TW201403057A - 表面檢查裝置及方法、溶液製膜方法及設備 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種表面檢查裝置及方法、溶液製膜方法及設備。藉由表面檢查裝置檢查捲繞於1對支撐滾筒上之流延帶的表面。對捲繞於支撐滾筒上之部份的流延帶沿寬度方向掃描雷射。由接收機接收在流延帶反射之雷射。接收機藉由具有狹縫開口之遮光板遮擋不需要之光。利用定位單元將掃描儀及接收機定位到流延帶的檢查位置。能夠將掃描儀及接收機配置成與流延帶的圓弧面相對，且能夠高精度地檢查針孔等微小缺陷。

Description

表面檢查裝置及方法、溶液製膜方法及設備
本發明係有關一種流延支撐體的表面檢查裝置及方法、溶液製膜方法及設備。
具有透光性之熱塑性薄膜係輕質且易成形，因此作為光學薄膜而被廣泛利用。其中，利用纖維素醯化物等之纖維素酯類薄膜，以照片感光用薄膜為代表，作為近幾年市場需求不斷擴大之液晶顯示裝置的構成構件，即光學薄膜(例如，相位差薄膜或偏光板保護薄膜等)而被使用。
這種薄膜藉由溶液製膜方法進行製造。溶液製膜方法如下即使包含聚合物和溶劑之聚合物溶液(濃液)流至支撐體上來形成流延膜。接著，在流延膜固化至能夠傳送之程度之後，將其作為濕潤薄膜從支撐體剝下。然後將該濕潤薄膜送至乾燥室。在乾燥室將濕潤薄膜捲繞於輥上進行傳送之同時，從濕潤薄膜使溶劑蒸發而成為薄膜。並且，在藉由冷卻使流延膜固化之冷卻流延方式的情況下，代替乾燥室，送至針板拉幅機，用針板拉幅機使濕潤薄膜乾燥。
然而，隨著近幾年液晶顯示器(LCD)的高清晰度和智能手機(多功能移動電話)、平板型電腦等便攜型終端裝置的普及，對於使用於這些顯示裝置中之光學薄膜，比以往進一步要求表面無微細突起或孔等。
關於這些光學薄膜的表面上的微細突起或孔等缺陷，如日本 專利公開平6-207910號公報所記載，對連續行走之薄膜沿其寬度方向掃描光束，使透過薄膜或反射之檢查光具有光束直徑以下的狹縫寬度，且通過與光束的行走方向平行配置之受光窗之後入射至受光器，藉由來自該受光器之光電轉換輸出檢查被檢查體的表面缺陷。另外，日本專利公開平8-261949號公報中，將狹縫開口寬度設為檢查光的射束直徑的(1/10)以上(2/3)以下的範圍來高精度地檢查表面缺陷。
但是，上述日本專利公開平6-207910號公報及日本專利公開平8-261949號公報的檢查裝置係檢查作為產品之薄膜的缺陷者。而且，依缺陷檢查資料來特定薄膜上的缺陷部份，並且在顯示裝置等中顯示，以免使用該缺陷部份。進行產品化時，排除缺陷部份來使用。因此，上述日本專利公開平6-207910號公報及日本專利公開平8-261949號公報的檢查裝置雖然能夠避免使用缺陷部份，但是並沒有實現徹底地解決減少薄膜本身的缺陷部份。
溶液製膜方法中，由於將流延於流延支撐體上之流延膜剝下並進行乾燥而作為薄膜之關係，薄膜的表面狀態取決於流延支撐體的表面狀態。因此，流延支撐體的製造階段中，檢查該表面狀態，若發現微細凹凸，當其為凸出時研磨該部份，其為凹陷時進行點焊之後進行研磨，進行消除微細凹凸之表面精加工，以免作為產品之薄膜上產生微細缺陷。
以往，這種流延支撐體的檢查藉由熟練檢的查員目視觀察表面來發現微細凹凸缺陷。然而，隨著LCD的高清晰度和智能手機、平板型電腦等便攜型終端裝置的普及，用於這些裝置之光學薄膜的品質要求等級日益提高。因此，至今由熟練者進行之表面狀態保證所要求之缺陷尺寸逐漸變得小於目視等級。因此，藉由熟練者進行之檢查開始受限，而要求新的流延支撐體的檢查方法。
並且，因近幾年LCD的大屏幕化要求，對於溶液製膜中的流延支撐體亦要求寬幅。但是，作為流延支撐體材料之帶鋼的寬度受到製造帶鋼之生產線設備寬度的限制，不易對應寬幅化。因此，如韓國專利公開公報第2009-110082號公報所記載，不提出有在習知之流延支撐體的兩側沿長邊方向上焊接(縱焊接)新的側板來僅加寬側板對應量之縱焊接帶。並且，即使為習知之流延帶，在製造環狀帶時，在寬度方向上焊接(橫焊接)帶鋼的兩端部連結成環狀。因此，即使為習知之流延帶，亦存在沿寬度方向延伸之橫焊接線。在包含這種縱焊接線或橫焊接線等焊接部之流延帶中，交納流延帶時，由熟練者進行嚴格的表面缺陷檢查。而且，藉由嚴格的檢查發現焊接部的針孔或龜裂，該被發現之缺陷藉由點焊或其後的研磨等精加工處理進行消除。因此，作為流延帶剛導入到溶液製膜設備之後，作為薄膜的缺陷而面轉印之尺寸的缺陷被排除，所得到之薄膜中不會出現微細凹凸缺陷。
但是，若藉由溶液製膜後的研磨補修等對流延帶進行研磨，則交納流延帶時為微小而沒有被判定為缺陷之例如壺狀的針孔等時，有時針孔因研磨較大地開口而發展為缺陷。因此，交納流延帶時的表面缺陷的檢查中，還需要考慮之後的研磨補修，亦需要將研磨後發展為缺陷之壺狀的微細針孔判定為缺陷，而期待開發代替由熟練者進行之目視檢查之檢測精度較高的檢查方法及檢查裝置。
因此，亦可以將如上述日本專利公開平6-207910號公報及日本專利公開平8-261949號公報的薄膜作為對象之缺陷檢查方法應用於流延支撐體表面的缺陷檢查中。但是，流延帶或流延滾筒等流延支撐體已進行鏡面精加工，存在即使直接應用針對薄膜之缺陷檢測方法，亦無法高精度地檢測表面缺陷之問題。
本發明的目的在於，提供一種能夠高精度地檢查因流延支撐體的微細凹凸而產生之缺陷之流延支撐體的表面檢查裝置及方法、溶液製膜方法及設備。
本發明的流延支撐體的表面檢查裝置具備掃描儀、接收機、遮光板及缺陷判定部。掃描儀對連續行走之流延支撐體沿流延支撐體的寬度方向掃描雷射。流延支撐體上的雷射的光斑直徑為20μm以上50μm以下。接收機對在流延支撐體反射之雷射進行光電轉換。遮光板設置於接收機並具有狹縫開口。狹縫開口沿著在流延支撐體反射之雷射的掃描線配設。狹縫開口的狹縫寬度為光斑直徑的30倍以上200倍以下。缺陷判定部對來自接收機的光電轉換訊號進行二進制化來生成二進制訊號。缺陷判定部依二進制訊號檢測缺陷候選。缺陷判定部將大於預先設定之值的缺陷候選判定為缺陷。
