JP2003291406A - 有機ｅｌアレイ露光ヘッド及びそれを用いた画像形成装置 - Google Patents
有機ｅｌアレイ露光ヘッド及びそれを用いた画像形成装置Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機ＥＬアレイ露光ヘッドのクロストークを
低減させて、十分な解像力、コントラストで各素子から
の光束を感光体等の像担持体上に集光させる。 【解決手段】 長尺な基板６の上に、少なくとも１列の
画素状に配列された有機ＥＬ素子４のアレイを備え、有
機ＥＬ素子４のアレイの発光側に、各有機ＥＬ素子４の
発光部に整列してマイクロレンズアレイ板１２が配置さ
れており、マイクロレンズアレイ板の入射側の面に、各
有機ＥＬ素子４の発光部を囲む溝１４が設けられ、その
溝１４内に吸収層１５’又は反射層１５が配置されてい
る有機ＥＬアレイ露光ヘッド。
低減させて、十分な解像力、コントラストで各素子から
の光束を感光体等の像担持体上に集光させる。 【解決手段】 長尺な基板６の上に、少なくとも１列の
画素状に配列された有機ＥＬ素子４のアレイを備え、有
機ＥＬ素子４のアレイの発光側に、各有機ＥＬ素子４の
発光部に整列してマイクロレンズアレイ板１２が配置さ
れており、マイクロレンズアレイ板の入射側の面に、各
有機ＥＬ素子４の発光部を囲む溝１４が設けられ、その
溝１４内に吸収層１５’又は反射層１５が配置されてい
る有機ＥＬアレイ露光ヘッド。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＥＬアレイ露
光ヘッド及びそれを用いた画像形成装置に関し、特に、
画素間のクロストークを防止するようにした有機ＥＬア
レイ露光ヘッドとそれを用いた画像形成装置に関するも
のである。
光ヘッド及びそれを用いた画像形成装置に関し、特に、
画素間のクロストークを防止するようにした有機ＥＬア
レイ露光ヘッドとそれを用いた画像形成装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、有機ＥＬアレイを画像形成装置用
の露光ヘッドとして用いるものが種々提案されている。
関係するものをあげると次の通りである。
の露光ヘッドとして用いるものが種々提案されている。
関係するものをあげると次の通りである。
【０００３】特開平１０−５５８９０号においては、ガ
ラス等の絶縁性基板上に有機ＥＬアレイを一括作製し、
別体のドライバーＩＣを組み合わせ、有機ＥＬアレイの
発光部を感光ドラム上に結像させるのに集光性ロッドレ
ンズアレイを用いている。
ラス等の絶縁性基板上に有機ＥＬアレイを一括作製し、
別体のドライバーＩＣを組み合わせ、有機ＥＬアレイの
発光部を感光ドラム上に結像させるのに集光性ロッドレ
ンズアレイを用いている。
【０００４】特開平１１−１９８４３３号においては、
複数列を持つワンチップ有機ＥＬアレイを用いるもの
で、その発光部を感光ドラム上に結像させる光学系は不
明である。なお、有機ＥＬアレイのＥＬ層は蒸着により
堆積している。
複数列を持つワンチップ有機ＥＬアレイを用いるもの
で、その発光部を感光ドラム上に結像させる光学系は不
明である。なお、有機ＥＬアレイのＥＬ層は蒸着により
堆積している。
【０００５】特開２０００−７７１８８においては、基
板上面にインオ交換法でマイクロレンズを作成するか、
基板裏面にフォトレジストを用いる方法あるいはレプリ
カ法でマイクロレンズを作成し、そのマイクロレンズに
位置合わせて共振器構造を持つ有機ＥＬアレイを蒸着に
より堆積する。
板上面にインオ交換法でマイクロレンズを作成するか、
基板裏面にフォトレジストを用いる方法あるいはレプリ
カ法でマイクロレンズを作成し、そのマイクロレンズに
位置合わせて共振器構造を持つ有機ＥＬアレイを蒸着に
より堆積する。
【０００６】特開平１０−１２３７７号はアクティブマ
トリックス型有機ＥＬ表示体の製造方法に関するもの
で、薄膜トランジスタを有するガラス基板上に有機発光
層をインクジェット法により形成するものである。
トリックス型有機ＥＬ表示体の製造方法に関するもの
で、薄膜トランジスタを有するガラス基板上に有機発光
層をインクジェット法により形成するものである。
【０００７】特開２０００−３２３２７６においては、
有機ＥＬ素子の正孔注入層、有機発光層を隔壁を設けて
インクジェット法により塗布して形成するものである。
有機ＥＬ素子の正孔注入層、有機発光層を隔壁を設けて
インクジェット法により塗布して形成するものである。
【０００８】特開２００１−１８４４１においては、感
光ドラム内部に発光層とその発光制御を行うＴＦＴ層を
形成してプリンタを構成するものである。
光ドラム内部に発光層とその発光制御を行うＴＦＴ層を
形成してプリンタを構成するものである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上の従来技術におい
て、有機ＥＬアレイを電子写真方式等のプリンタの露光
ヘッドに用いる場合、有機ＥＬアレイの発光部からの光
