JP2004317559A - マイクロレンズとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 - Google Patents

マイクロレンズとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 Download PDF

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Hirobumi Sakai
寛文 酒井
Mitsuru Kuribayashi
満 栗林
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Abstract

【課題】レンズ間の隙間から直進して出射する光を抑える。
【解決手段】レンズ形成領域L’に液滴を吐出して、基材P上に複数のレンズ部Lを形成する。レンズ形成領域L’を囲むバンクBを形成する工程と、バンクBを染色する工程と、レンズ形成領域L’に液滴を吐出してレンズ部Lを形成する工程とを有する。
【選択図】 図3

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロレンズとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、マルチメディアの発展に伴い、多数のマイクロレンズを配置したレンズアレイ(マイクロレンズ装置)の利用も増えている。
このようなマイクロレンズは、例えば液晶プロジェクタにおいて、光源と液晶との間に配置して光量ロスを防止するもの、或いはスクリーン表面に形成して像を明るくするもの、固体撮像素子上に配置して入射光を増加させるもの、ガラスファイバの光通信素子に使われるもの等、多くの用途に使用されている。
【0003】
この種のマイクロレンズを製造する方法としては、金型を用いてガラス材料を成形する方法、スタンパと基板との間に樹脂を挟み込み成形する方法、フォトリソグラフィ法によるもの等が提案されているが、これらはいずれもマイクロレンズを形成するために型やマスクを必要とし、任意の形状、任意の配置のレンズを速やかに形成することが困難である。
【0004】
そこで、特許文献1には、透明基板上の表面に液滴を吐出(いわゆるインクジェット法)・硬化させて、凸形状のマイクロレンズを形成する技術が開示されている。
この技術を用いれば、フォトリソグラフィ法や印刷法、成形法などのようにマスクや型を必要とせずに複雑なパターンを容易に形成することが可能となっている。
【0005】
【特許文献1】
特開平11−142608号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
例えば、平坦な透明基板上にマイクロレンズをアレイに複数配列した場合、レンズ間の隙間では光は拡散されずにそのまま直進することになる。
このようなマイクロレンズアレイ等の光学素子を用いたアプリケーションを考えた場合、コントラストを向上させるためには、光学素子背面から光を投射させたときに光学素子を通った光としては視野角依存が少なく散乱された光が望ましいが、レンズ間の隙間を直進して透過した光によりコントラストが低下する虞があった。
【0007】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、レンズ間の隙間から直進して出射する光を抑えてコントラストの向上に寄与できるマイクロレンズとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明のマイクロレンズは、レンズ形成領域に液滴を吐出して、基材上に複数のレンズ部が形成されるマイクロレンズの製造方法であって、前記レンズ形成領域を囲むバンクを形成する工程と、前記バンクを染色する工程と、前記レンズ形成領域に前記液滴を吐出して前記レンズ部を形成する工程と、を有することを特徴とするものである。
従って、本発明のマイクロレンズでは、遮光する色材(例えば黒色の色材)でバンクを染色することで、レンズ部間の隙間を光が直進(透過)することを防止できる。そのため、視野角依存性が少なくなりコントラストの向上に寄与することが可能になる。
なお、バンクを染色する方式としては、レンズ部を形成する場合と同様に、遮光性材料、例えば光を吸収する色材を含む液滴を吐出して、前記バンクに染色することが複雑なパターンを容易に形成する点から好ましい。
【0009】
また、本発明では、前記液滴の吐出前に、前記バンクに撥液性を付与する工程を有することが好ましい。
これにより、本発明では、バンクにレンズ形成材料の液滴がのった場合でも、液滴をはじいてバンク間のレンズ形成領域に移動させることが可能になる。
さらに、本発明では前記液滴の吐出前に、前記レンズ形成領域に撥液性を付与する工程を有することが好ましい。
これにより、本発明では、液滴の表面張力のみならず、基材との接触角によってレンズ形状をなすことができる。
【0010】
前記バンクと前記レンズ部とを複数の層に亘って形成する際には、層間で前記レンズ部の位置をずらせることが好ましい。
レンズ部間のバンクに光が直進可能な部位が存在した場合でも、層間でレンズ部の位置をずらせることで、この光が直進可能な部位もずらせることができる。
従って、例えば1層目のレンズ部間のバンクを直進して透過した光でも、2層目のレンズ部間のバンクを透過する際に直進する可能性を低下させることが可能になる。
【0011】
また、本発明のマイクロレンズは、上記の製造方法により製造されたことを特徴としている。
これにより、本発明では、レンズ部間のバンクを直進して通過する光を低下あるいは遮断して、高い視野角でコントラストを向上させることが可能なマイクロレンズを得ることができる。
【0012】
一方、本発明の電気光学装置は、上記のマイクロレンズを備えることを特徴としている。
また、本発明の電子機器は、上記の電気光学装置を備えることを特徴としている。
これにより、本発明では高い視野角でコントラストが向上した電気光学装置及び電子機器を得ることができる。
【0013】
電気光学装置が電極間に発光層を有してなる有機EL発光素子を備える場合、マイクロレンズは、発光面側の前記電極の上方に保護層を介して設けられることが好ましい。