流延支撐體為流延滾筒和捲繞於1對支撐滾筒之環狀流延帶中的任一方為較佳。基於雷射之掃描線形成於流延滾筒的周面和捲繞於支撐滾筒之流延帶部份中的任一方。被形成掃描線之流延支撐體的曲率半徑為100mm以上4000mm以下為較佳。此時，由於對藉由支撐滾筒支撐之流延帶或流延滾筒照射雷射，因此流延帶振動之情況減少，且能夠進行高精度的缺陷檢測。
具備將掃描儀和接收機定位到流延支撐體之定位單元為較佳。
定位單元具有框架、掃描儀保持部及接收機保持部為較佳。框架配設成與流延支撐體相對。掃描儀保持部使掃描儀圍繞與流延支撐體上的雷射的掃描線平行之X軸轉動而在任意轉動位置固定掃描儀。接收機 保持部使接收機圍繞X軸轉動而在任意轉動位置固定接收機，以便由狹縫開口接收從流延支撐體反射之雷射。此時，相對於檢查對象即流延支撐體，能夠快速地對掃描儀及接收機進行定位。
掃描儀保持部使掃描儀以流延支撐體上的設計時掃描線為中心轉動為較佳。接收機保持部使接收機以設計時掃描線為中心轉動為較佳。另外，設計時掃描線是指來自掃描儀的雷射在流延支撐體的表面反射，該反射光到達接收機之標準位置上的掃描線。藉由定位單元將該設計時掃描線對準到檢查對象即流延支撐體的表面，從而將掃描儀及接收機高精度地設定於標準檢查位置。
具有掃描儀及接收機的轉動保持部為較佳。掃描儀及接收機的轉動保持部沿著與X軸正交之Y軸排列掃描儀及接收機，使掃描儀保持部及接收機保持部成一體化。掃描儀及接收機的轉動保持部使成一體化之掃描儀保持部及接收機保持部圍繞與包含X軸及Y軸之XY面正交之Z軸轉動，在任意轉動位置將掃描儀保持部及接收機保持部固定於框架。此時，能夠相對於Y軸傾斜地配置掃描儀及接收機，能夠檢測由沿著流延支撐體的行走方向之條紋(以下成為縱條紋)構成之微細凹凸。由該縱條紋構成之微細凹凸依其形狀而被稱為條痕(stria)。該條紋係在被認為由流延帶的材料本身的晶體結構導致之硬度差的分佈中藉由研磨，硬度較低的部份被較深研磨，而堅固的部份被較淺研磨而產生者。以往只是藉由檢查員目視進行確認，而沒有得到成為基準之指標。藉由相對於Y軸傾斜配置掃描儀及接收機，可以將微細縱條紋即條紋作為圖像捕捉，或者亦可以由各像素的亮度等級來顯示各條紋的深度，亦能夠製成作為基準之指標。
具有Y軸滑動部、框架X軸轉動保持部及Z軸滑動部為較佳。Y軸滑動部將掃描儀及接收機的轉動保持部保持成在Y軸方向相對於 框架移動自如。框架X軸轉動保持部使框架圍繞X軸轉動而在任意轉動位置固定框架。Z軸滑動部將框架X軸轉動保持部保持成在Z軸方向上移動自如。藉由具有這些滑動部和轉動保持部，能夠依流延支撐體的彎曲程度，進行該適當位置上的表面檢查。
具有將Z軸滑動部保持成在X軸方向上移動自如之X軸滑動部為較佳。此時，基於掃描儀之掃描線長度短於流延支撐體的寬度時，藉由向流延支撐體的寬度方向即X軸方向移動掃描儀及接收機，能夠對流延支撐體的整個表面進行表面檢查。
具有對流延支撐體上分開之兩點進行聚光照射來決定雷射的掃描方向之雷射指示器為較佳。此時，對定位單元的各部份進行微調，以使掃描儀的掃描光位於由該雷射指示器照射之聚光上，藉此不接觸被檢查面就能夠高精度地進行掃描儀或接收機的對位。
相對於掃描線，在流延支撐體的行走方向上游側具有對流延支撐體進行除塵之除塵裝置為較佳。此時，防止微細灰塵附著在流延支撐體上，能夠消除因這些附著之灰塵導致之錯誤判定。
本發明的流延支撐體的表面檢查方法具備掃描步驟(A步驟)、遮光步驟(B步驟)、受光步驟(C步驟)、二進制化步驟(D步驟)、檢測步驟(E步驟)及判定步驟(F步驟)。A步驟中，對連續行走之流延支撐體沿該流延支撐體的寬度方向掃描雷射。流延支撐體上的雷射的光斑直徑為20μm以上50μm以下。B步驟中，藉由遮光板遮擋雷射，前述遮光板具有沿著在流延支撐體反射之雷射的掃描方向配設之狹縫開口。狹縫開口的狹縫寬度Ws為光斑直徑的30倍以上200倍以下。C步驟中，經由狹縫開口接收在流延支撐體反射之雷射。D步驟中，對接收之雷射進行光電轉換來對該光電轉換訊號進行二進制化。E步驟中，依在D步驟中生成之 二進制訊號檢測缺陷候選。F步驟中，將大於預先設定之值的缺陷候選判定為缺陷。
流延支撐體為流延滾筒和捲繞於1對支撐滾筒上之環狀流延帶中的任一方為較佳。基於雷射之掃描線形成於流延滾筒的周面與捲繞於支撐滾筒上之流延帶部份中的任一方，被形成掃描線之流延支撐體的曲率半徑為100mm以上4000mm以下。
還具備掃描保持步驟(G步驟)和接收機保持步驟(H步驟)為較佳。G步驟中，使掃描儀圍繞與流延支撐體上的雷射的掃描線平行之X軸轉動而在任意轉動位置固定掃描儀。H步驟中，使接收機圍繞X軸轉動而在任意轉動位置固定接收機，以便由狹縫開口接收從流延支撐體反射之雷射。
還具備掃描儀及接收機的轉動保持步驟(I步驟)為較佳。I步驟中，沿著與X軸正交之Y軸排列掃描儀及接收機，以使掃描儀及接收機成一體化，使成一體化之掃描儀及接收機在包含X軸及Y軸之XY面上轉動，以連結掃描儀和接收機之中心線相對於Y軸成為任意傾斜角度之方式保持掃描儀及接收機。
還具備Y軸滑動步驟(J步驟)、框架X軸轉動保持步驟(K步驟)及Z軸滑動步驟(L步驟)為較佳。J步驟中，在I步驟之後將掃描儀及接收機保持成在Y軸方向上移動自如。K步驟中，使經過J步驟之掃描儀及接收機圍繞X軸轉動之後，在任意轉動位置進行固定。L步驟中，將經過K步驟之掃描儀及接收機保持成在與XY面交叉之Z軸方向上移動自如。
本發明的溶液製膜方法具備掃描步驟(A步驟)、遮光步驟(B步驟)、受光步驟(C步驟)、二進制化步驟(D步驟)、檢測步驟(E 步驟)、判定步驟(F步驟)、流延膜形成步驟(M步驟)及剝取步驟(N步驟)。A步驟中，對連續行走之流延支撐體沿該寬度方向掃描雷射。在流延支撐體上的雷射的光斑直徑為20μm以上50μm以下。B步驟中，藉由遮光板遮擋雷射，前述遮光板具有沿著在流延支撐體反射之雷射的掃描方向配設之狹縫開口。狹縫開口的狹縫寬度Ws為光斑直徑的30倍以上200倍以下。C步驟中，經由狹縫開口接收在流延支撐體反射之雷射。D步驟中，對接收之雷射進行光電轉換來對該光電轉換訊號進行二進制化。E步驟中，依在D步驟中生成之二進制訊號檢測缺陷候選。F步驟中，將大於預先設定之值的缺陷候選判定為缺陷。M步驟中，從流延模使濃液流出至經過F步驟而被評價為適宜的流延支撐體上來形成流延膜。濃液包含聚合物及溶劑。N步驟中，從流延膜使溶劑蒸發而作為濕潤薄膜進行剝取。
