JP5754140B2 - 表面が強化された透光性アルミナ焼結体の製造方法 - Google Patents
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Description
そのため、表面強化透光性アルミナ焼結体は、非晶質アルミナ層などを有する透光性アルミナ焼結体と比べても、高い機械的特性を示す。
Tt:全光線透過率(%)
Td:拡散透過率(%)
Ti:直線透過率(%)
全光線透過率はJISK7105「プラスティックスの光学特性試験方法」およびJISK7361−1「プラスティック・透明材料の全光線透過率の試験方法」に基づいて測定した。測定にはダブルビーム方式の分光光度計(日本分光株式会社製、V−650型)を用い、光源(重水素ランプおよびハロゲンランプ)より発生した光を試料に透過および散乱させ積分球を用いて全光線透過量を測定した。測定波長領域は200〜800nmの領域とし、全光線透過率は可視光線領域の600nmの波長での全光線透過率とした。
試験機、並びに台座に接着した凹型試験体を用いて測定した(図4参照)。凹型試験片にCo−Cr合金製ワイヤーを装着し、ワイヤーを固定した状態でブラケットを台座とともに回転させ、破断させることにより破壊モーメント測定を行った(図5参照)。破壊モーメントは5回測定した平均値を採用した。
実施例及び比較例で得られた焼結体の断面をEPMA(EPMA1610,島津製作所)により観察し、透光性アルミナ焼結体の表面に形成された層の厚さを観察した。
平均三点曲げ強度はJISR1601「ファインセラミックスの曲げ強さ試験方法」に準じて試験片を作製し、測定した。
研削研磨した試験片を用いるJISR1601による三点曲げ強度に対し、加工しない焼結面を残す試験片を用い、その面に応力集中するよう負荷を加えて曲げ強度を測定し、これを「焼結面曲げ強度」とした。
(基材アルミナ焼結体の作製)
高純度アルミナ粉末(大明化学工業製 99.99重量%、比表面積14m2/g)1kgに熱可塑性樹脂200gを添加し混合してアルミナコンパウンドを作製した。作製したアルミナコンパウンドを射出成型して、凹型のアルミナ成型体を得た。
有機ケイ素化合物のプラズマ分解法により、基材アルミナ焼結体の表面に非晶質シリカ層を形成した。非晶質シリカ層の形成は、プラズマCVD装置(14−136PC−9、ユーテック社製)を用い、原料はシリコンテトラエトキシド(Si(OC2H5)4)、基板温度は室温とし、基材アルミナ焼結体はシリコンウエハー基板上に貼り付けて行なった。なお、非晶質シリカ層の厚みが0.3μmとなるようにした。
非晶質シリカ層を形成後の熱処理温度を1200℃とした以外は実施例1と同様な方法により表面強化透光性アルミナ焼結体を得た。得られた表面強化透光性アルミナ焼結体の破壊モーメントを測定した。結果を表1に示す。
実施例1の基材アルミナ焼結体と同様な方法で製造した透光性アルミナ焼結体を比較例1の透光性アルミナ焼結体とした。得られた透光性アルミナ焼結体の破壊モーメントを測定した。結果を表1に示す。
非晶質シリカ層の形成後の熱処理を行なわなかったこと以外は実施例1と同様な方法により透光性アルミナ焼結体を得た。得られた透光性アルミナ焼結体の破壊モーメントを測定した。結果を表1に示す。
非晶質シリカ層形成後の熱処理温度を600℃とした以外は実施例1と同様な方法により透光性アルミナ焼結体を得た。得られた透光性アルミナ焼結体の破壊モーメントを測定した。結果を表1に示す。
(基材アルミナ焼結体の作製)
実施例1と同様の方法で凹型の透光性アルミナ焼結体を作製し、基材アルミナ焼結体とした。
(非晶質シリカ層の形成)
次いで、スパッタ法により基材アルミナ焼結体表面に非晶質シリカ層を形成した。スパッタ法は、シリコンターゲットをアルゴン/酸素ガスでスパッタする反応性スパッタリング装置を用いて行なった。非晶質シリカ層の厚さは0.3μmとした。