この場合、電極とレンズ部またはバンクとが接することで酸化する等の不都合を回避することが可能になる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のマイクロレンズとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器の実施の形態を、図1ないし図9を参照して説明する。
(第1実施形態)
本実施の形態では、液滴吐出法によって液体吐出ヘッドのノズルから光透過性樹脂を液滴状に吐出し、光透過性を有する基材上に塗布してレンズ部を形成する場合の例を用いて説明する。
【0015】
ここで、基材としては、得られるマイクロレンズを例えばスクリーン用の光学膜などに適用する場合、酢酸セルロースやプロピルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどの透明樹脂(光透過性樹脂)からなる光透過性シートあるいは光透過性フィルムが用いられる。また、マイクロレンズをマイクロレンズアレイなどに適用する場合には、基材として、ガラス、ポリカーボネイト、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォン、アモルファスポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレートなどの透明材料(光透過性材料)からなる基板が使用される。
【0016】
レンズ材料となる光透過性樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリカーボネートなどのアリル系樹脂、メタクリル樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などの熱可塑性または熱硬化性の樹脂が挙げられ、これらのうちの一種が用いられ、あるいは複数種が混合されて用いられる。
【0017】
このような光透過性樹脂にビイミダゾール系化合物などの光重合開始剤を配合することにより、使用する光透過性樹脂を放射線照射硬化型のものとして用いてもよい。すなわち、このような光重合開始剤を配合することにより、前記光透過性樹脂に放射線照射硬化性を付与することができるのである。ここで、放射線とは可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、電子線等の総称であり、特に紫外線が一般的に用いられる。
【0018】
また、液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御してノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に30kg/cm程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進してノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散してノズルから吐出されない。また、電気機械変換方式は、ピエゾ素子(圧電素子)がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出してノズルから吐出させるものである。
【0019】
また、電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル(泡)を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すものである。また、この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。なお、液滴吐出法により吐出される液状材料(流動体)の一滴の量は、ヘッドや液滴材料によって異なるものの、通常は1〜20pl程度である。
また、吐出する液滴の個数については、形成するマイクロレンズの大きさ等に応じて、例えば3個、5個などのように予め設定しておく。
【0020】
次に、本発明に係るマイクロレンズとしてのマイクロレンズアレイを製造する際に用いられるデバイス製造装置について説明する。
このデバイス製造装置としては、液滴吐出ヘッドから基板に対して液滴を吐出することによりデバイスを製造する液滴吐出装置(インクジェット装置)が用いられる。
【0021】
図1は、液滴吐出装置IJの概略構成を示す斜視図である。
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1と、X軸方向駆動軸4と、Y軸方向ガイド軸5と、制御装置CONTと、ステージ7と、クリーニング機構8と、基台9と、ヒータ15とを備えている。
ステージ7は、この液滴吐出装置IJによりインク(機能液)を設けられる基板(基材)Pを支持するものであって、基板Pを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
【0022】
液滴吐出ヘッド1は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とY軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド1の下面にY軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド1の吐出ノズルからは、ステージ7に支持されている基板Pに対して、上述した光透過性樹脂を含むインクが吐出される。
【0023】
X軸方向駆動軸4には、X軸方向駆動モータ2が接続されている。X軸方向駆動モータ2はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからX軸方向の駆動信号が供給されると、X軸方向駆動軸4を回転させる。X軸方向駆動軸4が回転すると、液滴吐出ヘッド1はX軸方向に移動する。
Y軸方向ガイド軸5は、基台9に対して動かないように固定されている。ステージ7は、Y軸方向駆動モータ3を備えている。Y軸方向駆動モータ3はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ7をY軸方向に移動する。