本發明的溶液製膜設備具備流延支撐體、驅動源、流延模、膜固化機及剝離輥。驅動源使流延支撐體旋轉來使流延支撐面行走。流延模朝向藉由驅動源行走之流延支撐體使濃液流出。濃液包含聚合物及溶劑。膜固化機使由流出至流延支撐體上的濃液構成之流延膜固化。剝離輥從流延支撐體剝下流延膜。流延支撐體係藉由表面檢查方法檢查而被評價為適宜者，表面檢查方法具有掃描步驟(A步驟)、遮光步驟(B步驟)、受光步驟(C步驟)、二進制化步驟(D步驟)、檢測步驟(E步驟)及判定步驟(F步驟)。A步驟中，對連續行走之流延支撐體沿該流延支撐體的寬度方向掃描雷射。流延支撐體上的雷射的光斑直徑為20μm以上50μm以下。B步驟中，藉由遮光板遮擋雷射，前述遮光板具有沿著在流延支撐體反射之雷射的掃描方向配設之狹縫開口。狹縫開口的狹縫寬度Ws為光斑直徑的30倍以上200倍以下。C步驟中，經由狹縫開口接收在流延支撐體反射之雷射。D步驟中，對接收之雷射進行光電轉換來對該光電轉換訊號進行二 進制化。E步驟中，依在D步驟中生成之二進制訊號檢測缺陷候選。F步驟中，將大於預先設定之值的缺陷候選判定為缺陷。
10‧‧‧表面檢查裝置
11‧‧‧流延支撐體
11a‧‧‧流延帶
12‧‧‧支撐滾筒
15‧‧‧掃描儀
16‧‧‧接收機
17‧‧‧缺陷判定部
17a‧‧‧顯示器
18‧‧‧定位單元
20‧‧‧雷射
21‧‧‧遮光板
21a‧‧‧狹縫開口
22‧‧‧電纜
31‧‧‧框架
32‧‧‧掃描儀保持部
33‧‧‧接收機保持部
34‧‧‧Z軸轉動保持部
35‧‧‧Y軸滑動部
36‧‧‧X軸轉動保持部
37‧‧‧Z軸滑動部
38‧‧‧X軸滑動部
39‧‧‧雷射指示器
40、45‧‧‧側板
41‧‧‧支撐板
42‧‧‧背板
43、47、55、60‧‧‧長孔
44、48、52、61‧‧‧安裝螺釘
46‧‧‧支撐板
54‧‧‧支撐板
62‧‧‧基板
63‧‧‧螺孔
65‧‧‧基台
66‧‧‧安裝軸
67‧‧‧擺動限制桿
68‧‧‧安裝軸
69‧‧‧長孔
70‧‧‧安裝螺釘
75‧‧‧活動腳輪
76‧‧‧導引構件
80‧‧‧支柱
81‧‧‧除塵裝置
100‧‧‧溶液製膜設備
101‧‧‧流延裝置
102‧‧‧第1拉幅機
103‧‧‧輥乾燥裝置
104‧‧‧第2拉幅機
105‧‧‧分切機
106‧‧‧捲取裝置
110‧‧‧馬達(驅動源)
111‧‧‧第1滾筒
112‧‧‧第2滾筒
114‧‧‧流延模
115‧‧‧導管(膜固化機)
116‧‧‧減壓腔室
117‧‧‧剝離輥
120‧‧‧濃液
121‧‧‧流延膜
122‧‧‧薄膜
123、128‧‧‧夾子
124‧‧‧液珠
125、129‧‧‧導管
126‧‧‧輥
130‧‧‧薄膜卷
A‧‧‧箭頭
A1‧‧‧區域
CL1‧‧‧掃描中心線
Ds‧‧‧光斑直徑
Lr‧‧‧距離
Rd‧‧‧支撐滾筒的半徑
SL‧‧‧掃描線
Ws‧‧‧狹縫寬度
θ1‧‧‧入射角度
θ2‧‧‧射出角度
X、Y、Z‧‧‧方向
圖1係表示本發明的表面檢查裝置的使用狀態之側視圖。
圖2A係說明檢查原理之側視圖。
圖2B係圖2A中之區域A1的前視圖。
圖3係表示定位單元的概要結構之側視圖。
圖4係表示定位單元的概要結構之前視圖。
圖5係表示定位單元的概要結構之後視圖。
圖6係表示定位單元的概要結構之流程圖。
圖7係表示溶液製膜設備的概要結構之側視圖。
如圖1所示，流延支撐體的表面檢查裝置10檢查流延支撐體11，例如捲繞於1對支撐滾筒12之間之環狀(endless)流延帶11a的表面(流延支撐面)，發現微細針孔或條紋等缺陷。因此，表面檢查裝置10具備掃描儀15、接收機16、缺陷判定部17(參閱圖2A)及定位單元18，構成為可搬運型。因此，移動到測定場所，能夠在適當的時刻進行缺陷檢查。例如，除了溶液製膜設備的流延室以外，能夠在流延支撐體製造商的工廠等適當場所進行測定。
如圖2A所示，掃描儀15對連續行走之流延支撐體11沿該寬度方向掃描雷射20。接收機16接收在流延支撐體11反射之雷射20並進行光電轉換。來自接收機16之光電轉換訊號藉由電纜22送至缺陷判定部17。缺陷判定部17對光電轉換訊號進行二進制化來生成二進制訊號。缺陷 判定部17依該二進制訊號檢測缺陷候選。而且，當檢測出之缺陷候選大於預先設定之閾值(基準值)時判定為缺陷。即，大於閾值的缺陷候選判定為缺陷。例如，缺陷為針孔，關於針孔的直徑設定閾值時，將大於所設定之閾值的缺陷候選判定為缺陷。被判定之缺陷與該位置資料一同記憶於記憶體。該缺陷位置資料能夠由操作員從記憶體讀出。此時，顯示器17a一同顯示流延支撐體11的位置資料和將缺陷圖像或該缺陷圖像部的亮度差訊號圖表化者。
本實施形態中，將缺陷檢查位置設為捲繞於支撐滾筒12上之部位的流延帶11a。即，雷射20照射於捲繞於支撐滾筒12上之部位的流延帶11a。藉此，以緊貼於支撐滾筒12之狀態保持流延帶11a。因此，流延支撐體11不會在厚度方向(Z軸方向)擺動(振動)，則能夠進行高精度的缺陷檢查(表面檢查)。另外，本實施形態中，將缺陷檢查位置的與基於雷射20的掃描線SL平行之水平軸設為X軸，將與此交叉之鉛垂軸設為Y軸，與包含這些X軸及Y軸之XY面正交之軸設為Z軸，對定位單元18的結構進行說明。
本實施形態的掃描儀15、接收機16、缺陷判定部17等的詳細結構與日本專利公開平6-207910號公報、日本專利公開平8-261949號公報等中記載之習知之結構基本相同。只是，缺陷檢查對象物為由經過鏡面精加工之金屬(例如SUS316)製流延帶11a構成之流延支撐體11，由於這一點，接收機16的遮光板21的結構與習知之結構不同，而成為本申請獨立的結構。
