JP5746760B2 - 蒸発性有機半導体材料および光電子構成部品におけるその使用 - Google Patents
蒸発性有機半導体材料および光電子構成部品におけるその使用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5746760B2 JP5746760B2 JP2013515925A JP2013515925A JP5746760B2 JP 5746760 B2 JP5746760 B2 JP 5746760B2 JP 2013515925 A JP2013515925 A JP 2013515925A JP 2013515925 A JP2013515925 A JP 2013515925A JP 5746760 B2 JP5746760 B2 JP 5746760B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mmol
- alkyl
- compound
- heteroaryl
- aryl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 title claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 100
- 125000000923 (C1-C30) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- -1 wherein R═H Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000739 C2-C30 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 claims 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 78
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 41
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 36
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- 239000000047 product Substances 0.000 description 26
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 23
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 23
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N tetrahydropyridine hydrochloride Natural products C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 22
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 16
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 13
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 13
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 12
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 11
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 description 10
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 10
- WEOUKWISKVENIP-UHFFFAOYSA-N trimethyl-(4-propyl-6-trimethylstannyldithieno[3,2-d:3',2'-e]pyrrol-2-yl)stannane Chemical compound S1C([Sn](C)(C)C)=CC2=C1C(SC(=C1)[Sn](C)(C)C)=C1N2CCC WEOUKWISKVENIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 241001655883 Adeno-associated virus - 1 Species 0.000 description 9
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 9
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 9
- QPFMBZIOSGYJDE-QDNHWIQGSA-N 1,1,2,2-tetrachlorethane-d2 Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)C([2H])(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-QDNHWIQGSA-N 0.000 description 8
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- IARKCNGZJZMLFX-UHFFFAOYSA-N (4,8-diethoxy-2-trimethylstannylthieno[2,3-f][1]benzothiol-6-yl)-trimethylstannane Chemical compound CCOC1=C2C=C([Sn](C)(C)C)SC2=C(OCC)C2=C1SC([Sn](C)(C)C)=C2 IARKCNGZJZMLFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MYMFYWGVTXOLRG-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-bromophenyl)methylidene]propanedinitrile Chemical compound BrC1=CC=C(C=C(C#N)C#N)C=C1 MYMFYWGVTXOLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 7
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 6
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 6
- 229960001866 silicon dioxide Drugs 0.000 description 6
- CGSXVDUMFIASNN-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-bromo-3-fluorophenyl)methylidene]propanedinitrile Chemical compound FC1=CC(C=C(C#N)C#N)=CC=C1Br CGSXVDUMFIASNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GENXNNBTXNTFOL-UHFFFAOYSA-N 2-[(6-bromopyridin-3-yl)methylidene]propanedinitrile Chemical compound BrC1=CC=C(C=C(C#N)C#N)C=N1 GENXNNBTXNTFOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- XAFVUUMXGJQQCM-UHFFFAOYSA-N 4-butyl-5-[2-(3-butyl-5-formylthiophen-2-yl)-[1]benzothiolo[7,6-g][1]benzothiol-7-yl]thiophene-2-carbaldehyde Chemical compound C1=C(C=O)SC(C=2SC3=C4C=CC=5C=C(SC=5C4=CC=C3C=2)C2=C(C=C(C=O)S2)CCCC)=C1CCCC XAFVUUMXGJQQCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AMUYHSCQMWBWKE-UHFFFAOYSA-N 4-hexyldithieno[3,2-d:3',2'-e]pyrrole Chemical compound S1C=CC2=C1C(SC=C1)=C1N2CCCCCC AMUYHSCQMWBWKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GFBVUFQNHLUCPX-UHFFFAOYSA-N 5-bromothiophene-2-carbaldehyde Chemical compound BrC1=CC=C(C=O)S1 GFBVUFQNHLUCPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000702423 Adeno-associated virus - 2 Species 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M chloro(trimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(C)Cl KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 4
- 238000001906 matrix-assisted laser desorption--ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 4
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- LULUUNWXJYRCPR-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-2,5-bis(thieno[3,2-b]thiophen-5-yl)pyrrole Chemical compound S1C=CC(S2)=C1C=C2C1=CC=C(C=2SC=3C=CSC=3C=2)N1CCCCCC LULUUNWXJYRCPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BCWRGYQWCGHLEX-UHFFFAOYSA-N 2,7-bis(3-butylthiophen-2-yl)-[1]benzothiolo[7,6-g][1]benzothiole Chemical compound C1=CSC(C=2SC3=C4C=CC=5C=C(SC=5C4=CC=C3C=2)C2=C(C=CS2)CCCC)=C1CCCC BCWRGYQWCGHLEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VQZGFFAPGATHNF-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-butyl-5-[2-[3-butyl-5-(2,2-dicyanoethenyl)thiophen-2-yl]-[1]benzothiolo[7,6-g][1]benzothiol-7-yl]thiophen-2-yl]methylidene]propanedinitrile Chemical compound C1=C(C=C(C#N)C#N)SC(C=2SC3=C4C=CC=5C=C(SC=5C4=CC=C3C=2)C2=C(C=C(C=C(C#N)C#N)S2)CCCC)=C1CCCC VQZGFFAPGATHNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NVORBAXCWWFMSA-UHFFFAOYSA-N 3,7-dibromo-10h-phenothiazine Chemical compound C1=C(Br)C=C2SC3=CC(Br)=CC=C3NC2=C1 NVORBAXCWWFMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LUDZJVZEBHTEBB-UHFFFAOYSA-N 3,7-dibromodibenzothiophene 5,5-dioxide Chemical compound C1=C(Br)C=C2S(=O)(=O)C3=CC(Br)=CC=C3C2=C1 LUDZJVZEBHTEBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHRLEZLDZAIZSB-UHFFFAOYSA-N 3-butyl-2-[2-[6-[2-(3-butylthiophen-2-yl)ethynyl]-1,5-dichloronaphthalen-2-yl]ethynyl]thiophene Chemical compound C1=CSC(C#CC=2C(=C3C=CC(=C(Cl)C3=CC=2)C#CC2=C(C=CS2)CCCC)Cl)=C1CCCC WHRLEZLDZAIZSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FTVUDPGRAHNXAA-UHFFFAOYSA-N 3-butyl-2-ethynylthiophene Chemical compound CCCCC=1C=CSC=1C#C FTVUDPGRAHNXAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SWHUROFMIMHWKS-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-3-fluorobenzaldehyde Chemical compound FC1=CC(C=O)=CC=C1Br SWHUROFMIMHWKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZRYZBQLXDKPBDU-UHFFFAOYSA-N 4-bromobenzaldehyde Chemical compound BrC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRYZBQLXDKPBDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PVUKGNBRJFTFNJ-UHFFFAOYSA-N 6-bromopyridine-3-carbaldehyde Chemical compound BrC1=CC=C(C=O)C=N1 PVUKGNBRJFTFNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTEFFURPGCJFKD-UHFFFAOYSA-N [1,5-dichloro-6-(trifluoromethylsulfonyloxy)naphthalen-2-yl] trifluoromethanesulfonate Chemical compound ClC1=C(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C=CC2=C(Cl)C(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)=CC=C21 NTEFFURPGCJFKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- PHDIJLFSKNMCMI-ITGJKDDRSA-N (3R,4S,5R,6R)-6-(hydroxymethyl)-4-(8-quinolin-6-yloxyoctoxy)oxane-2,3,5-triol Chemical compound OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H](C(O1)O)O)OCCCCCCCCOC=1C=C2C=CC=NC2=CC=1)O PHDIJLFSKNMCMI-ITGJKDDRSA-N 0.000 description 2