【0024】
制御装置CONTは、液滴吐出ヘッド1に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、X軸方向駆動モータ2に液滴吐出ヘッド1のX軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Y軸方向駆動モータ3にステージ7のY軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
クリーニング機構8は、液滴吐出ヘッド1をクリーニングするものである。クリーニング機構8には、図示しないY軸方向の駆動モータが備えられている。このY軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Y軸方向ガイド軸5に沿って移動する。クリーニング機構8の移動も制御装置CONTにより制御される。
ヒータ15は、ここではランプアニールにより基板Pを熱処理する手段であり、基板P上に塗布された光透過性樹脂の乾燥を行う。このヒータ15の電源の投入及び遮断も制御装置CONTにより制御される。
【0025】
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1と基板Pを支持するステージ7とを相対的に走査しつつ基板Pに対して液滴を吐出する。ここで、以下の説明において、X軸方向を走査方向、X軸方向と直交するY軸方向を非走査方向とする。したがって、液滴吐出ヘッド1の吐出ノズルは、非走査方向であるY軸方向に一定間隔で並んで設けられている。なお、図1では、液滴吐出ヘッド1は、基板Pの進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド1の角度を調整し、基板Pの進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッド1の角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することが出来る。また、基板Pとノズル面との距離を任意に調節することが出来るようにしてもよい。
【0026】
図2は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。
図2において、液体材料(レンズ用インク、光透過性樹脂)を収容する液体室21に隣接してピエゾ素子22が設置されている。液体室21には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系23を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子22は駆動回路24に接続されており、この駆動回路24を介してピエゾ素子22に電圧を印加し、ピエゾ素子22を変形させることにより、液体室21が変形し、ノズル25から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子22の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子22の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
【0027】
次に、本発明に係るマイクロレンズアレイの製造方法について図3を参照して説明する。
まず、基板上にバンクを形成する。
バンクは、仕切部材として機能する部材であり、バンクの形成はリソグラフィ法や印刷法等、任意の方法で行うことができる。例えば、リソグラフィ法を使用する場合は、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート等所定の方法で、図3(a)に示すように、基板P上にバンクの高さに合わせて有機系感光性材料B’を塗布し、その上にレジスト層を塗布する。そして、バンク形状(マイクロレンズアレイパターン)に合わせてマスクを施しレジストを露光・現像することによりバンク形状に合わせたレジストを残す。最後にエッチングしてマスク以外の部分のバンク材料を除去する。また、下層が無機物で上層が有機物で構成された2層以上でバンク(凸部)を形成してもよい。
これにより、図3(a)に示されるように、マイクロレンズを形成すべき領域(レンズ形成領域)L’を囲むようにバンクBが突設される。
【0028】
バンクを形成する有機材料としては、染色性に優れていれば、レンズ形成用液体材料に対して撥液性を示す材料でも良いし、後述するように、プラズマ処理による撥液化が可能で下地基板との密着性が良くフォトリソグラフィによるパターニングがし易い絶縁有機材料でも良い。例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の高分子材料を用いることが可能である。
【0029】
次に、上記の液滴吐出装置IJによる液滴吐出法を用いて、遮光性材料である黒色染料を含むインクを基板P上のバンクBに塗布する。
すなわち、この工程では、上述した液滴吐出装置IJの液滴吐出ヘッド1と基板Pとを相対移動させながら、図3(c)に示すように、液体吐出ヘッド1から黒色染料を含むインクを液滴31として吐出する。より詳細には、液滴吐出ヘッド1と基板Pとを相対移動させつつ、所定のピッチで液滴31を複数吐出することでバンクBを黒色に染色する。
【0030】
黒色染料としては、例えば液晶表示装置を構成するカラーフィルタに用いられるインクを用いる。インクの組成例としては、熱硬化性アクリル樹脂、有機顔料、ジエチレングリコールブチルエーテル誘導体等の溶剤からなるものを用いることができる。
バンクBは、塗布されたインクを吸着することにより黒色に染まり、遮光性を有する、いわゆるブラックマトリクスとして機能することになる。
バンクBを形成した後は、たとえば、ヒータにより熱を与えることで、基板Pの上のバンクBを焼成する。
【0031】
続いて、基板P上のバンクB、レンズ形成領域L’に対して撥液化処理を行いその表面に撥液性を付与する。