束を感光ドラム上に集光させるのに集光性ロッドレンズ
アレイを用いる場合は、光路長が長くなり大型化してし
まい、また、集光性ロッドレンズは各発光部、各シャッ
ター部に対して一対一に配置されないので周期的な光量
むらが発生し、さらに、集光性ロッドレンズは製造方法
上高度なためコストアップは避けられない。
て、有機ＥＬアレイを電子写真方式等のプリンタの露光
ヘッドに用いる場合、有機ＥＬアレイの発光部からの光
束を感光ドラム上に集光させるのに集光性ロッドレンズ
アレイを用いる場合は、光路長が長くなり大型化してし
まい、また、集光性ロッドレンズは各発光部、各シャッ
ター部に対して一対一に配置されないので周期的な光量
むらが発生し、さらに、集光性ロッドレンズは製造方法
上高度なためコストアップは避けられない。
【００１０】また、マイクロレンズアレイを用いるもの
の場合は、各マイクロレンズを各発光部に対して一対一
に配置するが、発光部に対応するマイクロレンズでなく
その隣等の対応しないマイクロレンズを経て対応しない
画素位置に入射するクロストークが発生しがちで、解像
力の低下等に繋がる問題がある。
の場合は、各マイクロレンズを各発光部に対して一対一
に配置するが、発光部に対応するマイクロレンズでなく
その隣等の対応しないマイクロレンズを経て対応しない
画素位置に入射するクロストークが発生しがちで、解像
力の低下等に繋がる問題がある。
【００１１】本発明は従来技術のこのような問題点に鑑
みてなされたものであり、その目的は、有機ＥＬアレイ
の個々の素子に対応させてマイクロレンズを配置する有
機ＥＬアレイ露光ヘッドのクロストークを低減させて、
十分な解像力、コントラストで各素子からの光束を感光
体等の像担持体上に集光させるようにした小型の露光ヘ
ッドとそれを用いた画像形成装置を提供することであ
る。
みてなされたものであり、その目的は、有機ＥＬアレイ
の個々の素子に対応させてマイクロレンズを配置する有
機ＥＬアレイ露光ヘッドのクロストークを低減させて、
十分な解像力、コントラストで各素子からの光束を感光
体等の像担持体上に集光させるようにした小型の露光ヘ
ッドとそれを用いた画像形成装置を提供することであ
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の有機ＥＬアレイ露光ヘッドは、長尺な基板の上に、
少なくとも１列の画素状に配列された有機ＥＬ素子のア
レイを備え、前記有機ＥＬ素子のアレイの発光側に、各
有機ＥＬ素子の発光部に整列してマイクロレンズアレイ
板が配置されており、前記マイクロレンズアレイ板の入
射側の面に、各有機ＥＬ素子の発光部を囲む溝が設けら
れ、その溝内に吸収層が配置されていることを特徴とす
るものである。
明の有機ＥＬアレイ露光ヘッドは、長尺な基板の上に、
少なくとも１列の画素状に配列された有機ＥＬ素子のア
レイを備え、前記有機ＥＬ素子のアレイの発光側に、各
有機ＥＬ素子の発光部に整列してマイクロレンズアレイ
板が配置されており、前記マイクロレンズアレイ板の入
射側の面に、各有機ＥＬ素子の発光部を囲む溝が設けら
れ、その溝内に吸収層が配置されていることを特徴とす
るものである。
【００１３】本発明のもう１つの有機ＥＬアレイ露光ヘ
ッドは、長尺な基板の上に、少なくとも１列の画素状に
配列された有機ＥＬ素子のアレイを備え、前記有機ＥＬ
素子のアレイの発光側に、各有機ＥＬ素子の発光部に整
列してマイクロレンズアレイ板が配置されており、前記
マイクロレンズアレイ板の入射側の面に、各有機ＥＬ素
子の発光部を囲むＶ溝状の溝が設けられ、その溝内に反
射層が配置されていることを特徴とするものである。
ッドは、長尺な基板の上に、少なくとも１列の画素状に
配列された有機ＥＬ素子のアレイを備え、前記有機ＥＬ
素子のアレイの発光側に、各有機ＥＬ素子の発光部に整
列してマイクロレンズアレイ板が配置されており、前記
マイクロレンズアレイ板の入射側の面に、各有機ＥＬ素
子の発光部を囲むＶ溝状の溝が設けられ、その溝内に反
射層が配置されていることを特徴とするものである。
【００１４】後者の場合、溝内のＶ溝状の反射層の斜面
を集光性の曲面から構成するようにしてもよい。
を集光性の曲面から構成するようにしてもよい。
【００１５】何れの場合も、マイクロレンズアレイ板の
マイクロレンズと溝とが一体に構成されていてもよい。
マイクロレンズと溝とが一体に構成されていてもよい。
【００１６】また、マイクロレンズアレイ板が、マイク
ロレンズアレイが一面に設けられた透明シートと溝が一
面に設けられた透明シートとを貼り合わせて構成されて
いてもよい。
ロレンズアレイが一面に設けられた透明シートと溝が一
面に設けられた透明シートとを貼り合わせて構成されて
いてもよい。
【００１７】また、マイクロレンズアレイ板が、溝が一
面に設けられた透明シートの他面にインクジェット法に
よりマイクロレンズアレイが形成されてなるものであっ
てもよい。
面に設けられた透明シートの他面にインクジェット法に
よりマイクロレンズアレイが形成されてなるものであっ
てもよい。
【００１８】また、有機ＥＬ素子は陽極側に発光光を射