- WXCPEYCCAIMWNO-UHFFFAOYSA-N (5-bromo-1,3-thiazol-2-yl)-tri(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)C1=NC=C(Br)S1 WXCPEYCCAIMWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWLNYSYJNLUOO-UHFFFAOYSA-N 1-Piperidinecarboxaldehyde Chemical compound O=CN1CCCCC1 FEWLNYSYJNLUOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOJBUVQDOFHBLF-UHFFFAOYSA-N 2-(diethoxyphosphorylmethyl)thiophene Chemical compound CCOP(=O)(OCC)CC1=CC=CS1 GOJBUVQDOFHBLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GFTOPUBXWAVPQJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(5-bromothiophen-2-yl)methylidene]propanedinitrile Chemical compound BrC1=CC=C(C=C(C#N)C#N)S1 GFTOPUBXWAVPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRLXQHUZBHERO-UHFFFAOYSA-N 2-[[5-[10-[5-(2,2-dicyanoethenyl)thiophen-2-yl]-7-propyl-3,11-dithia-5,7,9-triazatricyclo[6.3.0.02,6]undeca-1(8),2(6),4,9-tetraen-4-yl]thiophen-2-yl]methylidene]propanedinitrile Chemical compound N=1C=2N(CCC)C=3N=C(C=4SC(C=C(C#N)C#N)=CC=4)SC=3C=2SC=1C1=CC=C(C=C(C#N)C#N)S1 MYRLXQHUZBHERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KTBTULFQWLRGIN-UHFFFAOYSA-N 2-[[5-[5-[2-(2,2-dicyanoethenyl)thieno[3,2-b]thiophen-5-yl]-1-hexylpyrrol-2-yl]thieno[3,2-b]thiophen-2-yl]methylidene]propanedinitrile Chemical compound S1C(C=C(C#N)C#N)=CC(S2)=C1C=C2C1=CC=C(C=2SC=3C=C(C=C(C#N)C#N)SC=3C=2)N1CCCCCC KTBTULFQWLRGIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IDFHAYKUJFEKHS-UHFFFAOYSA-N 2-[[5-[7-[5-(2,2-dicyanoethenyl)thiophen-2-yl]-10-propylphenothiazin-3-yl]thiophen-2-yl]methylidene]propanedinitrile Chemical compound C=1C=C2N(CCC)C3=CC=C(C=4SC(C=C(C#N)C#N)=CC=4)C=C3SC2=CC=1C1=CC=C(C=C(C#N)C#N)S1 IDFHAYKUJFEKHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWEXZOJVKYUIKM-UHFFFAOYSA-N 3,7-dibromo-10-propylphenothiazine Chemical compound BrC1=CC=C2N(CCC)C3=CC=C(Br)C=C3SC2=C1 PWEXZOJVKYUIKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMNBVODPWIFUSS-UHFFFAOYSA-N 3,7-dibromodibenzothiophene Chemical compound BrC1=CC=C2C3=CC=C(Br)C=C3SC2=C1 KMNBVODPWIFUSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JMRZYZYZWYSSIN-UHFFFAOYSA-N 3-(5-bromothiophen-2-yl)prop-2-enenitrile Chemical compound BrC1=CC=C(C=CC#N)S1 JMRZYZYZWYSSIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FSBAVKFVMKTENT-UHFFFAOYSA-N 4,8-dipropylthieno[2,3-f][1]benzothiole Chemical compound CCCC1=C2C=CSC2=C(CCC)C2=C1SC=C2 FSBAVKFVMKTENT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYUXDVLWCSWSLX-UHFFFAOYSA-N 4-propyldithieno[3,2-d:3',2'-e]pyrrole Chemical compound S1C=CC2=C1C(SC=C1)=C1N2CCC UYUXDVLWCSWSLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKWNOBOEBLWGQN-UHFFFAOYSA-N 5-[5-(2-formylthieno[3,2-b]thiophen-5-yl)-1-hexylpyrrol-2-yl]thieno[3,2-b]thiophene-2-carbaldehyde Chemical compound S1C(C=O)=CC(S2)=C1C=C2C1=CC=C(C=2SC=3C=C(C=O)SC=3C=2)N1CCCCCC KKWNOBOEBLWGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGPMTCZYTJLUIU-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-5h-dithieno[2,3-a:2',3'-e]azepine Chemical compound CCCC1C=C2SC=CC2=NC2=C1SC=C2 DGPMTCZYTJLUIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAXGGPLNFQALEK-UHFFFAOYSA-N 7,7-dimethyl-7h-3,4-dithia-7-stannacyclopenta[a]pentalene Chemical compound S1C=CC2=C1C(SC=C1)=C1[Sn]2(C)C OAXGGPLNFQALEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSYCPZPLIKLBRO-UHFFFAOYSA-N 7-butylidene-3,11-dithiatricyclo[6.3.0.02,6]undeca-1(8),2(6),4,9-tetraene Chemical compound S1C=CC2=C1C(SC=C1)=C1C2=CCCC GSYCPZPLIKLBRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBWMWPHBPVSFLW-UHFFFAOYSA-N 7-propyl-3,11-dithia-5,7,9-triazatricyclo[6.3.0.02,6]undeca-1(8),2(6),4,9-tetraene Chemical compound S1C=NC2=C1C(SC=N1)=C1N2CCC XBWMWPHBPVSFLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005863 Friedel-Crafts acylation reaction Methods 0.000 description 2
- LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N N-iodosuccinimide Chemical compound IN1C(=O)CCC1=O LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N malononitrile Chemical compound N#CCC#N CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000816 matrix-assisted laser desorption--ionisation Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N palladium;tritert-butylphosphane Chemical compound [Pd].CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C.CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- IIPLDKZLZMGMFF-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)-(1,3-thiazol-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)C1=NC=CS1 IIPLDKZLZMGMFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OLYYVUWEZVTTOA-UHFFFAOYSA-N trimethyl-(10-propyl-7-trimethylstannylphenothiazin-3-yl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(C)C1=CC=C2N(CCC)C3=CC=C([Sn](C)(C)C)C=C3SC2=C1 OLYYVUWEZVTTOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSPOEGUIMKYUQA-UHFFFAOYSA-N trimethyl-(7-propyl-10-trimethylstannyl-3,11-dithia-5,7,9-triazatricyclo[6.3.0.02,6]undeca-1(8),2(6),4,9-tetraen-4-yl)stannane Chemical compound S1C([Sn](C)(C)C)=NC2=C1C(SC(=N1)[Sn](C)(C)C)=C1N2CCC BSPOEGUIMKYUQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZNCUGJZXXKSML-UHFFFAOYSA-N trimethyl-(7-trimethylstannyldibenzothiophen-3-yl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(C)C1=CC=C2C3=CC=C([Sn](C)(C)C)C=C3SC2=C1 RZNCUGJZXXKSML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002371 ultraviolet--visible spectrum Methods 0.000 description 2
- LSOOVLYXGBEPQP-UHFFFAOYSA-N (4,8-dipropyl-2-trimethylstannylthieno[2,3-f][1]benzothiol-6-yl)-trimethylstannane Chemical compound CCCC1=C2C=C([Sn](C)(C)C)SC2=C(CCC)C2=C1SC([Sn](C)(C)C)=C2 LSOOVLYXGBEPQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRLMPLDPCKRASL-ONEGZZNKSA-N (e)-3-(dimethylamino)prop-2-enal Chemical compound CN(C)\C=C\C=O RRLMPLDPCKRASL-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- JWMUSIPRTLTALQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromopent-1-ene Chemical compound CCCC=C(Br)Br JWMUSIPRTLTALQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKHFRAFPESRGGD-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-7-[3-(n-methylanilino)propyl]purine-2,6-dione Chemical compound C1=NC=2N(C)C(=O)N(C)C(=O)C=2N1CCCN(C)C1=CC=CC=C1 KKHFRAFPESRGGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCUXVXLUOHDHKK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminopyrimidin-4-yl)-4-(2-chloro-4-methoxyphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide Chemical compound ClC1=CC(OC)=CC=C1C1=C(C(N)=O)SC(C=2N=C(N)N=CC=2)=N1 VCUXVXLUOHDHKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMKGJQHNYMWDFJ-CVEARBPZSA-N 2-[[4-(2,2-difluoropropoxy)pyrimidin-5-yl]methylamino]-4-[[(1R,4S)-4-hydroxy-3,3-dimethylcyclohexyl]amino]pyrimidine-5-carbonitrile Chemical compound FC(COC1=NC=NC=C1CNC1=NC=C(C(=N1)N[C@H]1CC([C@H](CC1)O)(C)C)C#N)(C)F FMKGJQHNYMWDFJ-CVEARBPZSA-N 0.000 description 1