撥液化処理としては、例えば大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理法(CFプラズマ処理法)を採用することができる。CFプラズマ処理の条件は、例えばプラズマパワーが50〜1000kW、4フッ化メタンガス流量が50〜100ml/min、プラズマ放電電極に対する基体搬送速度が0.5〜1020mm/sec、基体温度が70〜90℃とされる。
なお、処理ガスとしては、テトラフルオロメタン(四フッ化炭素)に限らず、他のフルオロカーボン系のガスを用いることもできる。
【0032】
このような撥液化処理を行うことにより、バンクBにはこれを構成する樹脂中にフッ素基が導入され、レンズ形成材料に対して高い撥液性が付与されたバンクBが形成される(図3(d)参照)。
なお、バンクBについては、撥液性を有する材料(例えばフッ素基を有する樹脂材料)によって形成することにより、その撥液処理を省略するようにしてもよい。
【0033】
なお、上記撥液化処理の前に、バンク形成時のレジスト(有機物)残渣を除去するために、基板Pに対して残渣処理を施す工程を設けてもよい。残渣処理としては、紫外線を照射することにより残渣処理を行う紫外線(UV)照射処理や大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするOプラズマ処理等を選択できる。
【0034】
続いて、バンクBに対する染料塗布と同様に、上記の液滴吐出装置IJによる液滴吐出法を用いて、光透過性樹脂を基板P上のレンズ形成領域L’に塗布する。なお、ここでは、UV硬化型の光透過性樹脂(以下、UV硬化樹脂)を吐出・塗布する。
すなわち、この工程では、上述した液滴吐出装置IJの液滴吐出ヘッド1と基板Pとを相対移動させながら、図3(e)に示すように、液体吐出ヘッド1からUV硬化樹脂を含むインクを液滴32として吐出し、その液滴32を基板P上の所定のレンズ形成領域L’に配置することでレンズ部Lを形成する。より詳細には、液滴吐出ヘッド1と基板Pとを相対移動させつつ、所定のピッチで液滴32を複数吐出することで、バンクBを隔てて複数のレンズ部(マイクロレンズ)Lを形成する。
このとき、基板P(レンズ形成領域L’)の表面は撥液化処理が施されているため、着弾したUV硬化樹脂の液滴は基板Pとの接触角及びインクの表面張力によって略半球のレンズ形状を呈することになる。
【0035】
次に、UV硬化樹脂を硬化させるためにUV光(紫外光)を照射(UVキュア)する。
すなわち、レンズ部Lが形成された基板Pに対して、例えば波長170〜400nmの紫外光を照射することにより、UV硬化樹脂はレンズ形状を維持した状態で固化する。
この後、ヒータ等により、基板Pを乾燥(焼成)することにより、染色されたバンクBにより遮光性のブラックマトリクスが形成される。
【0036】
このように、本実施の形態では、レンズ部L間に形成されたバンクBを遮光性材料で染色するので、バンクBを介して光が直進して出射することを防止できる。そのため、視野角依存性が小さくなり、コントラストの向上に寄与することが可能になる。
また、本実施の形態では、液滴吐出によりUV硬化樹脂及びバンク染色材料を塗布しているので、容易にマイクロレンズアレイを形成することが可能となっている。
さらに、本実施の形態では、バンクBを撥液性を付与する工程を設けているので、UV硬化樹脂の液滴を吐出した際、吐出された液滴の一部がバンクBにのってもバンクBからはじいて、レンズ形成領域L’に溜めることができる。
【0037】
なお、上記実施形態におけるレンズ形成領域L’に対して自己組織膜形成法により撥液性を付与することも可能である。
自己組織膜形成法では、マイクロレンズを形成すべき基板の表面に、有機分子膜などからなる自己組織化膜を形成する。
基板表面を処理するための有機分子膜は、基板に結合可能な官能基と、その反対側に親液基あるいは撥液基といった基板の表面性を改質する(表面エネルギーを制御する)官能基と、これらの官能基を結ぶ炭素の直鎖あるいは一部分岐した炭素鎖とを備えており、基板に結合して自己組織化して分子膜、例えば単分子膜を形成する。
【0038】
ここで、自己組織化膜とは、基板の下地層等の構成原子と反応可能な結合性官能基とそれ以外の直鎖分子とからなり、直鎖分子の相互作用により極めて高い配向性を有する化合物を、配向させて形成された膜である。この自己組織化膜は、単分子を配向させて形成されているので、極めて膜厚を薄くすることができ、しかも、分子レベルで均一な膜となる。すなわち、膜の表面に同じ分子が位置するため、膜の表面に均一でしかも優れた撥液性や親液性を付与することができる。
【0039】
上記の高い配向性を有する化合物として、例えばフルオロアルキルシランを用いることにより、膜の表面にフルオロアルキル基が位置するように各化合物が配向されて自己組織化膜が形成され、膜の表面に均一な撥液性が付与される。
自己組織化膜を形成する化合物としては、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリクロロシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフルオロアルキルシラン(以下「FAS」という)を例示できる。これらの化合物は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、FASを用いることにより、基板との密着性と良好な撥液性とを得ることができる。
【0040】
FASは、一般的に構造式RnSiX(4−n)で表される。ここでnは1以上3以下の整数を表し、Xはメトキシ基、エトキシ基、ハロゲン原子などの加水分解基である。またRはフルオロアルキル基であり、(CF)(CF)x(CH)yの(ここでxは0以上10以下の整数を、yは0以上4以下の整数を表す)構造を持ち、複数個のR又はXがSiに結合している場合には、R又はXはそれぞれすべて同じでもよく、異なっていてもよい。Xで表される加水分解基は加水分解によりシラノールを形成して、基板(ガラス、シリコン)の下地のヒドロキシル基と反応してシロキサン結合で基板と結合する。一方、Rは表面に(CF)等のフルオロ基を有するため、基板の下地表面を濡れない(表面エネルギーが低い)表面に改質する。
