JP5743669B2 - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1(a)は、本発明の実施形態1に係る表示装置を示す斜視模式図である。本実施形態の表示装置は、有機EL素子を備える画素1を複数有している。そして、複数の画素1はマトリックス状に配置され、表示領域2を形成している。なお、画素とは、1つの発光素子の発光領域に対応した領域を意味している。本実施形態の表示装置では、発光素子は、有機EL素子であり、画素1のそれぞれに1つの色の有機EL素子が配置された表示装置である。有機EL素子の発光色としては、赤色、緑色、青色が考えられ、そのほかに黄色、シアン、白色でもよく、少なくとも2色以上であれば特に制限はない。
次に、本実施形態の表示装置の製造方法について図2、図3を参照して説明する。図2、図3は、本実施形態の表示装置の各製造工程を示す断面模式図である。なお、第2電極105の形成までは周知な製造工程であるため、ここでは説明を省略する。
第二の実施形態の表示装置の製造方法について、図4を参照して説明する。本実施形態は、図2(f)で示すレンズ部材料109aを表示領域2の全域に形成する工程までは第一の実施形態と同様である。
第三の実施形態の表示装置の製造方法について、図5、図6を参照して説明する。本実施形態は、図2(f)で示すレンズ部材料109aを表示領域2の全域に形成する工程までは第一の実施形態と同様である。ただし、この場合のレンズ部材料109aとしてはネガ型のレジスト(日本化薬製SU−8)を用いる。
第四の実施形態の表示装置の製造方法について、図7、図8を参照して説明する。本実施形態は、図2(f)で示すレンズ部材料109aを表示領域の全域に形成する工程までは第一の実施形態と同様である。
ガラス基板上に、低温ポリシリコンTFTで画素回路(不図示)を形成し、その上にSiNからなる半導体保護層とポリイミド樹脂からなる平坦化膜を、この順番で形成して図2(a)に示す基板101を作成した。この基板101上にAlNd膜とITO膜をスパッタリング法にて100nmと38nmの厚さでこの順に形成した。続いて、AlNd膜とITO膜を画素毎にパターニングし、第1電極102を形成した。
本比較例は、下地層108を形成する工程を省略した以外は実施例1と同様に作製した。このようにして形成されたレンズ部109は、その一部が剥離した。これは光吸収層107の部分と、光吸収層107のない開口にわたり、レンズ部109を設けたため、密着力、熱応力、濡れ性などが異なり、応力が吸収できず剥離に至ったものと思われる。
本実施例は光吸収層107を形成するまでは実施例1と同様である。光吸収層107の上に、図2(e)に示すように、下地層108として紫外線吸収の熱硬化樹脂である日本触媒製ハルスハイブリッドUV−Gを、スピンコーターにて塗布し、の後紫外線硬化樹脂を露光し、加熱硬化させた。膜厚は5.0μmであった。
本実施例は光吸収層107を形成するまでは実施例1と同様である。次に、図2(e)で示すように、下地層108として紫外線硬化性樹脂であるJSR製KZ6666を、スピンコーターにて塗布した。その後この紫外線硬化樹脂を露光し、加熱硬化させた。膜厚は3.0μmであった。
下地層108を形成する工程を省略した以外は実施例3と同様に作製した。このように形成したレンズ部109は、その一部が剥離した。これは光吸収層107の部分と、光吸収層107のない開口にわたり、レンズ部109を設けたため、密着力、熱応力、濡れ性などが異なり、応力が吸収できず剥離に至ったものと思われる。
本実施例は下地層108を形成するまでは実施例2と同様である。次に、図2(f)で示すように、レンズ部材料109aとしてJSR製KZ6666を、スピンコーターにて塗布した。膜厚は15μmであった。
101 基板
107 光吸収層
108 下地層
109 レンズ部
Claims (5)
- 基板上に複数の有機EL素子を形成する工程と、前記複数の有機EL素子の上に前記複数の有機EL素子を覆う保護層を形成する工程と、前記複数の有機EL素子の発光領域の外に光吸収層を形成する工程と、前記複数の有機EL素子の発光領域の上にレンズ部を形成する工程と、を順に有する表示装置の製造方法であって、
前記光吸収層を形成する工程と前記レンズ部を形成する工程との間に、レンズ部が形成される領域を覆って、かつ、前記光吸収層と前記レンズ部とに接するように下地層を形成する工程を有することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 基板上に、複数の有機EL素子と、前記複数の有機EL素子の発光領域の外にある光吸収層と、前記複数の有機EL素子の発光領域の上にあるレンズ部と、を有する表示装置であって、
前記複数の有機EL素子と、前記光吸収層との間に配置され、前記複数の有機EL素子を覆っている保護層をさらに有し、
前記光吸収層は前記レンズ部よりも前記有機EL素子側にあり、
前記光吸収層と前記レンズ部との間に、前記レンズ部がある領域を覆って、かつ、前記光吸収層と前記レンズ部とに接している下地層を有することを特徴とする表示装置。 - 前記下地層は、可視光領域における光透過率が80%以上であることを特徴とする請求項2に記載の表示装置。
- 前記下地層の屈折率と前記レンズ部の屈折率との差が、0.2以下であることを特徴とする請求項2または3に記載の表示装置。
- 前記下地層は、熱硬化樹脂を有することを特徴とする請求項2乃至4のいずれか一項に記載の表示装置。
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