥ぎ取ることを特徴とする溶液製膜方法。
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