- NHQZQLAUTVTBIQ-UHFFFAOYSA-N 2-[[5-[7-[5-(2,2-dicyanoethenyl)thiophen-2-yl]dibenzothiophen-3-yl]thiophen-2-yl]methylidene]propanedinitrile Chemical compound S1C(C=C(C#N)C#N)=CC=C1C1=CC=C2C3=CC=C(C=4SC(C=C(C#N)C#N)=CC=4)C=C3SC2=C1 NHQZQLAUTVTBIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNBLITSBUDZSJW-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3-butylthiophene Chemical compound CCCCC=1C=CSC=1Br KNBLITSBUDZSJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOIDLOIBZFWDO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-[6-methoxy-4-[(3-phenylmethoxyphenyl)methoxy]-1-benzofuran-2-yl]imidazo[2,1-b][1,3,4]thiadiazole Chemical compound N1=C2SC(OC)=NN2C=C1C(OC1=CC(OC)=C2)=CC1=C2OCC(C=1)=CC=CC=1OCC1=CC=CC=C1 LFOIDLOIBZFWDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000389 2-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FSEJXNVEILKEQU-UHFFFAOYSA-N 3,4-dibromo-2-thiophen-2-ylthiophene Chemical compound BrC1=CSC(C=2SC=CC=2)=C1Br FSEJXNVEILKEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKWFECQTSQIZJK-UHFFFAOYSA-N 4,8-diethoxythieno[2,3-f][1]benzothiole Chemical compound CCOC1=C2C=CSC2=C(OCC)C2=C1SC=C2 XKWFECQTSQIZJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYFCZWSWFGJODV-MIANJLSGSA-N 4-[[(1s)-2-[(e)-3-[3-chloro-2-fluoro-6-(tetrazol-1-yl)phenyl]prop-2-enoyl]-5-(4-methyl-2-oxopiperazin-1-yl)-3,4-dihydro-1h-isoquinoline-1-carbonyl]amino]benzoic acid Chemical compound O=C1CN(C)CCN1C1=CC=CC2=C1CCN(C(=O)\C=C\C=1C(=CC=C(Cl)C=1F)N1N=NN=C1)[C@@H]2C(=O)NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WYFCZWSWFGJODV-MIANJLSGSA-N 0.000 description 1
- HCCNBKFJYUWLEX-UHFFFAOYSA-N 7-(6-methoxypyridin-3-yl)-1-(2-propoxyethyl)-3-(pyrazin-2-ylmethylamino)pyrido[3,4-b]pyrazin-2-one Chemical compound O=C1N(CCOCCC)C2=CC(C=3C=NC(OC)=CC=3)=NC=C2N=C1NCC1=CN=CC=N1 HCCNBKFJYUWLEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100030361 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pph-3 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- 229910019213 POCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006619 Stille reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005874 Vilsmeier-Haack formylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 1
- 229940125877 compound 31 Drugs 0.000 description 1
- 229940126545 compound 53 Drugs 0.000 description 1
- 229940127113 compound 57 Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IKJFYINYNJYDTA-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene sulfone Chemical compound C1=CC=C2S(=O)(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 IKJFYINYNJYDTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLUMOCWFMKWIL-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;methanol Chemical compound OC.ClCCl WGLUMOCWFMKWIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000006138 lithiation reaction Methods 0.000 description 1
- YTJXGDYAEOTOCG-UHFFFAOYSA-N lithium;di(propan-2-yl)azanide;oxolane Chemical compound [Li+].C1CCOC1.CC(C)[N-]C(C)C YTJXGDYAEOTOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- YGBMCLDVRUGXOV-UHFFFAOYSA-N n-[6-[6-chloro-5-[(4-fluorophenyl)sulfonylamino]pyridin-3-yl]-1,3-benzothiazol-2-yl]acetamide Chemical compound C1=C2SC(NC(=O)C)=NC2=CC=C1C(C=1)=CN=C(Cl)C=1NS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C=C1 YGBMCLDVRUGXOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229940048181 sodium sulfide nonahydrate Drugs 0.000 description 1
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMDLZMCDBSJMTM-UHFFFAOYSA-M sodium;sulfanide;nonahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[SH-] WMDLZMCDBSJMTM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophene Chemical class S1C=CC2=C1C=CS2 VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002061 vacuum sublimation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D495/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D495/12—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains three hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D495/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D495/12—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains three hetero rings
- C07D495/14—Ortho-condensed systems
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D409/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D495/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D495/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D495/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D498/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D498/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
- C07D513/12—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains three hetero rings
- C07D513/14—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D519/00—Heterocyclic compounds containing more than one system of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring system not provided for in groups C07D453/00 or C07D455/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/653—Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising only oxygen as heteroatom
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/655—Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising only sulfur as heteroatom
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
- H10K85/6576—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only sulfur in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. benzothiophene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/30—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/50—Photovoltaic [PV] devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/20—Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
- H10K85/211—Fullerenes, e.g. C60
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
0. 担体、基板、
1. ベースコンタクト、ほぼ透明
2. p層(複数可)、
3. i層(複数可)
4. n層(複数可)、
5. トップコンタクト。
R1およびR6はそれぞれ互いに独立に、H、C1〜C30アルキル、C1〜C30ペルフルオロアルキル、C3〜C10アリール、C2〜C8−ヘテロアリール、CNから選択され、
基Dは
ここで、Y1はO、S、Se、P(R)、P(O)R、Si(RR’)、C(RR’)およびN(R)から選択され、かつ
W1は独立にNおよびC−Rから選択され、ここで、RおよびR’は互いに独立に、置換または非置換のC1〜C30−アルキル、C3〜C6−アリールまたはC3〜C8−ヘテロアリールから選択され、かつ
Xはそれぞれ互いに独立に、O、NR’、S、Seから選択され、ここで、R’はC1〜C30−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Yはそれぞれ互いに独立に、NまたはCR9から選択され、ここで、R9=H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2であり、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C3〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Zはそれぞれ互いに独立に、NまたはCR10から選択され、ここで、R10=H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2であり、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C3〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
基Eは、下式から選択され