出するもの、陰極側に発光光を射出するもの何れでもよ
い。
出するもの、陰極側に発光光を射出するもの何れでもよ
い。
【００１９】また、有機ＥＬ素子は高分子型あるいは低
分子型何れでもよい。
分子型何れでもよい。
【００２０】また、有機ＥＬ素子は基板上に設けたＴＦ
Ｔで発光制御が行われることが望ましい。
Ｔで発光制御が行われることが望ましい。
【００２１】本発明は、以上のような有機ＥＬアレイ露
光ヘッドを像担持体に像を書き込むための露光ヘッドと
して備えている画像形成装置を含むものであり、その１
つとして、例えば、像担持体の周囲に帯電手段、露光ヘ
ッド、トナー現像手段、転写手段を配した画像形成ステ
ーションを少なくとも２つ以上設け、転写媒体が各ステ
ーションを通過することにより、カラー画像形成を行う
タンデム方式のカラー画像形成装置がある。
光ヘッドを像担持体に像を書き込むための露光ヘッドと
して備えている画像形成装置を含むものであり、その１
つとして、例えば、像担持体の周囲に帯電手段、露光ヘ
ッド、トナー現像手段、転写手段を配した画像形成ステ
ーションを少なくとも２つ以上設け、転写媒体が各ステ
ーションを通過することにより、カラー画像形成を行う
タンデム方式のカラー画像形成装置がある。
【００２２】本発明においては、マイクロレンズアレイ
板の入射側の面に、各有機ＥＬ素子の発光部を囲む溝が
設けられ、その溝内に吸収層が配置されているか、ある
いは、各有機ＥＬ素子の発光部を囲むＶ溝状の溝が設け
られ、その溝内に反射層が配置されているので、隣接画
素間のクロストークが低減され、十分な解像力、コント
ラストを得ることができる。
板の入射側の面に、各有機ＥＬ素子の発光部を囲む溝が
設けられ、その溝内に吸収層が配置されているか、ある
いは、各有機ＥＬ素子の発光部を囲むＶ溝状の溝が設け
られ、その溝内に反射層が配置されているので、隣接画
素間のクロストークが低減され、十分な解像力、コント
ラストを得ることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の有機ＥＬアレイ露
光ヘッドとそれを用いた画像形成装置の実施例を図面を
参照にしながら説明する。
光ヘッドとそれを用いた画像形成装置の実施例を図面を
参照にしながら説明する。
【００２４】図１は、本発明に基づく有機ＥＬアレイ露
光ヘッドの１実施例の模式的な平面図であり、図２に図
１の直線Ａ−Ａ’に沿うアレイの１画素の断面図を示
す。
光ヘッドの１実施例の模式的な平面図であり、図２に図
１の直線Ａ−Ａ’に沿うアレイの１画素の断面図を示
す。
【００２５】この実施例の有機ＥＬアレイ露光ヘッド１
は、２列のアレイ２、２’が平行で相互の画素が千鳥状
になるように配列されたもので、各アレイ２、２’は直
線状に配置された多数の発光画素３からなり、各画素３
の構成は同じで、有機ＥＬ素子４とその有機ＥＬ素子４
の発光を制御するＴＦＴ５とからなる。
は、２列のアレイ２、２’が平行で相互の画素が千鳥状
になるように配列されたもので、各アレイ２、２’は直
線状に配置された多数の発光画素３からなり、各画素３
の構成は同じで、有機ＥＬ素子４とその有機ＥＬ素子４
の発光を制御するＴＦＴ５とからなる。
【００２６】図２に１画素３の有機ＥＬ素子４とＴＦＴ
５とを含む断面図を示す。この有機ＥＬ素子４は陰極側
から発光光を出射させる例である。
５とを含む断面図を示す。この有機ＥＬ素子４は陰極側
から発光光を出射させる例である。
【００２７】有機ＥＬ素子４は、陰極１０及び陽極７か
らそれぞれ電子と正孔が注入され、再結合することによ
り発光するもので、電子輸送性の発光層９と正孔注入層
８が積層された構造となっている。
らそれぞれ電子と正孔が注入され、再結合することによ
り発光するもので、電子輸送性の発光層９と正孔注入層
８が積層された構造となっている。
【００２８】有機ＥＬ素子には、陰極から光を取り出す
ものと、陽極から光を取り出すものがあり、陽極すなわ
ち基板側から光を取り出すものが一般的であるが（後記
の実施例）、これは製造上の制約による部分が大きい。
基板側出射のため、基板はガラス等の透明部材に限ら
れ、駆動回路もガラス上に形成できるＴＦＴとなってい
た。
ものと、陽極から光を取り出すものがあり、陽極すなわ
ち基板側から光を取り出すものが一般的であるが（後記
の実施例）、これは製造上の制約による部分が大きい。
基板側出射のため、基板はガラス等の透明部材に限ら
れ、駆動回路もガラス上に形成できるＴＦＴとなってい
た。
【００２９】一方、本実施例は陰極側から光を取り出す
構成であり、陰極１０は光透過性である。一方、陽極７
は光透過性でなく反射性とすることで陰極側への放射量
を多くできる効果がある。
構成であり、陰極１０は光透過性である。一方、陽極７
は光透過性でなく反射性とすることで陰極側への放射量
を多くできる効果がある。
【００３０】この有機ＥＬアレイ露光ヘッド１は、ガラ
ス、シリコン等よりなる基板６、ＩＴＯ又はマグネシウ
ム・銀の合金や、アルミニウム等からなる陽極７、正孔
注入層８、発光層９、ＩＴＯ又は光を透過するのに十分
薄い金属電極である陰極１０、透明樹脂からなる接着層
１１、水分に触れることにより発光層９が劣化するのを
防止する封止部材と集光素子を兼ねたマイクロレンズア
レイ１２から構成される１つの発光画素３が、図１に示
すように、例えば２列のアレイ２、２’状に配列された
構造となっている。
ス、シリコン等よりなる基板６、ＩＴＯ又はマグネシウ
ム・銀の合金や、アルミニウム等からなる陽極７、正孔
注入層８、発光層９、ＩＴＯ又は光を透過するのに十分
薄い金属電極である陰極１０、透明樹脂からなる接着層
１１、水分に触れることにより発光層９が劣化するのを
防止する封止部材と集光素子を兼ねたマイクロレンズア
レイ１２から構成される１つの発光画素３が、図１に示
すように、例えば２列のアレイ２、２’状に配列された
構造となっている。
【００３１】そして、後で説明するように、例えば電子
写真方式のカラー画像形成装置の露光ヘッドに用いるに
当たっては、マイクロレンズアレイ１２に感光体が対向
する構成となり、マイクロレンズアレイ１２の各マイク
ロレンズ１３の作用で各発光画素３からの発光光が感光
体上にアレイ状に集光されることになる。
写真方式のカラー画像形成装置の露光ヘッドに用いるに
当たっては、マイクロレンズアレイ１２に感光体が対向
する構成となり、マイクロレンズアレイ１２の各マイク
ロレンズ１３の作用で各発光画素３からの発光光が感光
体上にアレイ状に集光されることになる。
【００３２】この実施例の有機ＥＬアレイ露光ヘッド１
の基本的な製法及び構成として、基板６上にアレイ状に
配置された有機ＥＬ素子４とＴＦＴ５とからなる有機Ｅ
Ｌアレイと、有機ＥＬ素子４の発光光を集光するマイク
ロレンズ１３のアレイ１２とは、別体で作製され、これ
を接着層１１を介して光学的・機械的に結合される構成
となっている。有機ＥＬ素子４の製法は公知の一般的な
ものの何れでもよく、各膜７、８、９、１０は、基板６
上に真空蒸着法、キャスト法等によって成膜される。あ
るいは、特開平１０−１２３７７号等に記載されている
ように、インクジェット法により形成することもでき
る。マイクロレンズアレイ１２、接着層１１としては、
紫外線硬化型樹脂が最も利用しやすいが、発光波長に対
して十分な透過率を有すると同時に、製造プロセスに合
致ものであれば、この限りではない。特に、発光層９の
材料は紫外線照射を嫌うため、熱硬化性等の樹脂の方が
よい場合も考えられる。
の基本的な製法及び構成として、基板６上にアレイ状に
配置された有機ＥＬ素子４とＴＦＴ５とからなる有機Ｅ
Ｌアレイと、有機ＥＬ素子４の発光光を集光するマイク
ロレンズ１３のアレイ１２とは、別体で作製され、これ
を接着層１１を介して光学的・機械的に結合される構成
となっている。有機ＥＬ素子４の製法は公知の一般的な
ものの何れでもよく、各膜７、８、９、１０は、基板６
上に真空蒸着法、キャスト法等によって成膜される。あ
るいは、特開平１０−１２３７７号等に記載されている
ように、インクジェット法により形成することもでき
る。マイクロレンズアレイ１２、接着層１１としては、
紫外線硬化型樹脂が最も利用しやすいが、発光波長に対
して十分な透過率を有すると同時に、製造プロセスに合
致ものであれば、この限りではない。特に、発光層９の
材料は紫外線照射を嫌うため、熱硬化性等の樹脂の方が
よい場合も考えられる。
【００３３】有機ＥＬアレイの作製方法の１例を説明す
ると、基板６上にまずＴＦＴ５を作製する。ＴＦＴ５の
作製方法を種々知られているが。例えば、基板６上に最
初にシリコン酸化膜を堆積し、さらにアモルファスシリ
コン膜を堆積する。次に、このアモルファスシリコン膜
に対してエキシマレーザ光を照射して結晶化を行い、チ
ャネルとなるポリシリコン膜を形成する。このポリシリ
コン膜をパタニング後、ゲート絶縁膜を堆積し、さらに
窒化タンタルからなるゲート電極を形成する。続いて、
ＮチャンネルＴＦＴのソース・ドレイン部をリンのイオ
ン注入により、ＰチャンネルＴＦＴのソース・ドレイン
部をボロンのイオン注入によりそれぞれ形成する。イオ
ン注入した不純物を活性化後、第１層間絶縁膜の堆積、
第１コンタクトホールの開口、ソース線の形成、第２層
間絶縁膜の堆積、第２コンタクトホールの開口、金属画
素電極の形成を順次行い、ＴＦＴ５のアレイが完成する
（例えば、第８回電子ディスプレイ・フォーラム（２０
０１．４．１８）「高分子型有機ＥＬディスプレイ」参
照。）。ここで、この金属画素電極は、有機ＥＬ素子４
の陽極７となるもので、有機ＥＬ素子４の反射層を兼用
するものであり、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｌ、Ｌｉ等の金属薄膜
電極で形成される。
ると、基板６上にまずＴＦＴ５を作製する。ＴＦＴ５の
作製方法を種々知られているが。例えば、基板６上に最
初にシリコン酸化膜を堆積し、さらにアモルファスシリ
コン膜を堆積する。次に、このアモルファスシリコン膜
に対してエキシマレーザ光を照射して結晶化を行い、チ