【0041】
有機分子膜などからなる自己組織化膜は、上記の原料化合物と基板とを同一の密閉容器中に入れておき、室温で2〜3日程度の間放置することにより基板上に形成される。また、密閉容器全体を100℃に保持することにより、3時間程度で基板上に形成される。これらは気相からの形成法であるが、液相からも自己組織化膜を形成できる。例えば、原料化合物を含む溶液中に基板を浸積し、洗浄、乾燥することで基板上に自己組織化膜が形成される。
なお、自己組織化膜を形成する前に、基板表面に紫外光を照射したり、溶媒により洗浄したりして、基板表面の前処理を施すことが望ましい。
【0042】
(第2実施形態)
上記第1実施形態では、バンクBに入射した光を遮光する構成としたが、全ての光を遮光するのではなく一部が透過する材料を用いても視野角依存性を小さくする点では効果がある。また、光の少なくとも一部を遮光するのではなく、インクに散乱剤を含有させ、入射した光を散乱して出射させることにより直進性を制御する構成としてもよい。この場合、バンクBを通過した光が出射することになるが、散乱した光として出射するので視野角依存性を小さくしてコントラスト向上に寄与することができる。
【0043】
(第3実施形態)
図4は、2層構造にしたマイクロレンズアレイの断面図である。
この図に示すように、上記第1実施形態と同様の工程で、まず基板P上にレンズ部Lと、レンズ部L間にバンクBとを1層目として形成し、次いでこれらを被覆する被覆層Hを形成する。この被覆層Hとしては、透光性を有し、上記の親液化処理(UV照射処理)を考慮して、例えば窒化珪素(Si)等のセラミックスや酸化珪素(SiO)を用いることができる。
【0044】
そして、基材としての被覆層H上に1層目と同様に2層目のマイクロレンズアレイを形成する。このとき、層間でレンズ部Lの位置がずれるように配置する。より好ましくは、図に示すように、1層目と2層目とでレンズ部Lのピッチが半ピッチ(π/2)ずれるように配置形成する。
なお、この実施形態においても、レンズ部L間の隙間に形成されるのは入射した光を遮光するものに限られず、既述の散乱させるものであってもよい。
【0045】
このように、複数の層に亘ってレンズ部L及びバンクBを有するマイクロレンズアレイを形成する際には、層間でレンズ部Bの位置をずらせることで、1層目のバンクBから光が出射して2層目のバンクBに入射した場合でも、2層目で遮光される可能性が高くなる。また、光を遮光するのではなく散乱させる場合でも、1層目から直進した光は2層目で1層目とは異なる位置から出射するため、光が2層目から直進して出射する可能性を大幅に少なくすることができる。 そのため、本実施形態でも、直進する光による視野角依存性を小さくしてコントラスト向上に寄与することができる。
【0046】
(第4実施形態)
第4実施形態として、本発明の電気光学装置の一例である液晶表示装置について説明する。
図5は、液晶表示装置の断面構造を示す図である。
この図に示す液晶表示装置には、TFTアレイ基板40と対向基板41とが対向配置されており、これら基板40、41間に液晶からなる液晶層50が挟持されている。TFTアレイ基板40は、石英、ガラス等の透光性材料からなり、その内面(液晶層と接する面)上に画素電極43に接続されたTFT42が形成されている。また、TFTアレイ基板40の最表面には、配向膜44が形成されている。
一方、対向基板41は、石英、ガラス等の透光性材料からなり、その内面(液晶層50と接する面)上にITO等の透明導電膜からなる共通電極45が形成されている。対向基板41の最表面には、TFTアレイ基板40と同様、配向膜46が形成されている。
【0047】
また、対向基板41の外面(液晶層50と接する面と反対側の面)側には、対向基板41から所定距離離間した位置に、上述の製造方法で製造された集光手段としてのマイクロレンズアレイ(マイクロレンズ装置)LAが設置されている。マイクロレンズアレイLAは、複数のマイクロレンズLをマトリクス状に配置したものである。
マイクロレンズアレイLAは最適な位置に位置合わせされた後、任意の固定手段によって液晶セル47に対して固定することが望ましい。入射光Liは、マイクロレンズアレイLA、対向基板41、液晶層50、TFTアレイ基板40という順で透過する構成となっており、マイクロレンズアレイLAに入射した光Liは、画素領域Gに所定のスポット径で集光される。
本実施の形態では、マイクロレンズアレイLAが上述の製造方法で製造されているため、レンズ部Lに入射した光Liは液晶セル47に集光され、レンズ部L間に入射した光はバンクBにおいて遮光(または散乱)されるため、直進した光に起因して視野角依存性が大きくなることを防止してコントラストが向上した液晶表示装置を得ることができる。
【0048】
(第5実施形態)
図6は、光変調手段(ライトバルブ)として上記第4実施形態の液晶表示装置を3個用いた、いわゆる3板式の投射型液晶表示装置(液晶プロジェクタ)の一例を示す概略構成図である。図中、符号1100は光源、1108はダイクロイックミラー、1106は反射ミラー、1122,1123,1124はリレーレンズ、100R,100G,100Bは液晶ライトバルブ、1112はクロスダイクロイックプリズム、1114は投射レンズ系を示す。
【0049】
光源1100は、メタルハライド等のランプ1102とランプ1102の光を反射するリフレクタ1101とから構成されている。青色光・緑色光反射のダイクロイックミラー1108は、光源1100からの白色光のうちの赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー1106で反射され、赤色光用液晶ライトバルブ100Rに入射される。
【0050】