Y1およびZ1はO、S、Se、P(R)、P(O)R、Si(RR’)、C(RR’)およびN(R)から選択され、ここで、RおよびR’はそれぞれ互いに独立に、H、直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリール、アシル(COR’)、COOR’またはOR’から選択され、ここで、R’は、C1〜C30−アルキル、C3〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、好ましくは、Y1およびZ1はO、S、Se、Si(RR’)、C(RR’)およびN(R)から選択され、ここで、RおよびR’はそれぞれ互いに独立に、H、直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリール、アシル(COR’)、COOR’またはOR’から選択され、ここで、R’はC1〜C30−アルキル、C3〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、かつ
X1はO、S、Se、P(R)、P(O)RおよびSi(RR’)から選択され、RおよびR’はそれぞれ互いに独立に、H、直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C20−アルキル、C3〜C6アリールまたはC3〜C8ヘテロアリール、OR’、SR’、SiR’3、NR’2から選択され、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C3〜C6−アリールまたはC3〜C8−ヘテロアリールから選択され、好ましくは、X1は、O、S、SeおよびSi(RR’)から選択され、かつRおよびR’はそれぞれ互いに独立に、H、直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C20−アルキル、C3〜C6アリールまたはC3〜C8ヘテロアリール、OR’、SR’、SiR’3、NR’2から選択され、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C3〜C6−アリールまたはC3〜C8−ヘテロアリールから選択され、
R3、R4およびR5は互いに独立に、H、直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C20−アルキル、C3〜C6アリールまたはC3〜C8ヘテロアリール、OR’、SR’、SiR’3、NR’2であってよく、ここで、R’はC1〜C10−アルキル、C3〜C6−アリールまたはC3〜C8−ヘテロアリールから選択され、
bdは互いに独立に、*−C=C−*または
n、m、o、p、qおよびr、sおよびtは互いに独立に0または1であってよいが、ただし、少なくとも1つのパラメーターが1であることを条件とし、
基bd、EおよびDから構成されるドナーユニットが少なくとも10の共役電子を有し、
アスタリスク*で示されている結合は、化合物中のさらなる基への結合を意味している]。
R2、R3、R4およびR5はそれぞれ互いに独立に、H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、置換または非置換のC3〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリール、OR’、SR’、SiR’3、NR’2から選択され、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Xはそれぞれ互いに独立に、O、NR’、S、Seから選択され、ここで、R’は、C1〜C30−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Yはそれぞれ互いに独立に、NまたはCR9から選択され、ここで、R9=H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2であり、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Zはそれぞれ互いに独立に、NまたはCR10から選択され、ここで、R10=H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2であり、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
R1およびR6はそれぞれ互いに独立に、H、C1〜C30アルキル、C1〜C30ペルフルオロアルキル、C3〜C10アリール、CNから選択され、
Wはそれぞれ互いに独立に、O、C(CN)2、C(CN)COOR’から選択され、ここで、R’はC1〜C10−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、かつ
nは、0または1である]。
UがN−R7であり、ここで、R7が、1〜10個のC原子を有する直鎖もしくは分岐鎖で置換もしくは非置換のアルキルもしくはシクロアルキルまたは3〜10個の原子を有する置換もしくは非置換のアリールもしくはヘテロアリールから選択され、
R1からR6が、Hであり、
Yが、C−R9であり、ここで、R9が、H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2から選択され、ここで、R’が、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Zが、C−R10であり、ここで、R10が、H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2から選択され、ここで、R’が、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Xが、Sであり、かつ
Wが、C(CN)2である場合に存在する。
nが、0または1であり、
Uが、N−R7またはCR7R8であり、ここで、R7およびR8が互いに独立に、1〜10個のC原子を有する直鎖もしくは分岐鎖で置換もしくは非置換のアルキルもしくはシクロアルキルまたは3〜10個の原子を有する置換もしくは非置換のアリールもしくはヘテロアリールから選択され、
Yが、C−R9であり、ここで、R9が、H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2から選択され、ここで、R’が、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Zが、C−R10であり、ここで、R10が、H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C1〜C30アルケニル、C1〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2から選択され、ここで、R’が、C1〜C10−アルキル、C1〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Wが、C(CN)2であり、かつ
R1からR6が、Hである場合に存在する。
反応の順番を変えることができる。
第1の実施例では、図1に、化合物IcおよびIdの製造を図示する。
オートクレーブ中に、(A)(4.125g、12.75mmol)、t−BuONa(2.95g、30.7mmol)、Pd2dba3(293mg、0.32mmol)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル)(793mg、1.27mmol)を先に装入し、トルエン25mlを加え、反応混合物をアルゴンで換気する。フェニルアミン(752.5mg、12.725mmol)を加え、混合物を12時間加熱する(110℃)。冷却した後に、水40mlを加える。有機相を分離し、水性相をEt2Oで抽出する。合わせた有機相をNa2SO4上で乾燥させ、かつ濃縮する。残渣をクロマトグラフィーによって精製する(シリカゲル、PE CH2Cl2 10−1)。収量:(B)2.59g(92%)。NMR 1H:(CDCl3)7.16(d,2H)、7.03(d,2H)、4.04(t,2H)、1.93(m,2H)、0.97(t,3H)
Arで換気された250ml三つ口丸底フラスコで、(B)(1g、4.5mmol)をTHF(無水)100mlに溶かし、−78℃に冷却する。nBuLi(ヘキサン中2.5M、4.5ml、11.3mmol)を滴加し、反応混合物を約1時間−78℃で維持し、次いで、徐々に1時間で室温まで加温し、次いで、再び−78℃に冷却する。Me3SnCl(ヘキサン中1.0M、11.3ml、11.3mmol)を加え、かつ約1時間後に、反応混合物を解凍する。2時間後に水(100ml)を加え、水性相をEt2O50mlで抽出する。合わせた有機相を乾燥させ、かつ濃縮する。収量(C)2.37g(96%)。NMR 1H:(CDCl3)6.97(s,2H)、4.12(m,2H)、1.89(m,2H)、0.93(m,3H)、0.36(s,9H)
反応容器に、アルゴン下で(C)(2.37g、4.3mmol)、2−ブロモ−3−ブチル−チオフェン(2.3g、10.49mmol)およびPd[PPh3]4 250mgを先に装入し、トルエン30mlを加え、48時間還流加熱する。反応混合物をNH4Cl(飽和)および水で洗浄し、かつ濃縮する。残渣をクロマトグラフィーによって精製する(シリカゲル、PE CH2Cl2 10−1)。収量:(D)1.217g(57%)。NMR 1H:(CDCl3)7.21(d,2H)、7.04(s,2H)、6.97(d,2H)、4.20(t,2H)、2.85(t,4H)、1.96(m,2H)、1.67(m,4H)、1.44(m,4H)、0.98(m,6H)、0.88(3H)。
100ml1つ口丸底フラスコ中で、DMF(2.27ml、29.3mmol)およびPOCl3(2.46ml、26.4mmol)をCH2Cl2 30mlに溶かし、かつ2時間室温で撹拌する。その後、CH2Cl2 50ml中の(D)(1.217g、2.44mmol)を滴加し、48時間室温で撹拌する。NaHCO3(飽和)溶液50mlを反応混合物に加え、かつ2時間室温で撹拌する。有機相を分離し、水50mlで2回洗浄し、かつ乾燥させる。溶剤を留去し、残渣をクロマトグラフィーによって精製する(シリカゲル、CH2Cl2−MeOH 500−3)。収量:(Ib)827mg(62%)。NMR 1H:(CDCl3,)9.85(s,2H)、7.63(s,2H)、7.23(s,2H)、4.25(t,2H)、2.91(t,4H)、1.98(m,2H)、1.72(m,4H)、1.49(m,4H)、0.98(m,9H)
250ml1つ口丸底フラスコ中で、(1d)(723mg、1.3mmol)およびマロン酸ジニトリル(862mg、13mmol)を1,2−DCE150mlに溶かし、ピペリジン(11mg、0.13mmol)を加える。48時間の還流加熱の後に、溶剤を除去し、かつ固体を2時間、還流下で水で温浸する。沈澱物を除去し、水で、次いでMeOHで複数回洗浄し、乾燥させる。残渣をクロマトグラフィーによって精製する(シリカゲル、CH2Cl2)。収量:(Ic)370mg(45%)。NMR 1H:(C2D2Cl4,373K)7.73(s,2H)、7.63(s,2H)、7.36(s,2H)、4.27(t,2H)、2.96(t,4H)、2.05(m,2H)、1.79(m,4H)、1.53(m,4H)、1.07(m,9H)
10−6〜10−8mbarでの真空昇華によって、30nm厚の層を製造し、振動結晶モニターで調べた。化合物Icは、良好な収量で真空中で昇華し得る。図2に示されているとおり、吸収最大は0.39の吸収で603nmにある。
ビススタンニル化合物および3当量のブロモ化合物を無水THFに溶かす。Pd(PPh3)4を加え、反応混合物を還流温度に加熱する。室温に冷却した後に濾過し、かつ残渣をTHFおよびメタノールで洗浄する。粗製の生成物をクロマトグラフィーまたは再結晶化によって精製して、生成物を清浄に単離する。
アルデヒドおよびマロジニトリル(Malodinitril)をエタノールに溶かし、ピペリジンを加え、2時間還流加熱する。冷却の後に、沈澱物を濾別し、エタノールおよびヘキサンで洗浄する。粗製の生成物を再結晶化させて、生成物を清浄に単離する。
4−プロピル−4H−ジチエノ[3,2−b;2’,3’−d]ピロール(32)1.1g(5.0mmol)の乾燥THF17ml中の溶液に、1.6Mのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液6.9ml(11.0mmol)を−78℃で加える。混合物を1時間−78℃で撹拌した後に、冷却浴を外し、さらに1時間室温で撹拌した。この時間の間に沈澱物が生じる。懸濁液を−78℃に冷却し、THF3ml中に溶かしたトリメチルスタンニルクロリド2.2g(11.0mmol)の溶液を加える。混合物を1時間−78℃で撹拌し、続いて冷却浴を外して、さらに3時間室温で撹拌する。n−ヘキサン50mlを加え、水で加水分解する。有機相を水50mlで3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去した後に、残渣を真空乾燥させ、かつ粗製の生成物(2.26g、88%)をさらに精製することなく、次のステップで使用する。1H−NMR(CDCl3):7.01ppm(s,2H)、4.16(t,2H)、1.94(qa,2H)、0.98(t,3H)、0.40(s,18H)。
1.8MのLDA−THF溶液6.0ml(10.8mmol)のTHF10ml中の溶液に、アセトニトリル0.56ml(10.8mmol)を−78℃で滴加する。混合物を30分間撹拌する。5−ブロモチオフェン−2−カルボアルデヒド(1)1.91g(10.0mmol)を加え、1時間−78℃で撹拌する。反応混合物を−20℃に加温し、飽和NH4Cl溶液(2ml)を加える。相を分離し、水性相をエーテル(30ml)で抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去し、茶色のオイルを得る。その茶色のオイルを無水酢酸5mlおよび濃燐酸0.1mlに溶かす。この反応混合物を2時間100℃に加熱する。水30mlを加え、水性相をエーテル50mlで抽出する。有機相を炭酸水素ナトリウム溶液を少量ずつ用いて中和するまで洗浄し、かつ硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去した後に、残渣をクロマトグラフィーによって精製する(SiO2、DCM:ヘキサン(1:1))。生成物0.78g(36%)をE/Z異性体として得る。1H−NMR(CDCl3)E−異性体:7.25ppm(d,1H)、7.11(d,1H)、7.08(d,1H)、5.26(d,1H)。Z−異性体:7.33(d,1H)、7.04(d,1H)、6.98(d,1H)、5.54(d,1H)。
AAV1に従って、3−(5−ブロモ−2−チエニル)プロプ−2−エンニトリル(3a/b)(578mg、2.70mmol)および4−プロピル−2,6−ビストリメチルスタンニル−4H−ジチエノ[3,2−b;2’,3’−d]ピロール(4)(490mg、0.90mmol)をTHF5mlに溶かし、Pd(PPh3)4(104mg、0.09mmol)を加え、かつ混合物を16時間70℃で加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をクロマトグラフィーによって精製する(SiO2、DCM)。3種の生成物(Z,Z−異性体(60mg(14%)、E,E−異性体60mg(14%)およびE,Z−I異性体100mg(23%))を全体収率50%で得る。1H−NMR(TCE−d2,375K)Z,Z−異性体:7.36ppm(d,2H)、7.18(s,2H)、7.14(d,2H)、7.11(d,2H)、5.16(d,2H)、4.12(dd,2H)、1.93(qa,2H)、0.98(t,3H)。UV(フィルム):500nm。E,E−異性体:7,35(d、2H)、7,11(s、2H)、7,10(d、4H)、5,54(d、2H)、4,11(dd、2H)、2,92(qa、2H)、0,97(t、3H)。UV(フィルム):521nm。E,Z−異性体:7,35(m、2H)、7,18(s、1H)、7,11(m、5H)、5,53(d、1H)、5,17(d、1H)、4,11(dd、2H)、1,92(qa、2H)、0,98(t、3H)。UV(フィルム):514nm。