如眾所周知，掃描儀15具有雷射振盪器、透鏡組、多角反射鏡、光路折曲用鏡等。從雷射振盪器放射之雷射入射至透鏡組，該光斑直徑被調節。之後，經由鏡入射至高速旋轉之多角反射鏡，在此反射。該 反射之雷射20成為與流延帶11a的行走方向正交之方向(X軸)的檢查光，向流延帶11a的寬度方向掃描。
如圖2B所示，從掃描儀15照射之雷射20在流延帶11a上成為恆定光斑。如圖1所示，掃描儀15相對於從掃描線SL的寬度方向中心相對於流延帶11a垂直延伸之法線(掃描中心線)CL1，以傾斜角度(以下稱為入射角度)θ1，從流延帶11a的行走方向上游照射雷射20，相對於掃描中心線CL1以傾斜角度(以下稱為射出角度)θ2，在流延帶11a的行走方向下游使雷射20反射。因此，若將圖2A的聚光所照射之流延帶11a上的區域A1放大並從正面觀察，成為如圖2B的狀態，沿Y軸方向成為長橢圓。本發明中所說之流延帶11a上的光斑直徑Ds是指在X方向不變之短軸直徑。該流延帶11a上的雷射20的光斑直徑Ds為20μm以上50μm以下。若光斑直徑Ds不到20μm，則檢查範圍變窄，因此為不佳。並且，若光斑直徑Ds超過50μm，則缺陷檢測精度下降，因此為不佳。
由於掃描儀15及接收機16沿Y軸方向排列配置在一直線上，因此掃描線SL的基於雷射20之光斑的光斑直徑Ds較大的情況下，藉由柱面凸面鏡向Y軸方向反射時，光斑依圓弧面的曲率量而細長地擴散。因此，光斑在接收機16的受光面成為大致橢圓狀。但是，光斑直徑Ds為20μm以上50μm以下而微小，因此光斑所照射之流延帶的部份大致呈平面狀，作為凸面鏡的作用微小而能夠忽略不計。
在流延帶11a反射之雷射20進入接收機16。接收機16具有遮光板21。遮光板21上形成有狹縫開口21a。該狹縫開口21a與在流延帶11a反射之雷射20的掃描線SL平行配設。
狹縫開口21a的寬度(以下，有時還稱為狹縫寬度)Ws依支撐滾筒12的半徑Rd、從流延帶11a到接收機16的遮光板21為止的距離 Lr、或光斑直徑Ds決定。例如，支撐滾筒12的半徑Rd為100mm以上4000mm以下，且從流延帶11a到接收機16的遮光板21為止的距離Lr為40mm以上100mm以下時，寬度Ws為光斑直徑Ds的30倍以上200倍以下為較佳。支撐滾筒12的半徑Rd為800mm以上3000mm以下時，寬度Ws為光斑直徑Ds的50倍以上150倍以下尤為佳。另外，藉由流延帶11a較薄，可以視為流延帶11a的曲率半徑與支撐滾筒12的半徑Rd相同。
若狹縫開口21a的狹縫寬度Ws不到光斑直徑Ds的30倍，則有時在流延支撐體11反射之雷射20不進入狹縫開口21a，缺陷檢測的精度下降。並且，若狹縫寬度Ws超過光斑直徑Ds的200倍，則對比度下降，同樣缺陷檢測的精度下降，因此為不佳。
如圖1所示，定位單元18構成為相對於捲繞於支撐滾筒12上之部位的流延帶11a和流延滾筒(未圖示)等任意檢查對象面，能夠對掃描儀15及接收機16準確地進行定位。因此，如圖3所示，定位單元18具有框架31、安裝在該框架31上之掃描儀保持部32、接收機保持部33、Z軸轉動保持部(掃描儀及接收機的轉動保持部)34、Y軸滑動部35、X軸轉動保持部36、Z軸滑動部37、X軸滑動部38及雷射指示器39(參閱圖1)。由於定位單元18具備框架31、掃描儀保持部32及接收機保持部33，因此相對於流延支撐體11能夠快速地對掃描儀15及接收機進行定位。
如圖4、圖5所示，框架31形成為矩形框，如圖1所示，配設成與流延帶11a相對。如圖3所示，框架31上配設有掃描儀保持部32、接收機保持部33、Z軸轉動保持部34及Y軸滑動部35。而且，掃描儀15藉由描儀保持部32、Z軸轉動保持部34及Y軸滑動部35安裝在框架31上。同樣，接收機16藉由接收機保持部33、Z軸轉動保持部34及Y軸滑動部35安裝在框架31上。
如圖4所示，掃描儀保持部32具有1對側板40和1對支撐板41。側板40從兩側夾持固定掃描儀15。支撐板41從兩側支撐側板40，因此以向Z軸方向延伸之方式從背板42突出形成。
如圖1所示，支撐板41上形成有2個圓弧狀長孔43。圓弧狀長孔43為設置於缺陷檢查位置之檢查狀態時，形成於以流延帶11a上的掃描線SL(以下簡稱為掃描線SL)為中心之圓上。這些圓弧狀長孔43在圓上分開形成。另外，圖1中，掃描線SL為與紙面正交之方向，因此描繪成點。
側板40上安裝有安裝螺釘44。安裝螺釘44擰入到各長孔43並在該長孔43內移動。而且，藉由在長孔43內變更安裝螺釘44的位置，能夠變更來自掃描儀15之雷射20相對於流延支撐體11之入射角度θ1。長孔43例如以15°角度量的長度形成。藉此，能夠在以掃描線SL為中心之15°角度範圍內變更來自掃描儀15之雷射20的入射角度θ1。變更安裝角度之後，藉由向擰緊方向轉動安裝螺釘44，能夠將側板40固定在支撐板41上。
同樣，如圖3所示，接收機16藉由接收機保持部33、Z軸轉動保持部34及Y軸滑動部35安裝在框架31。如圖4所示，接收機保持部33為與掃描儀保持部32相同的結構，具有固定接收機16之1對側板45和安裝該側板45之1對支撐板46。支撐板46以向Z軸方向突出之方式安裝在背板42上。
如圖1所示，支撐板46上形成有2個圓弧狀長孔47。該些圓弧狀長孔47為設置於缺陷檢查位置之檢查狀態時形成於以流延帶11a上的掃描線SL為中心之同心圓上，且分開形成有2個。
側板45上安裝有安裝螺釘48。安裝螺釘48擰入各長孔47 並在該長孔47內移動。而且，藉由在長孔47內變更安裝螺釘48的位置，能夠變更在流延帶11a反射之雷射20的射出角度θ2。長孔47以15°角度量的長度形成，能夠在以掃描線SL為中心之15°角度範圍內變更接收機16的安裝角度。變更安裝角度之後，藉由向擰緊方向轉動安裝螺釘48，能夠將側板45固定在支撐板46上。
兩側板45的外側面安裝有雷射指示器39。雷射指示器39朝向掃描線SL的兩端部照射雷射20，決定雷射20的掃描方向。調節各部件32、33、34、35的固定位置來進行對位，以使藉由該雷射指示器39投影到流延帶11a上的點與掃描儀15的掃描線重合。藉由使兩者在流延帶11a重合，基於掃描儀15之掃描線SL與基於接收機16之受光線在流延帶11a上成為相同位置，完成掃描儀15及接收機16的定位。
如圖5所示，背板42上設置有2個安裝螺釘52。藉由該安裝螺釘52，背板42安裝在Y軸滑動部35的支撐板54上。支撐板54上形成有2個圓弧狀長孔55。2個圓弧狀長孔55沿著以與通過掃描線SL的寬度方向中間位置的Z軸平行之掃描中心線CL1為中心之圓形成。安裝螺釘52擰入該圓弧狀長孔55內，背板42能夠以掃描中心線CL1為中心，在與長孔55的長度量即90度的角度內轉動。而且，藉由將安裝螺釘52轉動擰緊，能夠圍繞掃描中心線CL1在90°角度範圍內以任意的安裝角度將背板42固定在支撐板54上。
Z軸轉動保持部34由這些背板42、支撐板54、2個圓弧狀長孔55及安裝螺釘52構成。
支撐板54的2個圓弧狀長孔55的兩側形成有沿Y軸方向較長的長孔60，安裝螺釘61擰入其中。框架31的內側的兩側安裝有基板62。該基板62的與支撐板54的長孔60對應之位置形成有螺孔63。安裝螺 釘61插入到長孔60內之後，被安裝到螺孔63。如上，支撐板54藉由長孔60及安裝螺釘61而被安裝到框架31的基板62上，因此能夠使支撐板54在Y軸方向上僅滑動長孔55的長度量。因此，在掃描儀15及接收機16成一體化之狀態下能夠使其沿Y軸方向移動。Y軸滑動部35(參閱圖3)由這些支撐板54、長孔60、安裝螺釘61、基板62、螺孔63構成。
如圖1所示，框架31的下端部藉由X軸方向的安裝軸66圍繞X軸轉動自如地安裝在基台65的一端部。基台65由沿水平方向上較長的矩形框構成。
在基台65與框架31之間傾斜安裝有擺動限制桿67。擺動限制桿67的一端部藉由安裝軸68能夠擺動地安裝在基台65的一端附近。並且，擺動限制桿67的另一端部上沿長邊方向形成有長孔69。安裝螺釘70擰入該長孔69內。安裝螺釘70緊固在框架31上。因此，鬆開安裝螺釘70以安裝軸68為中心使框架31轉動，能夠以圍繞X軸任意傾斜狀態安裝框架31。X軸轉動保持部36(參閱圖3)由這些安裝軸68及擺動限制桿67及安裝螺釘70構成。
基台65的下面設置有Z軸滑動部37。Z軸滑動部37藉由未圖示之導軌向Z軸方向移動引導基台65。
Z軸滑動部37的底板上安裝有活動腳輪75。並且Z軸滑動部37的Z軸方向前端部上配設有導引構件76。該導引構件76沿X軸方向延伸，在支撐滾筒12的下方位置與支撐滾筒12的軸平行地安裝。導引構件76上卡合Z軸滑動部37的前端。因此，Z軸滑動部37藉由導引構件76沿X方向被引導並藉由活動腳輪75移動。藉此，基於掃描儀之掃描線的長度短於流延支撐體的寬度時，沿X軸方向移動掃描儀及接收機，能夠對流延支撐體整個表面進行表面檢查。
在Z軸滑動部37上經由支柱80安裝有除塵裝置81。除塵裝置81具備具有電離器之送風機，吹散附著在流延帶11a上之灰塵。另外，除塵裝置81經由支柱80安裝在Z軸滑動部37，但除此以外，亦可安裝在框架31的上下端部。此時，流延帶11a的行走方向為圖1所示之逆時針方向時，安裝在框架31的下端部附近，而行走方向為順時針方向時，安裝在框架31的上端部附近。
接著，一邊參閱圖6所示之流程圖，一邊對本實施形態的作用進行說明。使用時，將表面檢查裝置10搬入設置有檢查對象物即流延帶11a之設備中。本實施形態中，對從製造商接收新的流延帶11a之前實施最終檢查之情況進行說明。另外，除此以外，將流延帶11a安裝在溶液流延設備(參閱圖7)來進行溶液製膜，進行定期修理時，檢查流延帶11a的表面缺陷時，亦可使用該裝置。
首先，沿X軸方向將導引構件76安裝在檢查對象物附近。將Z軸滑動部37安裝在該導引構件76上，使Z軸滑動部37在X軸方向上移動自如。
使Z軸滑動部37和Y軸滑動部35滑動，將掃描儀15及接收機16相對於流延帶11a的掃描線SL定位。此時，利用雷射指示器39對掃描線SL上的例如兩端部附近的兩點照射雷射來形成光斑。接著，打開掃描儀15，進行作為雷射20之例如紅色雷射之掃描，則在流延帶11a的表面顯示出基於紅色雷射之掃描線SL。對Y軸滑動部35、Z軸滑動部37及X軸轉動保持部36等進行微調，以便該掃描線SL與基於雷射指示器39之例如紅色聚光重合。這樣，藉由使用雷射指示器39對定位單元18的各部份進行微調，從而不接觸被檢查面就可高精度地進行掃描儀15或接收機16的定位。
掃描儀保持部32及接收機保持部33設定為對準設計時掃描線使入射角度θ1和射出角度θ2相對於相對流延帶面的掃描中心線CL1分配成45°。因此，若對X軸轉動保持部36、Y軸滑動部35、Z軸滑動部37進行微調，其成為如圖1所示之位置關係，則自動判定入射到接收機16之訊號等級成為能夠檢查之等級，而藉由顯示器17a或警報等通知操作員完成定位。因此，缺陷判定部17能夠選擇判定用於定位之受光訊號等級是否適宜之定位判定模式。另外，藉由定位單元18將設計時掃描線對準到流延支撐體11的表面，將掃描儀15及接收機16高精度地設定在標準檢查位置。並且，藉由Y軸滑動部35、X軸轉動保持部36、Z軸滑動部37，依流延支撐體11的表面的彎曲程度，能夠在其適當位置進行表面檢查。
並且，改變除塵裝置81的朝向和位置來吹散灰塵，以免流延帶11a上的灰塵等到達掃描線SL的位置。藉此，能夠防止流延支撐體11上附著微細灰塵，消除因附著之灰塵導致之錯誤判定。另外，亦可在除塵裝置81附近設置吸入被吹散灰塵之吸入機。
當支撐流延帶11a之支撐滾筒12的直徑發生變化和進行特殊缺陷檢查時等，需要變更入射角度θ1或射出角度θ2之情況下，變更掃描儀保持部32和接收機保持部33的安裝位置來進行微調。此時，分別鬆開各安裝螺釘44、48，變更各保持部32、33的安裝角度。
如上，藉由雷射指示器39的聚光將設計時掃描線對準到流延帶11a上之所希望的掃描線來完成定位，從而進行缺陷檢查。該缺陷檢查中，能夠使流延帶在0.5m/min以上5.0m/min以下的範圍內以恆定速度，例如1.0m/min行走。
從掃描儀15照射作為雷射20之例如紅色雷射，該紅色雷射在流延帶11a的表面反射，入射到接收機16。此時，使遮光板21的狹縫開 口21a與流延帶11a上的光斑直徑Ds對應而設定成30倍以上200倍以下，因此能夠得到缺陷檢查所需之充份的受光量，能夠進行高精度的檢查。
依受光訊號進行之缺陷檢查利用公知的方法。例如，缺陷判定部17中，經由AGC電路(自動增益控制器電路)和二進制化電路將來自接收機16之光電轉換訊號送至缺陷檢測部27，判定有無缺陷。而且，當判定為缺陷時，將該缺陷訊號和其位置資料送至資料處理部。該缺陷訊號和位置資料記憶到資料處理部內的記憶體中，進行各種資料加工。並且，依需要顯示在顯示器17a中並且利用印表機(未圖示)進行打印。而且，依該缺陷情報，進行精加工處理以消除缺陷。例如，其為凸狀缺陷時進行研磨處理，而其為針孔或龜裂等凹狀缺陷時進行點焊之後進行研磨處理等，進行消除缺陷之處理。而且，進行這種精加工處理之後，藉由再一次進行缺陷檢查，判定有無缺陷。如此進行檢查處理直到缺陷消失為止。
另外，作為流延帶11a，如以往，存在只具有橫焊接線之通常寬度尺寸者和藉由縱焊接對中央構件和側構件進行接合而沿寬度方向變寬之寬幅尺寸者等，其可為任意一方。尤其，如縱焊接帶係焊接線具有帶周長的2倍長度者時，能夠減輕檢查員的負擔。
上述實施形態中，藉由改變長孔內的安裝螺釘的固定位置，變更掃描儀15及接收機16相對於掃描線SL之安裝角度和變更X軸、Y軸、Z軸方向的滑動位置，但除了依長孔或安裝螺釘進行定位以外，亦可依安裝軸調整擺動角度等來進行。並且，進行微調時，亦可使用依螺紋的螺合將旋轉運動轉換成直線運動的調整機構等。並且，亦可藉由馬達使這些調整機構旋轉來進行自動定位。
另外，如圖1所示，在接收機保持部33的側板45的外周面設置雷射指示器39，但亦可將其與表面檢查裝置10分開設置。
(溶液製膜設備)
如上所述，還在缺陷檢查中合格之流延帶11a設置於溶液製膜設備100中，進行溶液製膜。如圖7所示，溶液製膜設備100從上游側依次串聯流延裝置101、第1拉幅機102、輥乾燥裝置103、第2拉幅機104、分切機105及捲取裝置106而構成。聚合物的種類沒有特別限定，可使用能夠有溶液製膜中作為薄膜之公知的聚合物。以下的實施形態中，以作為聚合物使用纖維素醯化物之情況為例進行說明。
流延裝置101具備掛繞在第1滾筒111、第2滾筒112上的流延帶11a、流延模114、導管(膜固化機)115、減壓腔室116及剝離輥117。流延帶11a為形成為環狀之環狀金屬製流延支撐體，掛繞在第1滾筒111和第2滾筒112的周面。該流延帶11a係藉由上述表面檢查裝置10而被評價為沒有缺陷者。第1滾筒111藉由馬達(驅動源)110而被旋轉驅動，藉此流延帶11a沿箭頭A所示之第1方向行走。
第1滾筒111的上方配置有流延模114。流延模114對行走之流延帶11a使濃液120連續流出。藉此，在流延帶11a上形成流延膜121。濃液120係例如將纖維素醯化物溶解在溶劑中者，在未圖示之濃液生產線製造出來並供給到流延模114。
針對來自流延模114之液珠124，在流延帶11a的行走方向的上游設置有減壓腔室116。該減壓腔室116吸引液珠124的上游側區域的氣氛來對該區域進行減壓，減少液珠124的振動。
為了提高製造速度，朝向剝離輥117之流延膜121藉由第2滾筒112及流延帶11a被加熱。並且，在流延位置，藉由第1滾筒111冷卻流延帶11a，以免流延帶11a過度昇溫。因此，各滾筒111、112具有未圖示之溫度調節裝置。
導管115沿著流延帶11a的行走路排列設置有複數個。各導管115分別連接於具有送風機之暖風控制器(均未圖示)，從流出口吹出乾燥風。暖風控制器獨立控制乾燥風的溫度、濕度及流量。藉由乾燥風的溫度及流量的控制和基於第1滾筒111及第2滾筒112自身的溫度調節裝置進行溫度控制，調節流延膜121的溫度，進行流延膜121的乾燥。而且，流延膜121被固化至能夠在第1拉幅機102中傳送之程度，從而被賦予自支撐性。另外，亦可代替導管115或在此基礎上藉由其他加熱器等構成膜固化機。
第1滾筒111的流延模114的行走方向上游側設置有剝離輥117。剝離輥117在從流延帶11a剝下已進行包含溶劑狀態的乾燥之流延膜121時，支撐流延膜121。被剝取之流延膜121，即濕潤的薄膜122引導至第1拉幅機102。
第1拉幅機102中，一邊用夾子123把持薄膜122的兩側緣部傳送薄膜122，一邊賦予向薄膜寬度方向的張力，加寬薄膜122的寬度。在第1拉幅機102上從上游側依次形成預熱區、延伸區及緩和區。另外，緩和區依需要設置。
第1拉幅機102具有1對導軌及鏈條(均未圖示)。導軌在薄膜122的傳送路的兩側，以預定間隔分開配設。該導軌的間隔在預熱區恆定，而在延伸區隨著朝向下游逐漸變寬，而在緩和區恆定，或者朝向下游逐漸變窄。鏈條上以恆定間隔安裝有夾子123。
預熱區、延伸區、緩和區藉由來自導管125送出之乾燥風而形成為空間，因此這些各區域之間沒有明確的界限。從導管125的狹縫朝向薄膜122送出調整為預定溫度和濕度之乾燥風。
輥乾燥裝置103中，薄膜122掛繞在複數個輥126上進行傳 送。輥乾燥裝置103的內部氣氛的溫度或濕度等藉由未圖示之調溫機進行調節，在薄膜122被傳送之期間，溶劑從薄膜122蒸發。
第2拉幅機104具有與第1拉幅機102相同的結構，具有夾子128及導管129。第2拉幅機104藉由夾子128保持薄膜122並進行延伸。藉由該延伸，成為具有所希望之光學特性之薄膜122。所得到之薄膜122例如能夠用作液晶顯示器用相位差薄膜。另外，依薄膜122的光學特性，可無需使用第2拉幅機104。
分切機105切除包含因第1拉幅機102和第2拉幅機104的各夾子123、128產生之保持痕跡之側部。被切除側部之薄膜122藉由捲取裝置106捲取成卷狀。藉由本發明得到之薄膜卷130尤其能夠用於相位差薄膜和偏光板保護薄膜。
另外，流延帶11a的寬度為例如濃液120的流延寬度的1.1倍以上2.0倍以下為較佳。流延帶11a的長度為例如20m以上200m以下為較佳。流延帶11a的厚度為例如0.5mm以上2.5mm以下為較佳。使用流延帶11a的厚度不均相對於整個厚度的0.5%以下者為較佳。並且，形成流延膜121之表面的表面粗糙度為0.05μm以下為較佳。
作為產品之薄膜的寬度為600mm以上為較佳，1400mm以上2500mm以下尤為佳。並且，本發明在薄膜的寬度大於2500mm時亦有效果。並且，薄膜的膜厚為10μm以上80μm以下為較佳。
(聚合物)
能夠用於本發明之聚合物只要為熱塑性樹脂則沒有特別限定，例如能夠例舉出纖維素醯化物、含內酯環聚合體、環狀烯烴、聚碳酸酯等。其中纖維素醯化物、環狀烯烴為較佳、其中含醋酸基、丙酸酯基之纖維素醯化物、藉由加成聚合得到之環狀烯烴為較佳。
(纖維素醯化物)
用於本發明之纖維素醯化物的醯基可僅為1種，或者亦可使用2種以上的醯基。使用2種以上醯基時，其中1個為乙醯基為較佳。用羧酸酯化纖維素的羥基的比例，即醯基的取代度滿足所有下述公式(I)~(III)為較佳。另外，以下公式(I)~(III)中，A及B表示醯基的取代度，A為乙醯基的取代度，並且B為碳原子數為3~22的醯基的取代度。另外，三醋酸纖維素(TAC)的90質量%以上為0.1mm~4mm的顆粒為較佳。
(I)2.0A+B3.0
(II)1.0A3.0
(III)0B2.9
醯基的總取代度A+B為2.20以上2.90以下為較佳，2.40以上2.88以下尤為佳。並且，碳原子數3~22的醯基的取代度B為0.30以上為較佳，0.5以上尤為佳。
另外，在日本專利公開2005-104148號的從[0140]段落到[0195]段落中記載有纖維素醯化物的詳細內容。該些記載內容亦能夠適用於本發明中。並且，在相同的日本專利公開2005-104148號的從[0196]段落到[0516]段落中詳細記載有溶劑及增塑劑、劣化抑制劑、紫外線吸收劑(UV劑)、光學各向異性控制劑、延遲抑制劑、染料、去光劑、剝離劑、剝離促進劑等添加劑。並且，作為纖維素醯化物的原料之纖維素可由棉絨纖維、漿料中的任一種得到。
上述實施形態中，作為流延支撐體，對流延帶進行了說明，但亦可代替流延帶，將滾筒作為流延支撐體。此時，利用上述表面檢查裝置10對滾筒進行表面檢查。並且，對捲繞於支撐滾筒12上之流延帶11a 或流延滾筒進行表面檢查，除此以外，亦可對支撐滾筒12之間的流延帶11a進行表面檢查。
10‧‧‧表面檢查裝置
11‧‧‧流延支撐體
11a‧‧‧流延帶
12‧‧‧支撐滾筒
15‧‧‧掃描儀
16‧‧‧接收機
18‧‧‧定位單元
20‧‧‧雷射
21‧‧‧遮光板
21a‧‧‧狹縫開口
31‧‧‧框架
32‧‧‧掃描儀保持部
33‧‧‧接收機保持部
34‧‧‧Z軸轉動保持部
35‧‧‧Y軸滑動部
36‧‧‧X軸轉動保持部
37‧‧‧Z軸滑動部
38‧‧‧X軸滑動部
39‧‧‧雷射指示器
40、45‧‧‧側板
41‧‧‧支撐板
42‧‧‧背板
43、47‧‧‧長孔
44、48‧‧‧安裝螺釘
46‧‧‧支撐板
54‧‧‧支撐板
65‧‧‧基台
66‧‧‧安裝軸
67‧‧‧擺動限制桿
68‧‧‧安裝軸
69‧‧‧長孔
70‧‧‧安裝螺釘
75‧‧‧活動腳輪
76‧‧‧導引構件
80‧‧‧支柱
81‧‧‧除塵裝置
CL1‧‧‧掃描中心線
Rd‧‧‧支撐滾筒的半徑
SL‧‧‧掃描線
θ1‧‧‧入射角度
θ2‧‧‧射出角度
X、Y、Z‧‧‧方向

Claims (17)

  1. 一種流延支撐體的表面檢查裝置，其特徵為，具備：掃描儀，對連續行走之流延支撐體沿前述流延支撐體的寬度方向掃描雷射，前述流延支撐體上的前述雷射的光斑直徑為20μm以上50μm以下；接收機，對前述流延支撐體上反射之前述雷射進行光電轉換；遮光板，設置於前述接收機且具有狹縫開口，前述狹縫開口沿著在前述流延支撐體反射之前述雷射的掃描線配設，前述狹縫開口的狹縫寬度為前述光斑直徑的30倍以上200倍以下；及缺陷判定部，前述缺陷判定部對來自前述接收機之光電轉換訊號進行二進制化而生成二進制訊號，前述缺陷判定部依前述二進制訊號檢測缺陷候選，前述缺陷判定部將大於預先設定之值的缺陷候選判定為缺陷。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中，前述流延支撐體為流延滾筒與捲繞於1對支撐滾筒上之環狀流延帶中的任一方，基於前述雷射之掃描線形成於前述流延滾筒的周面與捲繞於前述支撐滾筒上之流延帶部份中的任一方，被形成前述掃描線之前述流延支撐體的曲率半徑為100mm以上4000mm以下。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中，前述表面檢查裝置具備定位單元，前述定位單元將前述掃描儀和前述接收機定位到前述流延支撐體。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中，前述定位單元具有框架、掃描儀保持部及接收機保持部，前述框架配設成與前述流延支撐體相對，前述掃描儀保持部使前述掃描儀圍繞與前述流延支撐體上的前述雷射的掃描線平行之X軸轉動而在任意轉動位置固定 前述掃描儀，前述接收機保持部使前述接收機圍繞X軸轉動而在任意轉動位置固定前述接收機，以便由前述狹縫開口接收從前述流延支撐體反射之前述雷射。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中，前述掃描儀保持部使前述掃描儀以前述流延支撐體上的設計時掃描線為中心轉動，前述接收機保持部使前述接收機以前述設計時掃描線為中心轉動。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中，前述表面檢查裝置具有掃描儀及接收機的轉動保持部，前述掃描儀及接收機的轉動保持部沿著與X軸正交之Y軸排列前述掃描儀及前述接收機，使前述掃描儀保持部及前述接收機保持部成一體化，使成一體化之前述掃描儀保持部及前述接收機保持部圍繞與包含X軸及Y軸之XY面正交之Z軸轉動，在任意轉動位置將前述掃描儀保持部及前述接收機保持部固定於前述框架上。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中，前述表面檢查裝置具有Y軸滑動部、框架X軸轉動保持部及Z軸滑動部，前述Y軸滑動部將前述掃描儀及接收機的轉動保持部保持成在前述Y軸方向上相對於前述框架移動自如，前述框架X軸轉動保持部使前述框架圍繞X軸轉動而在任意轉動位置固定前述框架，前述Z軸滑動部將前述框架X軸轉動保持部保持成在Z軸方向上移動自如。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中，前述表面檢查裝置具有X軸滑動部，前述X軸滑動部將前述Z軸滑動部保持成在X軸方向上移動自如。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中， 前述表面檢查裝置具有雷射指示器，該雷射指示器對前述流延支撐體上分開之兩點進行聚光照射來決定前述雷射的掃描方向。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之流延支撐體的表面檢查裝置，其中，前述表面檢查裝置相對於前述掃描線在前述流延支撐體的行走方向上游側具有對前述流延支撐體進行除塵之除塵裝置。
  11. 一種流延支撐體的表面檢查方法，其特徵為，具備如下步驟：(A)對連續行走之流延支撐體沿該流延支撐體的寬度方向掃描雷射，在前述流延支撐體上的前述雷射的光斑直徑為20μm以上50μm以下；(B)藉由遮光板遮擋前述雷射，前述遮光板具有沿著在前述流延支撐體上反射之前述雷射的掃描方向配設之狹縫開口，前述狹縫開口的狹縫寬度Ws為前述光斑直徑的30倍以上200倍以下；(C)經由前述狹縫開口接收在前述流延支撐體上反射之前述雷射；(D)對接收之前述雷射進行光電轉換來對該光電轉換訊號進行二進制化；(E)依在前述D步驟中生成之二進制訊號檢測缺陷候選；及(F)將大於預先設定之值的前述缺陷候選判定為缺陷。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之流延支撐體的表面檢查方法，其中，前述流延支撐體為流延滾筒與捲繞於1對支撐滾筒上之環狀流延帶中的任一方，基於前述雷射之掃描線形成於前述流延滾筒的周面與捲繞於前述支撐滾筒上之流延帶部份中的任一方，被形成前述掃描線之前述流延支撐體的曲率半徑為100mm以上4000mm以下。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之流延支撐體的表面檢查方法，其中，還具備如下步驟：(G)使前述掃描儀圍繞與前述流延支撐體上的前述雷射的前述掃描線 平行之X軸轉動而在任意轉動位置固定前述掃描儀；及(H)使前述接收機圍繞X軸轉動而在任意轉動位置固定前述接收機，以便由前述狹縫開口接收從前述流延支撐體反射之前述雷射。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之流延支撐體的表面檢查方法，其中，還具備如下步驟：(I)沿著與X軸正交之Y軸排列前述掃描儀及前述接收機，使前述掃描儀及前述接收機成一體化，使成一體化之掃描儀及接收機在包含X軸及Y軸之XY面上轉動，以連結前述掃描儀與前述接收機的中心線相對於Y軸成為任意傾斜角度之方式保持前述掃描儀及前述接收機。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之流延支撐體的表面檢查方法，其中，還具備如下步驟：(J)在I步驟之後，將前述掃描儀及接收機保持成在Y軸方向上移動自如；(K)使經過J步驟之前述掃描儀及接收機圍繞X軸轉動之後，在任意轉動位置進行固定；及(L)將經過K步驟之前述掃描儀及接收機保持成在與XY面交叉之Z軸方向上移動自如。
  16. 一種溶液製膜方法，其特徵為，具備如下步驟：(A)對連續行走之流延支撐體沿該寬度方向掃描雷射，在前述流延支撐體上的前述雷射的光斑直徑為20μm以上50μm以下；(B)藉由遮光板遮擋前述雷射，前述遮光板具有沿著在前述流延支撐體上反射之前述雷射的掃描方向配設之狹縫開口，前述狹縫開口的狹縫寬度Ws為前述光斑直徑的30倍以上200倍以下；(C)經由前述狹縫開口接收在前述流延支撐體反射之前述雷射； (D)對接收之前述雷射進行光電轉換來對該光電轉換訊號進行二進制化；(E)依在前述D步驟中生成之二進制訊號檢測缺陷候選；(F)將大於預先設定之值的前述缺陷候選判定為缺陷；(M)從流延模使濃液流出至經過前述F步驟而被評價為適宜的前述流延支撐體上而形成流延膜，前述濃液包含聚合物及溶劑；及(N)從前述流延膜使前述溶劑蒸發而作為濕潤薄膜進行剝取。
  17. 一種溶液製膜設備，其特徵為，具備：流延支撐體；驅動源，使前述流延支撐體旋轉而使流延支撐面行走；流延模，朝向藉由前述驅動源而行走之前述流延支撐體使濃液流出，前述濃液包含聚合物及溶劑；膜固化機，使由流出至前述流延支撐體上之濃液構成之流延膜固化；及剝離輥，從前述流延支撐體剝下前述流延膜，以及其中，前述流延支撐體係藉由表面檢查方法進行檢查而被評價為適宜者，前述表面檢查方法具有如下步驟：(A)對連續行走之流延支撐體沿該寬度方向掃描雷射，在前述流延支撐體上的前述雷射的光斑直徑為20μm以上50μm以下；(B)藉由遮光板遮擋前述雷射，前述遮光板具有沿著在前述流延支撐體上反射之前述雷射的掃描方向配設之狹縫開口，前述狹縫開口的狹縫寬度Ws為前述光斑直徑的30倍以上200倍以下；(C)經由前述狹縫開口接收在前述流延支撐體上反射之前述雷射；(D)對接收之前述雷射進行光電轉換來對該光電轉換訊號進行二進制 化；(E)依在前述D步驟中生成之二進制訊號檢測缺陷候選；及(F)將大於預先設定之值的前述缺陷候選判定為缺陷。
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