ャネルとなるポリシリコン膜を形成する。このポリシリ
コン膜をパタニング後、ゲート絶縁膜を堆積し、さらに
窒化タンタルからなるゲート電極を形成する。続いて、
ＮチャンネルＴＦＴのソース・ドレイン部をリンのイオ
ン注入により、ＰチャンネルＴＦＴのソース・ドレイン
部をボロンのイオン注入によりそれぞれ形成する。イオ
ン注入した不純物を活性化後、第１層間絶縁膜の堆積、
第１コンタクトホールの開口、ソース線の形成、第２層
間絶縁膜の堆積、第２コンタクトホールの開口、金属画
素電極の形成を順次行い、ＴＦＴ５のアレイが完成する
（例えば、第８回電子ディスプレイ・フォーラム（２０
０１．４．１８）「高分子型有機ＥＬディスプレイ」参
照。）。ここで、この金属画素電極は、有機ＥＬ素子４
の陽極７となるもので、有機ＥＬ素子４の反射層を兼用
するものであり、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｌ、Ｌｉ等の金属薄膜
電極で形成される。
【００３４】次いで、正孔注入層用のインク組成物をイ
ンクジェット方式プリント装置のヘッドから吐き出し、
各画素の陽極７上にパターニング塗布を行う。塗布後、
溶媒を除去し、熱処理して正孔注入層８を形成する。
ンクジェット方式プリント装置のヘッドから吐き出し、
各画素の陽極７上にパターニング塗布を行う。塗布後、
溶媒を除去し、熱処理して正孔注入層８を形成する。
【００３５】ここで、本発明で言うインクジェット方式
とは、圧電素子等の機械的エネルギーを利用してインク
組成物を吐き出すピエゾジェット方式、ヒータの熱エネ
ルギーを利用して気泡を発生させ、その気泡の生成に基
づいてインク組成物を吐き出すサーマル方式の何れでも
よい（（社）日本写真学会・日本画像学会合同出版委員
会編「ファインイメージングとハードコピー」１９９
９．１．７発行（（株）コロナ社）ｐ．４３）。図３
に、ピエゾジェット方式のヘッドの構成例を示す。イン
クジェット用ヘッド２１は、例えばステンレス製のノズ
ルプレート２２と振動板２３とを備え、両者は仕切部材
（リザーバープレート）２４を介して接合されている。
ノズルプレート２２と振動板２３との間には、仕切部材
２４によって複数のインク室２５と液溜り（不図示）と
が形成されている。インク室２５及び液溜りの内部はイ
ンク組成物で満たされており、インク室２５と液溜りと
は供給口を介して連通している。さらに、ノズルプレー
ト２２には、インク室２５からインク組成物をジェト状
に噴射するためのノズル孔２６が設けられている。一
方、インクジェット用ヘッド２１には、液溜りにインク
組成物を供給するためのインク導入孔が形成されてい
る。また、振動板２３のインク室２５に対向する面と反
対側の面上には、インク室２５の位置に対応させて圧電
素子２８が接合されている。この圧電素子２８は一対の
電極２９の間に位置し、通電すると圧電素子２８が外側
に突出するように撓曲する。これによってインク室２５
の容積が増大する。したがって、インク室２５内に増大
した容積分に相当するインク組成物が液溜りから供給口
を介して流入する。次に、圧電素子２８への通電を解除
すると、圧電素子２８と振動板２３は共に元の形状に戻
る。これにより空間２５も元の容積に戻るためインク室
２５内部のインク組成物の圧力が上昇し、ノズル孔２６
から隔壁９を設けた基板に向けてインク組成物が噴出す
るものである。
とは、圧電素子等の機械的エネルギーを利用してインク
組成物を吐き出すピエゾジェット方式、ヒータの熱エネ
ルギーを利用して気泡を発生させ、その気泡の生成に基
づいてインク組成物を吐き出すサーマル方式の何れでも
よい（（社）日本写真学会・日本画像学会合同出版委員
会編「ファインイメージングとハードコピー」１９９
９．１．７発行（（株）コロナ社）ｐ．４３）。図３
に、ピエゾジェット方式のヘッドの構成例を示す。イン
クジェット用ヘッド２１は、例えばステンレス製のノズ
ルプレート２２と振動板２３とを備え、両者は仕切部材
（リザーバープレート）２４を介して接合されている。
ノズルプレート２２と振動板２３との間には、仕切部材
２４によって複数のインク室２５と液溜り（不図示）と
が形成されている。インク室２５及び液溜りの内部はイ
ンク組成物で満たされており、インク室２５と液溜りと
は供給口を介して連通している。さらに、ノズルプレー
ト２２には、インク室２５からインク組成物をジェト状
に噴射するためのノズル孔２６が設けられている。一
方、インクジェット用ヘッド２１には、液溜りにインク
組成物を供給するためのインク導入孔が形成されてい
る。また、振動板２３のインク室２５に対向する面と反
対側の面上には、インク室２５の位置に対応させて圧電
素子２８が接合されている。この圧電素子２８は一対の
電極２９の間に位置し、通電すると圧電素子２８が外側
に突出するように撓曲する。これによってインク室２５
の容積が増大する。したがって、インク室２５内に増大
した容積分に相当するインク組成物が液溜りから供給口
を介して流入する。次に、圧電素子２８への通電を解除
すると、圧電素子２８と振動板２３は共に元の形状に戻