AAV2に従って、4−ブロモ−ベンズアルデヒド(6)(1.0g、5.40mmol)およびマロジニトリル(429mg、6.48mmol)をエタノール15mlに溶かし、ピペリジン(50μl、0.05mmol)を加え、かつ混合物を2時間加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をエタノールから再結晶化させて、生成物775mg(62%)を得る。1H−NMR(CDCl3):7.77ppm(d,2H)、7.72(s,1H)、7.69(d,2H)。
AAV1に従って、2−[(4−ブロモフェニル)メチレン]プロパンジニトリル(7)(699mg、3.00mmol)および4−プロピル−2,6−ビストリメチルスタンニル−4H−ジチエノ[3,2−b;2’,3’−d]ピロール(4)(547mg、1.00mmol)をTHF3.8mlに溶かし、Pd(PPh3)4(59mg、0.05mmol)を加え、混合物を36時間70℃に加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物120mg(23%)を得る。1H−NMR(TCE−d2,375K):7.98ppm(d,4H)、7.85(d,4H)、7.76(s,2H)、7.49(s,2H)、4.29(dd,2H)、2.07(qa,2H)、1.11(t,3H)。UV(フィルム):526nm。
AAV2に従って、4−ブロモ−3−フルオロベンズアルデヒド(9)(820mg、4.04mmol)およびマロジニトリル(320mg、4.85mmol)をエタノール15mlに溶かし、ピペリジン(40μl、0.04mmol)を加え、混合物を2時間加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をエタノールから再結晶化させて、生成物847mg(84%)を得る。1H−NMR(CDCl3):7.75ppm(dd,1H)、7.70(s,1H)、7.68(dd,1H)、7.56(dd,1H)。
AAV1に従って、2−[(4−ブロモ−3−フルオロ−フェニル)メチレン]プロパンジニトリル(10)(840mg、3.35mmol)および4−プロピル−2,6−ビストリメチルスタンニル−4H−ジチエノ[3,2−b;2’,3’−d]ピロール(4)(610mg、1.12mmol)をTHF4.5mlに溶かし、Pd(PPh3)4(127mg、0.11mmol)を加え、かつ混合物を20時間70℃に加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物20mg(3%)を得る。1H−NMR(TCE−d2,375K):7.78ppm(dd,2H)、7.69(d,2H)、7.65(d,2H)、7.61(s,2H)、7.59(s,2H)、4.21(dd,2H)、1.96(qa,2H)、0.99(t,3H)。
AAV2に従って、6−ブロモピリジン−3−カルボアルデヒド(12)(1.0g、5.40mmol)およびマロジニトリル(429mg、6.48mmol)をエタノール15mlに溶かし、ピペリジン(50μl、0.05mmol)を加え、かつ混合物を2時間加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をエタノールから再結晶化させて、生成物690mg(55%)を得る。1H−NMR(CDCl3):8.63ppm(d,1H)、8.31(dd,1H)、7.76(s,1H)、7.71(d,1H)。
AAV1に従って、2−[(6−ブロモ−3−ピリジル)メチレン]プロパンジニトリル(13)(690mg、2.95mmol)および4−プロピル−2,6−ビストリメチルスタンニル−4H−ジチエノ[3,2−b;2’,3’−d]ピロール(4)(547mg、1.00mmol)をTHF4.0mlに溶かし、Pd(PPh3)4(69mg、0.06mmol)を加え、かつ混合物を36時間70℃に加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物320mg(61%)を得る。MALDI(m/z):527.1。UV(フィルム):581nm。
[1,5−ジクロロ−6−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−2−ナフチル]トリフルオロメタンスルホネート(17)1.46g(2.96mmol)および3−ブチル−2−エチニル−チオフェン(18)1.46g(8.89mmol)を無水トリエチルアミン1.25mlおよび無水THF30mlに溶かす。反応混合物に、Pd(PPh3)2Cl2208mg(0.30mmol)およびヨウ化銅(I)113mg(0.59mmol)を加える。混合物を20時間還流加熱する。水3mlおよび1NのHCl溶液3mlを加え、相を分離し、水性相をDCM25mlで3回抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去した後に、残渣をヘキサン/クロロホルムから再結晶化させて、生成物505mg(33%)を得る。1H−NMR(CDCl3):8.22ppm(d,2H)、7.68(d,2H)、7.27(d,2H)、6.94(d,2H)、2.88(dd,4H)、1.70(m,4H)、1.42(qa,4H)、0.96(t,6H)。
硫化ナトリウム九水和物932mg(3.88mmol)のNMP23ml中の懸濁液に、ナフチルエチン19 505mg(0.97mmol)を加える。反応混合物を16時間還流加熱する。室温に冷却した後に、塩化アンモニウム溶液76mlを加え、クロロホルム30mlで3回抽出する。有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた。合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去した後に、残渣をクロマトグラフィー(SiO2、n−ヘキサン)によって精製して、生成物300mg(60%)を得る。1H−NMR(CDCl3):8.01ppm(d,2H)、7.88(d,2H)、7.47(s,2H)、7.27(d,2H)、7.01(d,2H)、2.91(dd,4H)、1.71(m,4H)、1.45(qa,4H)、0.96(t,6H)。
ベンゾチオヘノ(benzthioheno)−ベンゾチオフェン20(300mg、0.58mmol)のジクロロメタン7ml中の溶液に、オキシ塩化リン1.1ml(11.4mmol)およびDMF0.94ml(12.2mmol)のDCM7ml中の溶液を加える。反応混合物を16時間還流させ、続いて飽和炭酸水素ナトリウム溶液(50ml)を加え、2時間室温で撹拌する。相分離の後に、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去させた後に、残渣をトルエンから再結晶化させて、生成物172mg(52%)を得る。1H−NMR(TCE−d2,375K):9.83ppm(s,2H)、8.01(d,2H)、7.90(s,2H)、7.61(s,4H)、2.92(dd,4H)、1.72(m,4H)、1.44(qa,4H)、0.95(t,6H)。
ジアルデヒド21(167mg、0.29mmol)、マロジニトリル(214mg、3.24mmol)およびピペリジン(4mg、0.04mmol)の1,2−ジクロロエタン50ml中の溶液を48時間還流させる。溶剤を留去させた後に、残渣を水に懸濁させ、かつ2時間還流させる。粗製の生成物を濾過し、水およびメタノールで洗浄し、かつ真空乾燥させる。残渣をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物158mg(81%)を得る。1H−NMR(TCE−d2,375K):8.03ppm(d,2H)、7.92(d,2H)、7.69(s,2H)、7.68(s,2H)、7.61(s,2H)、2.94(dd,4H)、1.72(m,4H)、1.45(qa,4H)、0.96(t,6H)。
4,8−ジエトキシチエノ[2,3−f]ベンゾチオフェン(26)556mg(2.0mmol)の乾燥THF8ml中の溶液に、2.5Mのn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液1.6ml(4.1mmol)を−78℃で滴加する。混合物を1時間−78℃で撹拌した後に、冷却浴を外し、さらに1時間室温で撹拌する。−78℃に冷却し、かつ1.0Mのトリメチルスタンニルクロリドのn−ヘキサン中の溶液4.2ml(4.2mmol)を加える。反応混合物をさらに10分間、−78℃で撹拌し、かつ続いて、16時間室温で撹拌する。エーテル20mlおよび水20mlを加え、有機相を分離する。水性相をエーテル20mlで抽出し、有機相を合わせ、かつ硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去した後に、残渣を真空乾燥させる。粗製の生成物(1.13g、94%)をさらに精製することなく、次のステップで使用する。1H−NMR(CDCl3):7.51ppm(s,2H)、4.38(qa,4H)、1.50(t,6H)、0.45(s,18H)。
AAV1に従って、2−[(5−ブロモ−2−チエニル)メチレン]プロパンジニトリル(621mg、2.6mmol)および(4,8−ジエトキシ−2−トリメチルスタンニル−チエノ[2,3−f]ベンゾチオフェン−6−イル)−トリメチル−スタンナン(27)(604mg、1.0mmol)をTHF4mlに溶かし、Pd(PPh3)4(59mg、0.05mmol)を加え、かつ混合物を16時間70℃に加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物290mg(49%)を得る。1H−NMR(TCE−d2,375K):7.84ppm(s,2H)、7.83(s,2H)、7.78(d,2H)、7.53(d,2H)、4.53(qa,4H)、1.62(t,6H)。UV(フィルム):589nm(max)、466nm。
4,8−ジプロピルチエノ[2,3−f]ベンゾチオフェン(29)400mg(1.47mmol)のTHF6ml中の溶液に、2.5Mのn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液1.2ml(3.02mmol)を−78℃で滴加する。混合物を1時間−78℃で撹拌した後に、冷却浴を外し、さらに1時間室温で撹拌した。−78℃に冷却し、かつ1.0Mのトリメチルスタンニルクロリドのn−ヘキサン中の溶液3.2ml(3.2mmol)を加える。反応混合物をさらに10分間−78℃で撹拌し、かつ引き続き16時間室温で撹拌する。エーテル20mlおよび水20mlを加え、有機相を分離する。水性相をエーテル20mlで抽出し、有機相を合わせ、かつ硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去した後に、残渣を真空乾燥させる。粗製の生成物(890mg、100%)をさらに精製することなく、次のステップで使用する。1H−NMR(CDCl3):7.50ppm(s,2H)、3.21(dd,4H)、1.88(qa,4H)、1.07(t,6H)、0.45(s,18H)。
AAV1に従って、2−[(5−ブロモ−2−チエニル)メチレン]プロパンジニトリル(538mg、2.25mmol)および(4,8−ジエトキシ−2−トリメチルスタンニル−チエノ[2,3−f]ベンゾチオフェン−6−イル)−トリメチル−スタンナン(30)(450mg、0.75mmol)をTHF5mlに溶かし、Pd(PPh3)4(43mg、0.04mmol)を加え、かつ混合物を16時間70℃に加熱する。後処理の後に、粗製の生成物をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物301mg(68%)を得る。1H−NMR(TCE−d2,375K):7.73ppm(s,2H)、7.72(s,2H)、7.67(d,2H)、7.44(d,2H)、3.14(dd,4H)、1.89(qa,4H)、1.07(t,6H)。UV(フィルム):586nm(max)、545nm、481nm。
4−プロピル−4H−ジチエノ[3,2−b;2’,3’−d]ピロール(32)490mg(2.22mmol)のTHF9ml中の溶液に、2.5Mのn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液1.9ml(4.66mmol)を−78℃で滴加する。それを5分間−78℃で撹拌し、引き続き1時間−10℃で撹拌する。3−ジメチルアミノアクロレイン(33)770mg(7.77mmol)を混合物に加え、かつ−5℃で30分間撹拌する。冷却を外し、さらに4時間室温で撹拌する。飽和NH4Cl溶液20mlを加え、かつ反応混合物を1時間撹拌する。DCM100mlを加え、有機相を分離し、かつ硫酸ナトリウム上で乾燥さセル。溶剤を留去した後に、残渣をクロマトグラフィー(SiO2、DCM:酢酸エチル(10:1))によって精製して、生成物152mg(21%)を得る。1H−NMR(CDCl3):9.64ppm(d,2H)、7.58(d,2H)、7.24(s,2H)、6.54(dd,2H)、5.14(dd,2H)、1.93(qa,2H)、0.97(t,3H)。
ジアルデヒド34(150mg、0.46mmol)、マロジニトリル(241mg、3.65mmol)およびピペリジン(4mg、0.04mmol)の1,2−ジクロロエタン40ml中の溶液を5日間還流させる。溶剤を留去した後に、残渣を水に懸濁させ、かつ2時間還流させる。粗製の生成物を濾過し、水およびメタノールで洗浄し、真空乾燥させる。残渣をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物77mg(39%)を得る。1H−NMR(TCE−d2,375K):7.42ppm(d,2H)、7.32(d,2H)、7.23(s,2H)、7.01(dd,2H)、4.11(dd,2H)、1.90(qa,2H)、0.96(t,3H)。UV(フィルム):611nm(max)、663nm。
1. T.J. Dietsche, D.B. Gorman, J.A. Orvik, G.A. Roth, W.R. Shiang, Organic Process Research & Development 2000, 4, 4, 275−285.
2. S. Shinamura, E. Miyazaki, K. Takimiya, J. Org. Chem. 2010, 75, 4, 1228−1234.
3. J. Hou, M.−H. Park, S. Zhang, Y. Yao, L.−M. Chen, J.−H. Li, Y. Yang, Macromolecules 2008, 41, 16, 6012−6018.
4. A.K. Mishra, S. Vaidyanathan, H. Noguchi, F. Doetz, S. Koehler, M. Kastler, PCT Int. Appl. (2009), 8 pp. WO 2010079064.
5. P. Frere, J.−M. Raimundo, P. Blanchard, J. Delaunay, P. Richomme, J.−L. Sauvajol, J. Orduna, J. Garin, J. Roncali, J. Org. Chem. 2003, 68, 19, 7254−7265.