非晶質シリカ層形成後の熱処理温度を1200℃とした以外は、実施例3と同様な方法により凹型の表面強化透光性アルミナ焼結体を得た。得られた表面強化透光性アルミナ焼結体の破壊モーメントを測定した。結果を表2に示す。
非晶質シリカ層形成後の熱処理を行なわなかった以外は、実施例3と同様な方法により凹型の透光性アルミナ焼結体を得た。得られた透光性アルミナ焼結体の破壊モーメントを測定した。結果を表2に示す。
非晶質シリカ層形成後の熱処理温度を600℃とした以外は、実施例3と同様な方法により凹型の透光性アルミナ焼結体を得た。得られた透光性アルミナ焼結体の破壊モーメントを測定した。結果を表2に示す。
(基材アルミナ焼結体の作製)
実施例1と同様の方法でHIP処理まで行い、凹型の透光性アルミナ焼結体を作製し、基材アルミナ焼結体とした。
(非晶質シリカ層の形成)
次いで、イオンプレーティング法により、得られた基材アルミナ焼結体表面に非晶質シリカ層を形成した。
非晶質シリカ層形成後の熱処理温度を1200℃とした以外は、実施例5と同様な方法により凹型の表面強化透光性アルミナ焼結体を得た。結果を表3に示す。
非晶質シリカ層形成後の熱処理を行なわなかった以外は、実施例5と同様な方法により凹型の透光性アルミナ焼結体を得た。結果を表3に示す。
非晶質シリカ層形成後の熱処理温度を600℃とした以外は、実施例5と同様な方法により凹型の透光性アルミナ焼結体を得た。結果を表3に示す。
(基材アルミナ焼結体の作製)
実施例1と同様の方法でHIP処理まで行い、凹型の透光性アルミナ焼結体を作製し、基材アルミナ焼結体とした。
(アルミナ層の作製)
次いで、イオンプレーティング法により、得られた基材アルミナ焼結体表面にアルミナ層を形成した。
非晶質アルミナ層形成後の焼成温度を1200℃で熱処理した以外は比較例8と同様な方法で凹型の高純度透光性アルミナ焼結体を作製した。結果を表4に示す。
(基材アルミナ焼結体の作製)
高純度アルミナ粉末(大明化学工業製 99.99重量%、比表面積14m2/g)を一軸プレス装置と金型を用い、圧力50MPaを加え、次に冷間静水圧プレス装置で圧力200MPaを加え、成型体を得た。
(基材アルミナ焼結体の前処理)
非晶質シリカ層の形成の前に、それぞれに基材アルミナ焼結体を前処理した。
(非晶質シリカ層の形成)
次いで、実施例5と同様なイオンプレーティング法により、基材アルミナ焼結体表面に非晶質シリカ層を形成した。非晶質シリカ層の厚さは0.2μmとした。
非晶質シリカ層形成後の熱処理を1200℃とした以外は実施例7と同様の方法で表面強化透光性アルミナ焼結体を得た。得られた表面強化透光性アルミナ焼結体の平均三点曲げ強度、平均焼結面曲げ強度および全光線透過率を測定した。結果を表5に示す。
実施例7と同様の方法で透光性アルミナ焼結体を製造し、これを比較例10の透光性アルミナ焼結体とした。得られた透光性アルミナ焼結体の平均三点曲げ強度、平均焼結面曲げ強度および全光線透過率を測定した。結果を表5に示す。
非晶質シリカ層形成後の熱処理を600℃とした以外は実施例7と同様の方法で透光性アルミナ焼結体を得た。得られた透光性アルミナ焼結体の平均三点曲げ強度、平均焼結面曲げ強度および全光線透過率を測定した。結果を表5に示す。
(基材アルミナ焼結体の作製)
実施例7と同様な方法により、透光性アルミナ焼結体を作製し、基材アルミナ焼結体とした。
(アルミナ層の形成)
次いで、SiO2粉末のかわりに、Al2O3粉末を使用した以外は実施例5と同様な方法で、基材アルミナ焼結体表面にアルミナ層を形成した。非晶質シリカ層の厚さは0.2μmとした。
アルミナ層形成後の熱処理を1100℃とした以外は比較例12と同様の方法で透光性アルミナ焼結体を得た。得られた透光性アルミナ焼結体の平均三点曲げ強度、平均焼結面曲げ強度および全光線透過率を測定した。結果を表6に示す。