一方、ダイクロイックミラー1108で反射された色光のうち、緑色光は、緑色光反射のダイクロイックミラー1108によって反射され、緑色用液晶ライトバルブ100Gに入射される。一方、青色光は、第2のダイクロイックミラー1108も透過する。青色光に対しては、光路長が緑色光、赤色光と異なるのを補償するために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123、出射レンズ1124を含むリレーレンズ系からなる導光手段1121が設けられ、これを介して青色光が青色光用液晶ライトバルブ100Bに入射される。なお、図示は省略しているが、各色光用液晶ライトバルブ100R,100G,100Bの入射側には、上記実施の形態の液晶表示装置におけるマイクロレンズアレイが設けられている。
【0051】
各ライトバルブ100R,100G,100Bにより変調された3つの色光はクロスダイクロイックプリズム1112に入射する。このプリズムは、4つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されたものである。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ系1114によってスクリーン1120上に投射され、画像が拡大されて表示される。
【0052】
図7は、上記のマイクロレンズアレイを備えたプロジェクタ用スクリーンの一例を示す図であり、図7中符号1120はプロジェクター用スクリーン(以下、スクリーンと略称する)である。このスクリーン1120は、フィルム基材51上に、粘着層52を介してレンチキュラーシート53が貼設され、さらにその上にフレネルレンズ54、散乱膜55がこの順に配設されて構成されたものである。
【0053】
レンチキュラーシート53は、光透過性シート(基材)11上に多数のマイクロレンズ(レンズ部)Lを、レンズ間にバンクBを配置して構成されたものである。また、散乱膜55は、前記のレンチキュラーシート53の場合に比べ、光透過性シート11上にマイクロレンズ(レンズ部)Lを疎に配置して構成されたものである。
なお、光透過性シート11としては、上述した酢酸セルロースやプロピルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどの透明樹脂(光透過性樹脂)を用いることができる。
【0054】
このようなスクリーン1120にあっては、レンチキュラーシート53及び散乱膜55として前記のマイクロレンズアレイLAを用いていることから、良好な拡散性能を有しコントラストが向上することにより、スクリーン1120上に投射される像の画質を高めることができるとともに、スクリーン1120上に投射される像の視認性を高めることができる。
また、上記構成の投射型液晶表示装置においては、上記実施の形態の液晶表示装置を用いたことにより、高コントラストの表示品位に優れた投射型液晶表示装置を実現することができる。
なお、投射型液晶表示装置の形式としては、フロント型、リア型のいずれであっても適用可能である。
【0055】
(第6実施形態)
図8は、本発明に係るマイクロレンズを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置(有機EL装置)を示す概略断面図である。
本有機EL装置(電気光学装置)61は、基板Pと、基板Pの上に設けられた陰極63と、陰極63の上に設けられた有機EL膜(発光層)64と、有機EL膜64の上に設けられた透明な陽極(ITO)65とを有している。陰極63、有機EL膜64及び陽極65で有機EL発光素子を構成している。
陰極63と有機EL膜64は、基板P上において複数設けられており、それぞれ画素をなしている。また、基板Pには有機EL素子をアクティブに駆動するトランジスタ62が設けられている。また、陽極65の上にはSiO等の無機材で形成された保護膜(保護層)66が設けられている。
【0056】
さらに、本有機EL装置61では、保護膜66の上、すなわち有機EL素子の陽極(発光面側電極)65の上方に、上述の製造方法を用いて、レンズ部L及びバンクBを有するマイクロレンズアレイLAが設けられている。この場合、陽極65とマイクロレンズアレイLAとの間に保護膜66が介在することが、陽極65の酸化防止のために好ましい。マイクロレンズアレイLAの各レンズ部Lは、有機EL素子の画素(陰極63と有機EL膜64)毎に配置されている。このマイクロレンズアレイLAの各レンズ部と有機EL素子の画素との配置は、図1に示す構成に限らず、マイクロレンズアレイLAにおける複数のレンズ部L毎に、1つの有機EL素子の画素が配置されているものとしてもよい。また、マイクロレンズアレイLAにおける1つのレンズ部L毎に、複数の有機EL素子の画素が配置されているものとしてもよい。
【0057】
これらの構成により、有機EL膜64から出射された光は、透明な陽極65から透過し、次いで透明な保護膜66を透過し、次いでマイクロレンズアレイLAのレンズ部Lを透過して、有機EL装置61の外へ出射する。
ここで、有機EL膜64から出射された光のうちで、基板P面に対して斜めに出射された光でも、マイクロレンズアレイLAのレンズ部Lで、基板P面に対して垂直方向に屈折されて装置の外部に出射する。したがって、有機EL膜64から出射された光のほとんど全て(例えば、95%以上)を有機EL装置61の外へ出射させることができ、その光を肉眼へ到達させることができる。
また、有機EL膜64から出射された光のうち、バンクBに入射した光はここで遮光されるため有機EL装置61の外へは出射しない。従って、直進して出射した光によって視野角依存性が大きくなることはなく、出射された光をコントラストが向上した状態で効率よく利用することが可能になる。
【0058】
(第7実施形態)
第7実施形態として、本発明の電子機器の具体例について説明する。
図9(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図9(a)において、600は携帯電話本体を示し、601は上記第4実施形態の液晶表示装置を備えた液晶表示部を示している。
図9(b)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図9(b)において、700は情報処理装置、701はキーボードなどの入力部、703は情報処理本体、702は上記第4実施形態の液晶表示装置を備えた液晶表示部を示している。