4−ヘキシル−4H−ジチエノ[3,2−b;2’,3’−d]ピロール(36)(1.100g、4.18mmol)の無水THF126ml中の溶液に−78℃、アルゴン下で20分にわたってn−BuLi(ヘキサン中1.6M;5.5ml、8.79mmol)を加えた。添加の後に、混合物を90分間−78℃でさらに撹拌し、その後、室温に加温する。1時間室温でさらに撹拌した後に再び−78℃に冷却し、かつN−ホルミルピペリジン(1.045g、9.24mmol)を、シリンジを介して迅速に加えた。混合物を30分間−78℃でさらに撹拌し、次いで、4時間以内に室温にした。それを一晩アルゴン下で撹拌した。飽和NH4Cl溶液(47ml)を加えることによって、反応を中断した。15分間室温で撹拌を続けた後に、分液漏斗に移し、ジクロロメタン(3×80ml)で抽出した。合わせた有機相を水(2×30ml)で洗浄し、Na2SO4上で乾燥させた。濾過し、溶剤を除去した後に、粗製の生成物をフラッシュクロマトグラフィー(Silicagel、溶離剤としてDCM、Rf=0.25)によって精製した。生成物フラクションを合わせ、溶剤を除去した後に、黄色の固体を単離した(533mg、1.67mmol;40%)。1H−NMR(CDCl3;δ=9.88(s,2H,CHO)、7.63(s,2H,Th−H)、4.21(t,2H,CH2)、1.85(m,2H,CH2)、1.12(m,6H,3xCH2)、0.80(t,3H,CH3)。
ジアルデヒド(37)(0.320g、1.00mmol)およびジエチル(2−チエニルメチル)ホスホネート(38)(1.000g、4.27mmol)(metina(スウェーデン)から購入)を水不含の脱ガストルエン100mlに溶かした。混合物を110℃に加温した後に、t−BuOK(0.900g、8.00mmol)を4つのポーション(それぞれ0.250g)で15分かけて、撹拌およびアルゴンを継続しながら加えた。混合物をさらに10時間撹拌下で還流させた。室温に冷却した後に、0.2MのHCl50ml(10mmol)を加え、撹拌を15分間続けることによって、反応をクエンチした。混合物を1lビーカーに移し、飽和NaHCO3溶液を加えることによって中和した。続いて、分液漏斗に移し、生成物をトルエン(3×80ml)で抽出した。合わせた有機相を水(2×20ml)で洗浄し、かつNa2SO4上で乾燥させた。溶剤を除去し、乾燥させた後に、赤色の固体(0.480mg、1.00mmol;100%)を得た。1H−NMR(C2D2Cl4,100℃;δ=7.14〜6.87(m,12H,Th−H&ビニル−H)、4.14〜4.04(m,2H,CH2)、1.87〜1.81(m,2H,CH2)、1.30〜1.20(m,6H,3xCH2)、0.84(m,3H,CH3);MALDI−MS(m/z):479.2(M+)。粗製の生成物をさらに精製することなく、次のステップで使用した。
オキシ塩化リン(1.1ml、12.2mmol)を、ジメチルホルムアミド(1.04ml、13.4mmol)のジクロロメタン(DCM、13.8ml)中の溶液に加え、混合物を2時間アルゴン下で撹拌した。39(479.8mg、1.00mmol)のDCM(18.3ml)中の溶液に、上記のフィルスマイヤー試薬の一部(11.6ml、10.0mmol)を滴加した。混合物を48時間アルゴン下で還流させた。室温に冷却した後に、溶液に飽和NaHCO3溶液(61ml)を加え、かつ2時間撹拌した。分液漏斗に移し、DCM(80ml)を加えた後に、有機相を分離し、水性相をDCM(30ml)で3回抽出した。合わせた有機相を水(2×20ml)で洗浄し、Na2SO4上で乾燥させた。溶剤を回転蒸発によって除去し、乾燥させた後に、生成物をシスおよびトランス異性体の混合物として赤色の固体として得た(528mg、0.987mmol;99%)。1H−NMR(C2D2Cl4,100℃;δ=9.93〜9.58(m,2H,CHO)、7.80〜7.60(m,4H,Th−H)、7.40〜7.05(m,6H,Th−H&ビニル−H)、4.30〜4.10(m,2H,CH2−N)、2.05〜1.90(m,2H,CH2)、1.50〜1.30(m,6H,3xCH2)、0.84(m,3H,CH3);MALDI−MS(m/z):535.1(M+);UV−Vis(DCM):518nm。
ジアルデヒド40(0.520g、0.97mmol)、マロジニトリル(0.513mg、7.76mmol)およびピペリジン(0.083mg、0.1ml、0.97mmol)の1,2−ジクロロエタン(95ml)中の混合物を46時間、アルゴン下で還流させた。反応の進行をUV−Vis分光法(DCM、□max=577nm、□でのショルダー=545nm)によって追跡した。マロノニトリル(0.133g、2.00mmol)およびピペリジン(0.01ml、0.01mmol)を新たに添加した後にクネーフェナーゲル反応をさらに24時間続けると、UV−Vis−スペクトルの変化はもはや生じなかった。そのため、反応を中断し、かつ溶剤を回転蒸発器によって除去した。残渣に水(50ml)を加え、かつ2時間還流させた。吸引漏斗での温濾過の後に、フィルター残渣を乾燥させ、その後、メタノールを用いてソックスレー抽出に掛けた。乾燥させた後に、トルエンおよびクロロベンゼンで交互に抽出した。両方の抽出から生じた固体(トルエン:0.170g、光沢のあるブロンズ色の固体;クロロベンゼン:0.400g、光沢のある濃いブロンズ色の固体)は、DCMで記録して同じUV−Visスペクトルをもたらした。全ての有機溶剤への劣悪な溶解性によって、1H−NMRの正確な帰属は不可能であった。MALDI−MS(m/z):631.2(M+);UV−Vis(DCM):577 nm、545nm(sh)。
NMR 1H(アセトン−d6):8.22(br.s,1H)、7.24(d,2H)、7.22(s,2H)、6.76(d,2H)。
NMR 1H(CDCl3):7.26(d,2H)、7.25(s,2H)、6.69(d,2H)、3.75(t,2H)、1.80(m,2H)、1.00(t,3H)。
NMR 1H(CDCl3):7.60(m,4H)、7.20(d,2H)、4.15(m,2H)、2.19(m,2H)、1.35(t,3H)、0.60(s,18H)。
融点:290℃
NMR 1H(TCE−d2 375℃で):7.79(s,2H)、7.77(d,2H)、7.54(d,2H)、7.47(s,2H)、7.40(d,2H)、6.96(d,2H)、3.94(t,2H)、1.93(m,2H)、1.13(t,3H)。
UV−VIS:574nm(フィルム30.0nm、Amax0.28);495nm(THF、Amax0.61).
3,7−ジブロモ−ジベンゾチオフェン5,5−ジオキシド(48):ジベンゾチオフェンジオキシド(47)から収率63%で、文献の指示(H. Sirringhaus、R.H. Friend、C. Wangら、J.Mater.Chem.、1999、9、2095〜2101(非特許文献23)を参照されたい)に従って製造。
NMR 1H(DMSO−d6):8.71(s,2H)、8.50(d,2H)、8.38(d,2H)。
NMR 1H(CDCl3):7.97(d,2H)、7.96(d,2H)、7.56(dd,2H)。
NMR 1H(CDCl3):8.12(d,2H)、7.98(s,2H)、7.56(d,2H)、0.35(s,18H)。
NMR 1H(DMSO−d6 375Kで): 8.57(d,4H)、8.48(d,2H)、8.02(s,2H)、7.94(m,4H)
UV−VIS:476nm(フィルム30.0nm、Amax0.55)
ジブロモビチオフェン2.0g(6.17mmol)を無水のジエチルエーテル120mlに溶かし、かつアルゴン下で−78℃に冷却した。N−ブチルリチウム(8ml、12.34mmol、ヘキサン中1.6モル)をゆっくりと加えた。反応混合物を2時間−78℃で撹拌し、その後、室温に加温した。ジメチルスタンニルジクロリド(1.42g、6.46mmol)の無水ジエチルエーテル30ml中の溶液を加え、かつ混合物を8時間アルゴン下で撹拌した。全ての溶剤を回転蒸発によって除去し、かつ残渣をヘキサンに入れた。そうして得られた懸濁液をセライトで濾過し、かつ溶剤を除去して、化合物1を1.27g(66%収量)得た。GC−MS m/z 314(11.09分)。
52 500mg(1.6mmol)およびジブロモペンテン364mg(1.6mmol)を、新たに蒸留されたTHF32mlに溶かし、かつビス(トリ−tert−ブチルホスフィン)パラジウム(0)42mg(80μmol)を加えた。反応混合物を8時間、撹拌しながら還流させた。THFを回転蒸発によって除去し、かつ残渣をn−ヘキサンに入れた。粗製の生成物をカラムクロマトグラフィーによって精製して(溶離剤としてn−ヘキサン(Rf=0.4)、目的化合物53を115mg(収率37%)得た。GC−MS m/z 232(18.10分)。
化合物54を上記の一般的な指示に従って収率69%で合成した。
化合物55を、スティルカップリングのための上記の一般的なプロトコルに従って製造した。UV/Vis:λmax(ジクロロメタン)525nm。
化合物56を、文献の指示(E. L. Stangeland、T. Sammakia、J. Org. Chem.、2004、69、2381〜2385(非特許文献24))に従って製造した。
化合物57を、文献の指示(E. L. Stangeland、T. Sammakia、J. Org. Chem.、2004、69、2381〜2385)に従って製造した。
化合物65、66、67,および68を文献のプロトコル(C. Song、D. B. Walker、T. M. Swager、Macromolecules 2010、43、12、5233〜5237(非特許文献26))に従って合成する。
化合物69および70をスティルカップリングのためのAAV1に従って製造する。
化合物73および74を文献のプロトコル(L. I. Belen’kii、V. Z. Shirinyan、G. P. Gromova、A. V. Kolotaev、Y. A. Strelenko、S. N. Tandura、A. N. Shumskii、M. M. Krayushkin、Chem. Heterocycl. Comp. 2003、39、1570(非特許文献27))に従って合成する。
1−ヘキシル−2,5−ビス(チエノ[3,2−b]チオフェン−5−イル)ピロール(74)のジクロロメタン中の溶液に、オキシ塩化リンおよびDMFのDCM中の溶液を加える。反応混合物を16時間還流させ、続いて、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え、2時間室温で撹拌する。相分離の後に、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去した後に、残渣をトルエンから再結晶化させて、生成物を得る。
ジアルデヒド75、マロジニトリルおよびピペリジンの1,2−ジクロロエタン中の溶液を48時間還流させる。溶剤を留去した後に、残渣を水に懸濁させ、かつ2時間還流させる。粗製の生成物を濾過し、水およびメタノールで洗浄し、かつ真空乾燥させる。残渣をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物を得る。
4−ヘキシル−4H−ジチエノ[3,2−b;2’,3’−d]ピロール(36)(0.500g、1.90mmol)の、クロロホルム(12ml)および氷酢酸(12ml)からなる混合物中の溶液に撹拌、光遮断およびアルゴン下、0℃(氷冷)で、N−ヨードスクシンイミド(1.068g、4.75mmol)を5つのポーションでそれぞれ214mgで添加した。添加の間の期間はそれぞれ7分であった。それを一晩、0〜4℃、アルゴンおよび光遮断下でさらに撹拌し、次いで、室温に加温する。撹拌を2時間続けた後に、分液漏斗に移し、さらなる水(50ml)およびクロロホルム(100ml)を加えた。振盪の後に、分離し、かつ水性相をさらに3回、それぞれクロロホルム50mlで抽出した。合わせた有機相をNaHCO3およびNa2S2O3の飽和水溶液(それぞれ30ml)ならびに水(2×30ml)で連続して洗浄した。Na2SO4上で乾燥させた後に濾別し、かつ溶剤を回転蒸発によって除去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィーによって精製した(シリカゲル、溶離剤としてn−ヘキサン(Rf=0.37)。溶剤を回転蒸発によって除去した後に、2の黄色の血漿0.718g(74%収量)を得た。1H−NMR(CDCl2−CDCl2):δ=7.21(s,2H,Th−H)、4.07(t,2H,CH2−N)、1.80(t,2H,CH2)、1.29(m,6H,3×CH2)、0.88(t,3H,CH3)。
化合物81を、文献のプロトコル(J. G. Laquindanum、H. E. Katz、A. J. Lovinger、A. Dodabalapur、Adv. Mater. 1997、9、1、36〜39(非特許文献28))に従って合成する。
ビス−ベンゾジチオフェン81のジクロロメタン中の溶液に、オキシ塩化リンおよびDMFのDCM中の溶液を加える。反応混合物16を還流させ、続いて、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え、かつ2時間室温で撹拌する。相分離の後に、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を留去した後に、残渣をトルエンから再結晶化させて、生成物を得る。
ジアルデヒド82、マロジニトリルおよびピペリジンの1,2−ジクロロエタン中の溶液を48時間還流させる。溶剤を留去した後に、残渣を水に懸濁させ、かつ2時間還流させる。粗製の生成物を濾過し、水およびメタノールで洗浄し、かつ真空乾燥させる。残渣をクロロベンゼンから再結晶化させて、生成物を得る。
化合物85をスティルカップリングのためのAAV1に従って製造する。
R−SnR’3+R”−X R−R”+X−SnR’3
[式中、RおよびR”は、基D、Eおよびbdをカップリングさせるための有機基である]、スティルカップリングを介して相互にカップリングさせることができる。既に上記したとおり、アクセプター基は、ガッターマン、ガッターマン−コッホ、ホーウェン−ヘッシュ、フィルスマイヤー/フィルスマイヤー−ハックまたはフリーデル−クラフツ−アシル化などの当業者に知られている反応を介して導入することができる。
1.)ガラス基板1、
2.)ITOベースコンタクト2、
3.)電子輸送層(ETL)3、
4.)有機感光性層系(10〜200nm)4、
5.)正孔輸送層(HTL)5、
6.)トップコンタクト(例えば金)6。
さらなる実施例では、透明トップコンタクトITOを有するガラス上のプローブ、バックミンスターフラーレンC60層、下式の化合物DCV−Fu−TPyT−Fu−Pr(3)と:
さらなる実施例では、透明トップコンタクトITOを有するガラス上のプローブ、バックミンスターフラーレンC60層、下式の化合物DCV−Ph−TPyT−Ph−Pr(3)と:
さらなる実施例では、透明トップコンタクトITOを有するガラス上のプローブ、バックミンスターフラーレンC60層、下式の化合物DCV−Pyr−TPyT−Pyr−Pr(3)と:
さらなる実施例では、透明トップコンタクトITOを有するガラス上のプローブ、バックミンスターフラーレンC60層、DCV−T−PhTaPh−T−Pr(3)層:
さらなる実施例では、透明トップコンタクトITOを有するガラス上のプローブ、バックミンスターフラーレンC60層、下式の化合物DCV−TzPyTz−Pr2(3,3)と:
2 電極
3 輸送層系(ETLまたはHTL)
4 有機感光性層系
5 輸送層系(ETLまたはHTL)
6 対電極
Claims (6)
- 以下の一般式の化合物:
R1およびR6はそれぞれ互いに独立に、H、C1〜C30アルキル、C1〜C30ペルフルオロアルキル、C6〜C10アリール、C2〜C8−ヘテロアリール、CNから選択され、
Xはそれぞれ互いに独立に、O及びSから選択され、
YはそれぞれCR9であり、ここで、R9=H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C2〜C30アルケニル、C2〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2であり、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C6〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
ZはそれぞれCR10であり、ここで、R10=H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C2〜C30アルケニル、C2〜C30アルキニル、OR’、SR’、SiR’3、NR’2であり、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C6〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、またはR9とR10は環を形成してもよく、
W1は、NおよびC−Rから選択され、ここで、R=H、ハロゲン、それぞれ直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、C2〜C30アルケニル、C2〜C30アルキニル、置換または非置換のC6〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリール、OR’、SR’、SiR’3、NR’2であり、ここで、R’は、C1〜C10−アルキル、C6〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、
Z1はO、S、およびN(R)から選択され、ここで、Rは、H、直鎖または分岐鎖である置換または非置換のC1〜C30アルキル、置換または非置換のアリール、置換または非置換のヘテロアリール、COR’、COOR’またはOR’から選択され、ここで、R’は、C1〜C30−アルキル、C6〜C10−アリールまたはC1〜C8−ヘテロアリールから選択され、そして
bdは互いに独立に、*−C=C−*または
oおよびpは互いに独立に0または1であってよく、かつtおよびnは1であり、
アスタリスク*で示されている結合は、化合物中のさらなる基への結合を意味している。] - 上記一般式の化合物が、少なくとも主鎖に関して、点対称または鏡面対称を有することを特徴とする、請求項1に記載の化合物。
- oおよびp=0、かつW1=C−Rで、一般式:
- WがC(CN)2、CHCNから選択され、かつR1およびR6がHおよびCNから選択される、請求項1〜3のいずれか一つに記載の化合物。
- Wが、独立して、C(CN)2およびCHCNから選択される、請求項1〜3のいずれか一つに記載の化合物。
- 光電子構成部品における、請求項1〜5のいずれか一つに記載の化合物の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010030500A DE102010030500A1 (de) | 2010-06-24 | 2010-06-24 | Verdampfbares organisch halbleitendes Material und dessen Verwendung in einem optoelektronischen Bauelement |
DE102010030500.6 | 2010-06-24 | ||
PCT/EP2011/060668 WO2011161262A1 (de) | 2010-06-24 | 2011-06-24 | Verdampfbares organisch halbleitendes material und dessen verwendung in einem optoelektronischen bauelement |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013530978A JP2013530978A (ja) | 2013-08-01 |
JP5746760B2 true JP5746760B2 (ja) | 2015-07-08 |
Family
ID=44532762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013515925A Active JP5746760B2 (ja) | 2010-06-24 | 2011-06-24 | 蒸発性有機半導体材料および光電子構成部品におけるその使用 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9127020B2 (ja) |
EP (1) | EP2483267B9 (ja) |
JP (1) | JP5746760B2 (ja) |
KR (1) | KR101852625B1 (ja) |
CN (1) | CN103025729B (ja) |
DE (1) | DE102010030500A1 (ja) |
ES (1) | ES2436595T3 (ja) |
WO (1) | WO2011161262A1 (ja) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2530132B1 (en) * | 2010-01-30 | 2016-01-06 | Ocean's King Lighting Science&Technology Co., Ltd. | Quinoid thiophene organic photoelectric material, method for its preparation and application thereof |
JP5789580B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 熱電変換材料及び熱電変換素子 |
CN104412404A (zh) * | 2012-06-05 | 2015-03-11 | 默克专利有限公司 | 小分子及其作为有机半导体的用途 |
KR101860084B1 (ko) | 2012-07-06 | 2018-05-23 | 삼성전자주식회사 | 유기 광전 재료, 상기 유기 광전 재료를 포함하는 유기 광전 소자 및 이미지 센서 |
US10522764B2 (en) * | 2012-08-10 | 2019-12-31 | Lms Co., Ltd. | Compound, light-emitting element comprising same and electronic device comprising the light-emitting element |
DE102013101713B4 (de) * | 2013-02-21 | 2020-10-01 | Heliatek Gmbh | Photoaktives, organisches Material für optoelektronische Bauelemente |
US10950811B2 (en) | 2013-02-21 | 2021-03-16 | Heliatek Gmbh | Optoelectronic component |
DE102013101714A1 (de) | 2013-02-21 | 2014-08-21 | Heliatek Gmbh | Verfahren zur Optimierung von Absorberschichten in optoelektronischen Bauelementen |
DE102013101712B4 (de) | 2013-02-21 | 2020-05-28 | Heliatek Gmbh | Photoaktives organisches Material für optoelektronische Bauelemente |
DE102013110693B4 (de) | 2013-09-27 | 2024-04-25 | Heliatek Gmbh | Photoaktives, organisches Material für optoelektronische Bauelemente |
CN105315297B (zh) * | 2014-08-01 | 2018-12-25 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 有机小分子半导体材料、其合成方法及应用 |
DE102014217817B4 (de) | 2014-09-05 | 2018-08-30 | Technische Universität Dresden | Organische Donor-Akzeptor-Farbstoffe für die Verwendung in elektronischen und optoelektronischen Bauteilen |
CN107001388B (zh) * | 2014-12-19 | 2019-10-11 | 巴斯夫欧洲公司 | 作为用于电子器件的有机半导体材料的6h-吡咯并[3,2-b:4,5-b’]双[1,4]苯并噻嗪-6-甲酸酯 |
DE102015101768A1 (de) * | 2015-02-06 | 2016-08-11 | Technische Universität Dresden | Lichtabsorber |
EP3188270B1 (de) * | 2015-12-30 | 2018-12-26 | Heliatek GmbH | Organisches halbleitendes material und dessen verwendung in organischen bauelementen |
EP3187496A1 (de) * | 2015-12-30 | 2017-07-05 | Heliatek GmbH | Verbindung für fotoaktive organische elektronische bauelemente und fotoaktives organisches elektronisches bauelement enthaltend die verbindung |
US10355213B2 (en) | 2016-01-09 | 2019-07-16 | Flexterra, Inc. | Dithiophenethiadiazole semiconductors and related devices |
WO2018039347A2 (en) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | Azoulay Jason D | Narrow band gap conjugated polymers employing cross-conjugated donors useful in electronic devices |
JP2018172349A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 株式会社ダイセル | 新規縮合多環式化合物及びその製造方法 |
JP2018174266A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 株式会社ダイセル | 有機半導体及びその製造方法 |
EP3410505A1 (de) | 2017-05-31 | 2018-12-05 | Heliatek GmbH | Polyphenole und polyamino-derivate in organischen optoelektronischen bauelementen |
US10711092B2 (en) | 2017-09-21 | 2020-07-14 | The University Of Southern Mississippi | Gold catalyzed polymerization reactions of unsaturated substrates |
CN111315796B (zh) * | 2017-11-02 | 2023-11-24 | 天光材料科技股份有限公司 | 有机半导体化合物 |
CN112352328B (zh) * | 2018-03-28 | 2023-09-22 | 天光材料科技股份有限公司 | 有机半导体化合物 |
EP3790918A4 (en) | 2018-05-05 | 2022-03-16 | Jason D. Azoulay | OPEN SHELL CONJUGATED POLYMER CONDUCTORS, COMPOSITES AND COMPOSITIONS |
CN112955456A (zh) * | 2018-09-06 | 2021-06-11 | 天光材料科技股份有限公司 | 有机半导体化合物 |
EP3853288A4 (en) | 2018-09-21 | 2022-07-27 | Joshua Tropp | THIOL-BASED POST MODIFICATION OF CONJUGATED POLYMERS |
DE102019125715A1 (de) * | 2019-09-24 | 2021-03-25 | Heliatek Gmbh | Verbindungen mit einer Furopyrrol- oder einer Thienopyrrolgruppe, optoelektronische Bauelemente mit einer solchen Verbindung, und Verwendung einer solchen Verbindung in optoelektronischen Bauelementen |