アルミナ層形成後の熱処理を1200℃とした以外は比較例12と同様の方法で透光性アルミナ焼結体を得た。得られた透光性アルミナ焼結体の平均三点曲げ強度、平均焼結面曲げ強度および全光線透過率を測定した。結果を表6に示す。
(基材アルミナ焼結体の作製)
実施例1と同様な方法により、凹型の透光性アルミナ焼結体を製造し、これを基材アルミナ焼結体とした。
(非晶質シリカ層の形成)
次いで、イオンプレーティング法により、得られた基材アルミナ焼結体表面に非晶質シリカ層を形成した。
非晶質シリカ層形成後の熱処理温度を1300℃とした以外は実施例9と同様にして凹型の表面強化透光性アルミナ焼結体を作製した。得られた表面強化透光性アルミナ焼結体の破壊モーメントを測定した。結果を表7に示す。
(基材アルミナ焼結体の製造)
実施例1と同様な方法で一次焼結を行い、凹型の一次焼結体を得た。得られた一次焼結体は相対密度98%の不透明かつ白色の不透明アルミナ焼結体であった。
(非晶質シリカ層の形成)
次いで、実施例9と同様な方法で基材アルミナ焼結体に非晶質シリカ層を形成、熱処理、HIP処理し、凹型の表面強化透光性アルミナ焼結体を作製した。
(基材アルミナ焼結体の作製)
実施例7と同様の方法で成型体を得た。得られた成型体を、大気中1300℃、2時間焼成し、相対密度97%の不透明アルミナ焼結体を得た。
(非晶質シリカ層の形成)
次いで、実施例7と同様な方法で非晶質シリカ層を形成した。非晶質シリカ層の厚さは0.2μmとした。
非晶質シリカ層の形成後の熱処理(HIP処理)の温度を1300℃とした以外は実施例12と同様にして高純度透光性アルミナ焼結体を作製した。得られた表面強化透光性アルミナ焼結体の平均三点曲げ強度、平均焼結面曲げ強度および全光線透過率を測定した。結果を表8に示す。
(基材アルミナ焼結体の作製)
実施例7と同様の方法で成型体を得た。得られた成型体を、大気中1300℃、2時間焼成し、相対密度97%の不透明アルミナ焼結体を得た。得られた不透明アルミナ焼結体を基材アルミナ焼結体とした。
(非晶質シリカ層の形成)
基材アルミナ焼結体は、実施例12と同様な処理により表面強化透光性アルミナ焼結体を作製した。得られた表面強化透光性アルミナ焼結体の平均三点曲げ強度、平均焼結面曲げ強度および全光線透過率を測定した。結果を表8に示す。
2:台座
3:角型ワイヤー
4:ゴム輪
5:回転テーブル
6:ワイヤー固定中心軸
7:負荷
8:研磨面(表面粗さRa=0.02μm以下)
9:焼結面
10:支点
Claims (7)
- アルミナ焼結体に非晶質シリカ層を形成した後、該焼結体を1000℃以上で熱処理することを特徴とする非晶質シリカ層を有する透光性アルミナ焼結体の製造方法。
- 非晶質シリカ層を少なくとも0.1μm形成することを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 熱処理が加圧焼結であることを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。
- 熱処理の後にさらに加圧焼結をすることを特徴とする請求項1又は2に記載の製造方法。
- アルミナ焼結体の相対密度が少なくとも95%であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の製造方法。
- アルミナ焼結体の相対密度が95%以上98%以下であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の製造方法。
- 非晶質シリカ層を有する透光性アルミナ焼結体が、測定波長600nm、試料厚さ1mmにおける全光線透過率が少なくとも60%であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の製造方法。
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