図9(c)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図9(c)において、800は時計本体を示し、801は上記第4実施形態の液晶表示装置を備えた液晶表示部を示している。なお、上記液晶表示装置をこの種の電子機器に搭載する際には、液晶表示装置の光源となるバックライトと液晶セルとの間にマイクロレンズアレイが位置する構成とすればよい。
図9(a)〜(c)に示す電子機器は、上記第4実施形態の液晶表示装置を備えたものであるので、高コントラストの液晶表示部を備えた電子機器を実現することができる。
なお、本実施形態の電子機器は液晶装置を備えるものとしたが、有機EL装置等、他の電気光学装置を備えた電子機器とすることもできる。
【0059】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
例えば、上記実施の形態では、レンズ形成領域L’に撥液性を付与した後にUV硬化樹脂を塗布する構成としたが、これに限定されるものではなく、基板着弾後にレンズ形状を成す材料であれば、必ずしも撥液化処理が必要というものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】液滴吐出装置の概略斜視図である。
【図2】ピエゾ方式による液状体の吐出原理を説明するための図である。
【図3】マイクロレンズアレイの製造方法の手順を示す図である。
【図4】2層構造のマイクロレンズアレイを示す図である。
【図5】液晶表示装置の断面構造を示す図である。
【図6】投射型液晶表示装置の一例を示す概略構成図である。
【図7】プロジェクタ用スクリーンの一例を示す図である。
【図8】有機EL装置を示す概略断面図である。
【図9】本発明の電子機器の具体例を示す図である。
【符号の説明】
B バンク、L レンズ部(マイクロレンズ)、L’ レンズ形成領域、LAマイクロレンズアレイ(マイクロレンズ装置)、P 基板(基材)、11 光透過性シート(基材)、32 液滴、61 有機EL装置(電気光学装置)、64 有機EL膜(発光層)、65 陽極(電極)、66 保護膜(保護層)、600 携帯電話本体(電子機器)、700 情報処理装置(電子機器)、800時計本体(電子機器)

Claims (11)

  1. レンズ形成領域に液滴を吐出して、基材上に複数のレンズ部が形成されるマイクロレンズの製造方法であって、
    前記レンズ形成領域を囲むバンクを形成する工程と、
    前記バンクを染色する工程と、
    前記レンズ形成領域に前記液滴を吐出して前記レンズ部を形成する工程と、
    を有することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
  2. 請求項1記載のマイクロレンズの製造方法において、
    前記液滴の吐出前に、前記バンクに撥液性を付与する工程を有することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
  3. 請求項1記載のマイクロレンズの製造方法において、
    撥液性を有する材料で前記バンクを形成することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
  4. 請求項1から3のいずれかに記載のマイクロレンズの製造方法において、
    前記液滴の吐出前に、前記レンズ形成領域に撥液性を付与する工程を有することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
  5. 請求項1から4のいずれかに記載のマイクロレンズの製造方法において、
    前記バンクと前記レンズ部とを複数の層に亘って形成する際に、層間で前記レンズ部の位置をずらせることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
  6. 請求項1から5のいずれかに記載のマイクロレンズの製造方法において、
    遮光性材料を含む液滴を吐出して、前記バンクを染色することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
  7. 請求項1から6のいずれかに記載のマイクロレンズの製造方法において、
    前記遮光性材料は、前記光を吸収する色材であることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
  8. 請求項1から7のいずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とするマイクロレンズ。
  9. 請求項8記載のマイクロレンズを備えることを特徴とする電気光学装置。
  10. 請求項9記載の電気光学装置において、
    電極間に発光層を有してなる有機EL発光素子を備えてなり、
    前記マイクロレンズは、発光面側の前記電極の上方に保護層を介して設けられることを特徴とする電気光学装置。
  11. 請求項9または10記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009004697A1 (ja) * 2007-06-29 2009-01-08 Toppan Printing Co., Ltd. 印刷物及び印刷物の製造方法
WO2011121662A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-06 パナソニック株式会社 表示パネル装置及び表示パネル装置の製造方法
KR20130006728A (ko) * 2010-03-31 2013-01-18 파나소닉 주식회사 표시 패널 장치 및 표시 패널 장치의 제조 방법
JP2013016272A (ja) * 2011-06-30 2013-01-24 Canon Inc 表示装置
KR20130124042A (ko) * 2012-05-04 2013-11-13 주성엔지니어링(주) 발광장치 및 그 제조방법
KR101350403B1 (ko) * 2011-12-21 2014-01-13 한국과학기술원 플루오르고분자 박막 코팅을 이용한 고개구수 렌즈 및 이의 제조방법
US8748924B2 (en) 2011-04-18 2014-06-10 Canon Kabushiki Kaisha Display apparatus and method for manufacturing the same
US8835947B2 (en) 2011-06-30 2014-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Display apparatus
JP2015041106A (ja) * 2013-08-23 2015-03-02 ゼロックス コーポレイションXerox Corporation レンティキュラ画像を印刷するためのシステムおよび方法、および印刷媒体
JP2020043066A (ja) * 2018-09-06 2020-03-19 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 有機発光表示装置及びその製造方法
CN112687748A (zh) * 2020-12-29 2021-04-20 佛山市国星光电股份有限公司 一种背光模块及其制作方法
US20210193968A1 (en) * 2019-12-19 2021-06-24 Lg Display Co., Ltd. Display Device
WO2022155944A1 (zh) * 2021-01-25 2022-07-28 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009004697A1 (ja) * 2007-06-29 2009-01-08 Toppan Printing Co., Ltd. 印刷物及び印刷物の製造方法
JP5373054B2 (ja) * 2010-03-31 2013-12-18 パナソニック株式会社 表示パネル装置及び表示パネル装置の製造方法
CN102293052A (zh) * 2010-03-31 2011-12-21 松下电器产业株式会社 显示面板装置以及显示面板装置的制造方法
KR20130006728A (ko) * 2010-03-31 2013-01-18 파나소닉 주식회사 표시 패널 장치 및 표시 패널 장치의 제조 방법
WO2011121662A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-06 パナソニック株式会社 表示パネル装置及び表示パネル装置の製造方法
KR101596983B1 (ko) 2010-03-31 2016-02-23 가부시키가이샤 제이올레드 표시 패널 장치 및 표시 패널 장치의 제조 방법
US8823254B2 (en) 2010-03-31 2014-09-02 Panasonic Corporation Display panel apparatus and manufacturing method of display panel apparatus
KR101615397B1 (ko) 2010-03-31 2016-04-25 가부시키가이샤 제이올레드 표시 패널 장치 및 표시 패널 장치의 제조 방법
US8748924B2 (en) 2011-04-18 2014-06-10 Canon Kabushiki Kaisha Display apparatus and method for manufacturing the same
JP2013016272A (ja) * 2011-06-30 2013-01-24 Canon Inc 表示装置
US8829786B2 (en) 2011-06-30 2014-09-09 Canon Kabushiki Kaisha Display apparatus
US8835947B2 (en) 2011-06-30 2014-09-16 Canon Kabushiki Kaisha Display apparatus
KR101350403B1 (ko) * 2011-12-21 2014-01-13 한국과학기술원 플루오르고분자 박막 코팅을 이용한 고개구수 렌즈 및 이의 제조방법
KR20130124042A (ko) * 2012-05-04 2013-11-13 주성엔지니어링(주) 발광장치 및 그 제조방법
JP2015041106A (ja) * 2013-08-23 2015-03-02 ゼロックス コーポレイションXerox Corporation レンティキュラ画像を印刷するためのシステムおよび方法、および印刷媒体
JP2020043066A (ja) * 2018-09-06 2020-03-19 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 有機発光表示装置及びその製造方法
US11258050B2 (en) 2018-09-06 2022-02-22 Lg Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method for manufacturing the same
US20210193968A1 (en) * 2019-12-19 2021-06-24 Lg Display Co., Ltd. Display Device
GB2591603A (en) * 2019-12-19 2021-08-04 Lg Display Co Ltd Display device
GB2591603B (en) * 2019-12-19 2022-02-23 Lg Display Co Ltd Display device
CN112687748A (zh) * 2020-12-29 2021-04-20 佛山市国星光电股份有限公司 一种背光模块及其制作方法
WO2022155944A1 (zh) * 2021-01-25 2022-07-28 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置

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