US11781986B2 (en) | 2019-12-31 | 2023-10-10 | University Of Southern Mississippi | Methods for detecting analytes using conjugated polymers and the inner filter effect |
CN113185539A (zh) * | 2020-01-14 | 2021-07-30 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 三元环类苯并噻二唑有机小分子材料、其制备方法与应用 |
EP3960738B1 (en) | 2020-08-31 | 2024-02-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Compound and film and ir sensor and combination sensor and electronic device |
DE102020135118A1 (de) * | 2020-12-30 | 2022-06-30 | Heliatek Gmbh | Verbindung für ein optoelektronisches Bauelement und optoelektronisches Bauelement enthaltend die Verbindung |
DE102020135172A1 (de) * | 2020-12-31 | 2022-06-30 | Heliatek Gmbh | Verbindung und deren Verwendung in organischen elektronischen Bauelementen |
WO2023126486A1 (de) * | 2021-12-30 | 2023-07-06 | Heliatek Gmbh | Verbindung und deren verwendung in organischen elektronischen bauelementen |
WO2024062871A1 (ja) * | 2022-09-20 | 2024-03-28 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE9802333D0 (sv) | 1998-06-29 | 1998-06-29 | Astra Pharma Prod | Novel combination |
EP1275651B1 (en) | 2001-07-09 | 2005-08-31 | MERCK PATENT GmbH | Thienothiophene derivatives |
ATE303389T1 (de) | 2001-07-09 | 2005-09-15 | Merck Patent Gmbh | Thienothiophen-derivate |
US7655809B2 (en) | 2004-05-18 | 2010-02-02 | University Of Ottawa | Compounds comprising a linear series of five fused carbon rings, and preparation thereof |
DE102005010978A1 (de) * | 2005-03-04 | 2006-09-07 | Technische Universität Dresden | Photoaktives Bauelement mit organischen Schichten |
DE102005018241A1 (de) | 2005-04-19 | 2006-10-26 | Basf Ag | Hexarylen- und Pentarylentetracarbonsäurediimide |
US7919573B2 (en) | 2005-11-16 | 2011-04-05 | Xerox Corporation | Polymer having thieno[3,2-b] thiophene moieties |
EP1843407A1 (de) | 2006-04-07 | 2007-10-10 | Basf Aktiengesellschaft | Flüssig-kristalline Rylentetracarbonsäurederivate und deren Verwendung |
WO2008044585A1 (en) | 2006-10-11 | 2008-04-17 | Toray Industries, Inc. | Electron-donating organic material for photovoltaic devices, material for photovoltaic devices, and photovoltaic devices |
JP5773568B2 (ja) | 2006-10-11 | 2015-09-02 | メルク パテント ゲーエムベーハー | シロール含有ポリマーを用いた光電池 |
WO2008145172A1 (en) | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Universidad Autónoma de Madrid | Tri-tert-butylcarboxyphthalocyanines, uses thereof and a process for their preparation |
TWI491677B (zh) | 2007-10-15 | 2015-07-11 | Dongjin Semichem Co Ltd | 新穎的以噻吩為基礎之染料及其製備 |
EP2192159A3 (en) * | 2008-11-28 | 2011-03-09 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd | Dye compound for dye-sensitized solar cells, dye-sensitized photoelectric converter and dye-sensitized solar cells |
EP2379617B1 (en) | 2008-12-18 | 2013-07-31 | Basf Se | Semiconductor materials prepared from dithienylvinylene copolymers |
EP2400575B1 (de) * | 2010-06-24 | 2016-03-23 | heliatek GmbH | Optoelektronisches Bauelement mit organischen Schichten |
-
2010
- 2010-06-24 DE DE102010030500A patent/DE102010030500A1/de not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-06-24 JP JP2013515925A patent/JP5746760B2/ja active Active
- 2011-06-24 CN CN201180030524.XA patent/CN103025729B/zh active Active
- 2011-06-24 KR KR1020137001934A patent/KR101852625B1/ko active IP Right Grant
- 2011-06-24 US US13/805,568 patent/US9127020B2/en active Active
- 2011-06-24 ES ES11730614.2T patent/ES2436595T3/es active Active
- 2011-06-24 EP EP11730614.2A patent/EP2483267B9/de active Active
- 2011-06-24 WO PCT/EP2011/060668 patent/WO2011161262A1/de active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9127020B2 (en) | 2015-09-08 |
CN103025729A (zh) | 2013-04-03 |
US20130167930A1 (en) | 2013-07-04 |
CN103025729B (zh) | 2016-05-25 |
WO2011161262A1 (de) | 2011-12-29 |
KR20130042555A (ko) | 2013-04-26 |
JP2013530978A (ja) | 2013-08-01 |
EP2483267B9 (de) | 2014-05-14 |
ES2436595T3 (es) | 2014-01-03 |
EP2483267B1 (de) | 2013-08-28 |
DE102010030500A1 (de) | 2011-12-29 |
EP2483267A1 (de) | 2012-08-08 |
KR101852625B1 (ko) | 2018-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5746760B2 (ja) | 蒸発性有機半導体材料および光電子構成部品におけるその使用 | |
CN102640316B (zh) | P型材料及有机电子器件 | |
KR101561730B1 (ko) | 질소원소를 함유한 헤테로고리 유도체 및 이를 이용한 유기 전자 소자 | |
JP5894263B2 (ja) | 有機半導体材料 | |
TWI665204B (zh) | 單分子及包含彼之有機太陽能電池 | |
KR20160062708A (ko) | 유기 광전 소자용 화합물, 및 이를 포함하는 유기 광전 소자, 이미지 센서 및 전자 장치 | |
JP6051206B2 (ja) | 新規な光活性ポリマー | |
EP2814817A1 (en) | Electronic devices using organic small molecule semiconducting compounds | |
KR20160065885A (ko) | 광전자 부품들을 위한 광활성 유기 재료 | |
WO2015038671A2 (en) | Non-fullerene electron acceptors for organic photovoltaic devices | |
CN108475731A (zh) | 有机半导体材料及其在有机构造元件中的应用 | |
KR20120093921A (ko) | 유기 태양 전지 및 유기 광검출기를 위한 광활성 층을 제조하기 위한 혼합물 | |
JP6075583B2 (ja) | 有機半導体材料 | |
Schulz et al. | Optimization of solution-processed oligothiophene: fullerene based organic solar cells by using solvent additives | |
JP6133999B2 (ja) | チエノ[2,3−c]ピロール−ジオン誘導体およびその有機半導体への使用 | |
Adhikari et al. | Solid-state showdown: Comparing the photovoltaic performance of amorphous and crystalline small-molecule diketopyrrolopyrrole acceptors | |
KR101678294B1 (ko) | 플러렌 유도체, 이를 이용한 유기 태양 전지 및 이의 제조 방법 | |
KR20140077850A (ko) | 신규한 유기반도체 화합물 및 이를 포함하는 유기전자소자 | |
KR101952144B1 (ko) | 유기 반도체 물질 | |
KR102639496B1 (ko) | 헤테로환 화합물 및 이를 포함하는 유기 전자 소자 | |
KR101573568B1 (ko) | 플러렌 유도체 및 이를 이용한 유기 전자 소자 | |
KR101581492B1 (ko) | 방향족 고리 화합물, 이를 포함하는 유기태양전지 및 이의 제조방법 | |
Mena-Osteritz et al. | Gisela L. Schulz, Marta Urdanpilleta2, Roland Fitzner1, Eduard Brier1 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140313 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140401 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140630 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140707 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140730 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140806 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140829 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141015 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150216 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20150223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150325 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150401 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150430 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150508 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5746760 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |