JP5757921B2 - 流延支持体の表面検査装置及び方法並びに溶液製膜方法 - Google Patents
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Description
レシーバは、流延支持体で反射したレーザーの走査ラインに沿って配されるスリット開口を持つ遮光板を有する。走査ラインが形成される流延支持体の曲率半径は100mm以上4000mm以下であり、流延支持体から遮光板までの距離は40mm以上100mm以下であり、レーザーの流延支持体上のスポット径が20μm以上50μm以下であり、スリット開口のスリット幅はスポット径に対して30倍以上200倍以下である。
以上のようにして欠陥検査に合格した流延バンド11aは溶液製膜設備100に設置されて、溶液製膜が行われる。図7に示すように、溶液製膜設備100は、流延装置101と、第1テンタ102と、ロール乾燥装置103と、第2テンタ104と、スリッタ105と、巻取装置106とを上流側から順に直列に接続して構成される。ポリマーの種類は特に限定されず、溶液製膜でフィルムにすることができる公知のポリマーを用いてよい。以下の実施形態では、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いた場合を例にして説明する。
本発明に用いることのできるポリマーは、熱可塑性樹脂であれば特に限定されず、例えば、セルロースアシレート、ラクトン環含有重合体、環状オレフィン、ポリカーボネイト等が挙げられる。中でも好ましいのがセルロースアシレート、環状オレフィンであり、中でも好ましいのがアセテート基、プロピオネート基を含むセルロースアシレート、付加重合によって得られた環状オレフィンであある。
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は1種類だけでも良いし、あるいは2種類以上のアシル基が使用されていても良い。2種類以上のアシル基を用いるときは、その1つがアセチル基であることが好ましい。セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、すなわち、アシル基の置換度が下記式(I)〜(III)の全てを満足するものが好ましい。なお、以下の式(I)〜(III)において、A及びBは、アシル基の置換度を表わし、Aはアセチル基の置換度、またBは炭素原子数3〜22のアシル基の置換度である。なお、トリアセチルセルロース(TAC)の90質量%以上が0.1mm〜4mmの粒子であることが好ましい。
(I) 2.0≦A+B≦3.0
(II) 1.0≦ A ≦3.0
(III) 0 ≦ B ≦2.9
11 流延支持体
11a 流延バンド
15 スキャナ
16 レシーバ
17 欠陥判定部
21 遮光板
21a スリット開口
31 フレーム
32 スキャナ保持部
33 レシーバ保持部
34 Z軸回転保持部
35 Y軸スライド部
36 X軸回動保持部
37 Z軸スライド部
38 X軸スライド部
39 レーザーポインタ
41 支持板
42 背板
43,47,55,60 長孔
44,48,52,61 取付ネジ
62 基板
67 揺動規制レバー
75 自在車輪
76 ガイド部材
81 除塵装置
100 溶液製膜設備
101 流延装置
Claims (8)
- 連続走行する流延支持体に対してその幅方向にレーザーを走査するスキャナと、前記流延支持体で反射した前記レーザーを光電変換するレシーバと、前記レシーバからの光電変換信号を二値化し、この二値化信号に基づき欠陥を検出し、検出した欠陥が予め設定されている値よりも大きい場合に欠陥と判定する欠陥判定部とを有する流延支持体の表面検査装置であって、
前記流延支持体は、1対の支持ドラムに巻き掛けられたエンドレスな流延バンド及び流延ドラムのいずれか一方であり、
前記レーザーによる走査ラインは前記支持ドラムに巻き掛けられた流延バンド部分及び前記流延ドラムの周面のいずれか一方に形成され、
前記レシーバは、前記流延支持体で反射した前記レーザーの走査ラインに沿って配されるスリット開口を持つ遮光板を有し、
前記走査ラインが形成される前記流延支持体の曲率半径は100mm以上4000mm以下であり、前記流延支持体から前記遮光板までの距離は40mm以上100mm以下であり、
前記レーザーの前記流延支持体上のスポット径が20μm以上50μm以下であり、
前記スリット開口のスリット幅は前記スポット径に対して30倍以上200倍以下であり、
前記スキャナと前記レシーバとを前記流延支持体に対し位置決めする位置決めユニットを備え、
前記位置決めユニットは、前記流延支持体に対面するように配されるフレームと、
前記レーザーの前記流延支持体上における走査ラインと平行なX軸の回りに前記スキャナを回動し、任意回動位置で前記スキャナを固定するスキャナ保持部と、
前記流延支持体から反射した前記レーザーを前記スリット開口で受けるように、前記レシーバをX軸回りに回動し、任意回動位置で前記レシーバを固定するレシーバ保持部と、
前記スキャナ及び前記レシーバをX軸に直交するY軸に沿って並べて前記スキャナ保持部及び前記レシーバ保持部を一体化し、この一体化した前記スキャナ保持部及び前記レシーバ保持部を、X軸及びY軸を含むXY面に直交するZ軸回りに回動し、前記スキャナと前記レシーバとを結ぶ中心線がY軸に対して任意の傾斜角度となるように、前記スキャナ保持部及び前記レシーバ保持部を前記フレームに固定するスキャナ及びレシーバの回動保持部とを有することを特徴とする流延支持体の表面検査装置。 - 前記スキャナ保持部は前記流延支持体における設計時走査ラインを中心にスキャナを回動し、前記レシーバ保持部は前記設計時走査ラインを中心にレシーバを回動することを特徴とする請求項1記載の流延支持体の表面検査装置。
- 前記スキャナ及びレシーバの回動保持部を前記Y軸方向で前記フレームに対し移動自在に保持するY軸スライド部と、
前記フレームをX軸回りに回動し、任意回動位置で前記フレームを固定するフレームX軸回動保持部と、
前記フレームX軸回動保持部をZ軸方向に移動自在に保持するZ軸スライド部とを有することを特徴とする請求項1又は2記載の流延支持体の表面検査装置。 - 前記Z軸スライド部をX軸方向に移動自在に保持するX軸スライド部を有することを特徴とする請求項3記載の流延支持体の表面検査装置。
- 前記流延支持体上で前記レーザーによる走査ライン上の両端部近くの二点にスポット光を照射して、前記レーザーの走査方向を決定するレーザーポインタを有することを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の流延支持体の表面検査装置。
- 連続走行する流延支持体に対してその幅方向にスキャナによりレーザーを走査し、
前記流延支持体で反射したレーザーをレシーバにより光電変換し、この光電変換信号を二値化し、この二値化信号に基づき欠陥を検出し、検出した欠陥が予め設定されている値よりも大きい場合に欠陥と判定する流延支持体の表面検査方法において、
前記流延支持体は、1対の支持ドラムに巻き掛けられたエンドレスな流延バンド及び流延ドラムのいずれか一方であり、
前記レーザーによる走査ラインは前記支持ドラムに巻き掛けられた流延バンド部分及び前記流延ドラムの周面のいずれか一方に形成され、
前記レシーバは、前記流延支持体で反射した前記レーザーの走査ラインに沿って配されるスリット開口を持つ遮光板を有し、
前記走査ラインが形成される流延支持体の曲率半径は100mm以上4000mm以下であり、前記流延支持体から前記遮光板までの距離は40mm以上100mm以下であり、
前記レーザーの前記流延支持体上のスポット径が20μm以上50μm以下であり、
前記スリット開口のスリット幅は前記スポット径に対して30倍以上200倍以下であり、
前記スキャナと前記レシーバとは前記流延支持体に対し位置決めユニットにより位置決めされ、
前記レーザーの前記流延支持体上における走査ラインと平行なX軸の回りに前記スキャナを回動し、任意回動位置で前記スキャナを固定するスキャナ保持ステップと、
前記流延支持体から反射した前記レーザーを前記スリット開口で受けるように、前記レシーバをX軸回りに回動し、任意回動位置で前記レシーバを固定するレシーバ保持ステップと、
前記スキャナ及び前記レシーバをX軸に直交するY軸に沿って並べて前記スキャナ及び前記レシーバを一体化し、これらスキャナ及びレシーバを、X軸及びY軸を含むXY面に直交するZ軸回りに回動し、前記スキャナと前記レシーバとを結ぶ中心線がY軸に対して任意の傾斜角度となるように、前記スキャナ及び前記レシーバを保持するスキャナ及びレシーバの回動保持ステップとを含むことを特徴とする流延支持体の表面検査方法。 - 前記スキャナ及びレシーバの回動保持ステップの後に、前記スキャナ及びレシーバをY軸方向に移動自在に保持するY軸スライドステップと、
前記Y軸スライドステップを経た前記スキャナ及びレシーバをX軸回りに回動した後に任意回動位置で固定するフレームX軸回動保持ステップと、
前記フレームX軸回動保持ステップを経た前記スキャナ及びレシーバをXY面に交差するZ軸方向で移動自在に保持するZ軸スライドステップと
を含むことを特徴とする請求項6記載の流延支持体の表面検査方法。 - 請求項6又は7記載の流延支持体の表面検査方法により適正と評価された流延支持体を用い、この流延支持体上に流延ダイからポリマー及び溶剤を含むドープを流して流延膜を形成し、この流延膜から前記溶剤を蒸発させて湿潤フィルムとして剥ぎ取ることを特徴とする溶液製膜方法。
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