る。これにより空間２５も元の容積に戻るためインク室
２５内部のインク組成物の圧力が上昇し、ノズル孔２６
から隔壁９を設けた基板に向けてインク組成物が噴出す
るものである。
【００３６】陽極７上に正孔注入層８を形成した後、発
光層用のインク組成物をインクジェット方式プリント装
置のヘッドから吐き出し、各画素の正孔注入層８上にパ
ターニング塗布を行う。塗布後、溶媒を除去し、熱処理
して発光層９を形成する。
光層用のインク組成物をインクジェット方式プリント装
置のヘッドから吐き出し、各画素の正孔注入層８上にパ
ターニング塗布を行う。塗布後、溶媒を除去し、熱処理
して発光層９を形成する。
【００３７】なお、以上の正孔注入層８と発光層９との
順番は反対であってもよい。水分に対してより耐性のあ
る層を表面側（基板６からより離れた側）に配置するよ
うにすることが望ましい。
順番は反対であってもよい。水分に対してより耐性のあ
る層を表面側（基板６からより離れた側）に配置するよ
うにすることが望ましい。
【００３８】また、正孔注入層８と発光層９は、上記の
ようにインクジェット方式でインク組成物を塗布するこ
とにより作成する代わりに、公知のスピンコート法、デ
ィップ法あるいは蒸着法で作成することもできる。特
に、有機ＥＬ材料が高分子有機ＥＬ材料の場合はインク
ジェット方式が適しており、低分子有機ＥＬ材料の場合
は蒸着法が適している。
ようにインクジェット方式でインク組成物を塗布するこ
とにより作成する代わりに、公知のスピンコート法、デ
ィップ法あるいは蒸着法で作成することもできる。特
に、有機ＥＬ材料が高分子有機ＥＬ材料の場合はインク
ジェット方式が適しており、低分子有機ＥＬ材料の場合
は蒸着法が適している。
【００３９】なお、発光層９に用いる材料、正孔注入層
８に用いる材料については、高分子有機ＥＬ材料につい
ては、例えば特開平１０−１２３７７号、低分子有機Ｅ
Ｌ材料については、例えば特開平１１−１３８８９９号
等で公知の種々のものが利用でき、詳細は省く。
８に用いる材料については、高分子有機ＥＬ材料につい
ては、例えば特開平１０−１２３７７号、低分子有機Ｅ
Ｌ材料については、例えば特開平１１−１３８８９９号
等で公知の種々のものが利用でき、詳細は省く。
【００４０】各画素の陽極７上に正孔注入層８と発光層
９を順に形成した後、基板６の表面全面に真空蒸着法に
より有機ＥＬ素子４の陰極１０となる透明電極を被着さ
せる。この透明電極の材料としては、酸化すず膜、ＩＴ
Ｏ膜、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物膜等が
あり、真空蒸着法以外に、フォトリソグラフィ法やスパ
ッタ法、パイロゾル法等が採用できる。
９を順に形成した後、基板６の表面全面に真空蒸着法に
より有機ＥＬ素子４の陰極１０となる透明電極を被着さ
せる。この透明電極の材料としては、酸化すず膜、ＩＴ
Ｏ膜、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物膜等が
あり、真空蒸着法以外に、フォトリソグラフィ法やスパ
ッタ法、パイロゾル法等が採用できる。
【００４１】このようにして作製された有機ＥＬアレイ
の上に、各マイクロレンズ１３が各有機ＥＬ素子４と一
対一で対応するアライメント状態になるようにマイクロ
レンズアレイ１２が接着層１１により光学的・機械的に
結合される。
の上に、各マイクロレンズ１３が各有機ＥＬ素子４と一
対一で対応するアライメント状態になるようにマイクロ
レンズアレイ１２が接着層１１により光学的・機械的に
結合される。
【００４２】なお、図２の構成では、陰極１０側すなわ
ち基板６と反対側に発光光を出射する構成であるため、
基板６は不透明でよく、駆動する回路もＴＦＴ５である
必要はない。一般のシリコンプロセスで形成した駆動回
路上に、有機ＥＬ素子４を積層した構成も可能である。
ち基板６と反対側に発光光を出射する構成であるため、
基板６は不透明でよく、駆動する回路もＴＦＴ５である
必要はない。一般のシリコンプロセスで形成した駆動回
路上に、有機ＥＬ素子４を積層した構成も可能である。
【００４３】ここで、 さて、ここで、マイクロレンズ
アレイ１２について説明する。マイクロレンズアレイ１
２は、その入射側の面１６の各マイクロレンズ１３の光
軸を囲む位置に、円形（図４（ａ））、正方形（図４
（ｂ））あるいはその他の形状のＶ溝１４が形成されて
おり、そのＶ溝１４の内面には光反射膜１５あるいは光
吸収膜１５’が設けられてなるものである。したがっ
て、ＴＦＴ５の制御により陰極１０と陽極７の間に電圧
が印加されて発光層９が発光すると、その発光光は発光
層９から等方的にあらゆる方向に放射されるが、陽極７
が非光透過性であれば、陰極１０を透過して主に図２の
上方に放射される。発光層９の法線に対し角度の小さい
成分はそのままマイクロレンズ１３に到達しそれを通っ
て直接出射され、所定位置Ａに集光する。一方、発光層
９の法線に対し角度の大きい成分は、Ｖ溝１４の斜面に
向かう。このＶ溝１４中に光反射膜１５が設けられてい
る場合は、発光層９の法線に対し角度の大きい発光光は
その光反射膜１５で反射して、マイクロレンズ１３に到
達して出射され、その中の少なくとも一部は、上記の直
接マイクロレンズ１３を通って集光する光の集光位置Ａ
近傍に集光する。したがって、この場合は、発光層９の
法線に対し角度の大きい成分も、アレイ状に集光する光
として利用されるため、高効率で低パワー、長寿命（有
機ＥＬでは最も大きな問題である。）の露光ヘッドとす
ることが可能となる。
アレイ１２について説明する。マイクロレンズアレイ１
２は、その入射側の面１６の各マイクロレンズ１３の光
軸を囲む位置に、円形（図４（ａ））、正方形（図４
（ｂ））あるいはその他の形状のＶ溝１４が形成されて
おり、そのＶ溝１４の内面には光反射膜１５あるいは光
吸収膜１５’が設けられてなるものである。したがっ
て、ＴＦＴ５の制御により陰極１０と陽極７の間に電圧
が印加されて発光層９が発光すると、その発光光は発光
層９から等方的にあらゆる方向に放射されるが、陽極７
が非光透過性であれば、陰極１０を透過して主に図２の
上方に放射される。発光層９の法線に対し角度の小さい
成分はそのままマイクロレンズ１３に到達しそれを通っ
て直接出射され、所定位置Ａに集光する。一方、発光層
９の法線に対し角度の大きい成分は、Ｖ溝１４の斜面に
向かう。このＶ溝１４中に光反射膜１５が設けられてい
る場合は、発光層９の法線に対し角度の大きい発光光は
その光反射膜１５で反射して、マイクロレンズ１３に到
達して出射され、その中の少なくとも一部は、上記の直
接マイクロレンズ１３を通って集光する光の集光位置Ａ
近傍に集光する。したがって、この場合は、発光層９の
法線に対し角度の大きい成分も、アレイ状に集光する光
として利用されるため、高効率で低パワー、長寿命（有
機ＥＬでは最も大きな問題である。）の露光ヘッドとす
ることが可能となる。
【００４４】Ｖ溝１４中に光吸収膜１５’が設けられて
いる場合は、発光層９の法線に対し角度の大きい発光光
はその光吸収膜１５’で吸収されるので、この角度の大
きい成分をより確実に消滅させることができる。
いる場合は、発光層９の法線に対し角度の大きい発光光
はその光吸収膜１５’で吸収されるので、この角度の大
きい成分をより確実に消滅させることができる。
【００４５】したがって、Ｖ溝１４の斜面が光反射性、
光吸収性何れの場合も、Ｖ溝１４がない場合に比べて、
感光体上において隣接する隣の画素からの出射光との重
なりを生じる（クロストークが起こる）度合いが著しく
低減される効果が高い。
光吸収性何れの場合も、Ｖ溝１４がない場合に比べて、
感光体上において隣接する隣の画素からの出射光との重
なりを生じる（クロストークが起こる）度合いが著しく
低減される効果が高い。
【００４６】なお、以上の図２の有機ＥＬ素子４の陰極
１０側から発光光を出射させる構成では、有機ＥＬ素子
４と外界を隔てるのは封止部材（マイクロレンズアレイ
１２）のみとなり薄くできるため、有機ＥＬ素子４から
の取り出し光量の向上等が可能である。また、有機ＥＬ
素子４の発光部とマイクロレンズアレイ１２との距離が
短くでき、画素間のクロストークの防止がより容易にな
る。
１０側から発光光を出射させる構成では、有機ＥＬ素子
４と外界を隔てるのは封止部材（マイクロレンズアレイ
１２）のみとなり薄くできるため、有機ＥＬ素子４から
の取り出し光量の向上等が可能である。また、有機ＥＬ
素子４の発光部とマイクロレンズアレイ１２との距離が
短くでき、画素間のクロストークの防止がより容易にな
る。
【００４７】ところで、Ｖ溝１４の斜面形状としては、
平面あるいは錐面に限定されず、発光層９の法線に対し
角度の大きい成分の光を集光位置Ａにより多く集光させ
るために、図５に断面を示すように、集光性の曲面、例
えば球面、円筒面、二次元又は三次元の楕円面、二次元
又は三次元の放物面等とすることができる。
平面あるいは錐面に限定されず、発光層９の法線に対し
角度の大きい成分の光を集光位置Ａにより多く集光させ
るために、図５に断面を示すように、集光性の曲面、例
えば球面、円筒面、二次元又は三次元の楕円面、二次元
又は三次元の放物面等とすることができる。
【００４８】ここで、上記の裏面１６にＶ溝１４が形成
されたマイクロレンズアレイ１２の作製方法としては、
種々のものが考えるが、例えば、図６（ａ）に示すよう
に、１枚の透明樹脂の表面にマイクロレンズ１３を裏面
にＶ溝１４を形成し、そのＶ溝１４中に光反射膜１５あ
るいは光吸収膜１５’を設けて一体でマイクロレンズア
レイ１２を構成してもよく、また、図６（ｂ）に示すよ
うに、一面にＶ溝１４を形成し、、そのＶ溝１４中に光
反射膜１５あるいは光吸収膜１５’を設けた透明シート
１２ａと、一面にマイクロレンズ１３を形成した透明シ
ート１２ｂとを接着層１７で一体に貼り合わせる方法等
がある。後者のＶ溝１４を設けた透明シート１２ａとマ
イクロレンズ１３を形成した透明シート１２ｂとを貼り
合わせる場合には、有機ＥＬ素子４をアレイ状に形成し
た有機ＥＬアレイに接着層１１により光学的・機械的に
結合するのは、透明シート１２ａと透明シート１２ｂを
貼り合わせて得られるマイクロレンズアレイ１２を接着
層１１で接着するようにしても、まず先にＶ溝１４を設
けた透明シート１２ａを接着層１１で有機ＥＬアレイに
接着後に、その透明シート１２ａ上にマイクロレンズ１
３を形成した透明シート１２ｂを貼り着けるするように
してもよい。
されたマイクロレンズアレイ１２の作製方法としては、
種々のものが考えるが、例えば、図６（ａ）に示すよう
に、１枚の透明樹脂の表面にマイクロレンズ１３を裏面
にＶ溝１４を形成し、そのＶ溝１４中に光反射膜１５あ
るいは光吸収膜１５’を設けて一体でマイクロレンズア
レイ１２を構成してもよく、また、図６（ｂ）に示すよ
うに、一面にＶ溝１４を形成し、、そのＶ溝１４中に光
反射膜１５あるいは光吸収膜１５’を設けた透明シート
１２ａと、一面にマイクロレンズ１３を形成した透明シ
ート１２ｂとを接着層１７で一体に貼り合わせる方法等
がある。後者のＶ溝１４を設けた透明シート１２ａとマ
イクロレンズ１３を形成した透明シート１２ｂとを貼り
合わせる場合には、有機ＥＬ素子４をアレイ状に形成し
た有機ＥＬアレイに接着層１１により光学的・機械的に
結合するのは、透明シート１２ａと透明シート１２ｂを
貼り合わせて得られるマイクロレンズアレイ１２を接着
層１１で接着するようにしても、まず先にＶ溝１４を設
けた透明シート１２ａを接着層１１で有機ＥＬアレイに
接着後に、その透明シート１２ａ上にマイクロレンズ１
３を形成した透明シート１２ｂを貼り着けるするように
してもよい。
【００４９】あるいは、図７に示すように、有機ＥＬ素
子４をアレイ状に形成した有機ＥＬアレイに接着層１１
によりＶ溝１４を設けた透明シート１２ａを接着後に、
マイクロレンズ用の透明インク組成物、例えば紫外線硬
化型樹脂のモノマーをインクジェット方式プリント装置
２０のヘッド２１からその透明シート１２ａ上の有機Ｅ
Ｌ素子４の発光部にアライメントした位置に吐き出して
パターニング塗布を行い、塗布後硬化させて、凸状に盛
り上がる凸マイクロレンズ１３とすることにより、マイ
クロレンズアレイ１２を形成することができる。この場
合のマイクロレンズ１３の凸表面の曲率半径、すなわ
ち、焦点距離は、インク組成物の吐き出し量、マイクロ
レンズ用透明インク組成物の表面張力、透明シート１２
ａの親水性の度合い、インク組成物の硬化の際の収縮量
等で決まるが、レンズ表面精度が高く、金型なしでマイ
クロレンズアレイを容易に作製できるメリットがある。
もちろん、この場合も、透明シート１２ａを有機ＥＬア
レイに接着前に、その透明シート１２ａの一面に同様の
インクジェット方式で凸マイクロレンズ１３を作製して
もよい。
子４をアレイ状に形成した有機ＥＬアレイに接着層１１
によりＶ溝１４を設けた透明シート１２ａを接着後に、
マイクロレンズ用の透明インク組成物、例えば紫外線硬
化型樹脂のモノマーをインクジェット方式プリント装置
２０のヘッド２１からその透明シート１２ａ上の有機Ｅ
Ｌ素子４の発光部にアライメントした位置に吐き出して
パターニング塗布を行い、塗布後硬化させて、凸状に盛
り上がる凸マイクロレンズ１３とすることにより、マイ
クロレンズアレイ１２を形成することができる。この場
合のマイクロレンズ１３の凸表面の曲率半径、すなわ
ち、焦点距離は、インク組成物の吐き出し量、マイクロ
レンズ用透明インク組成物の表面張力、透明シート１２
ａの親水性の度合い、インク組成物の硬化の際の収縮量
等で決まるが、レンズ表面精度が高く、金型なしでマイ
クロレンズアレイを容易に作製できるメリットがある。
もちろん、この場合も、透明シート１２ａを有機ＥＬア
レイに接着前に、その透明シート１２ａの一面に同様の
インクジェット方式で凸マイクロレンズ１３を作製して
もよい。
【００５０】また、マイクロレンズ１３のレンズ面とＶ
溝１４に関しては、上記の何れの場合も、樹脂に対する
型押し又はホットエンボス等の樹脂成形法によって形成
してもよく、また、グレースケールマスクを用いてフォ
トリソグラフィー法により露光とエッチングを組み合わ
せることにより形成してもよく、あるいは、成形型に未
硬化の紫外線硬化型樹脂を滴下し、紫外線を照射して硬
化させ、成形型から剥離する２Ｐ法（例えば、特開平５
−９４１２６号に従来技術として説明されている。）に
より形成してもよい。そして、マイクロレンズ１３に関
しては、Ｖ溝１４を設けた透明シート１２ａを有機ＥＬ
アレイに接着層１１により接着する前にでも、その後に
でも、上記のインクジェット方式を含む何れかの方法で
形成することができる。
溝１４に関しては、上記の何れの場合も、樹脂に対する
型押し又はホットエンボス等の樹脂成形法によって形成
してもよく、また、グレースケールマスクを用いてフォ
トリソグラフィー法により露光とエッチングを組み合わ
せることにより形成してもよく、あるいは、成形型に未
硬化の紫外線硬化型樹脂を滴下し、紫外線を照射して硬
化させ、成形型から剥離する２Ｐ法（例えば、特開平５
−９４１２６号に従来技術として説明されている。）に
より形成してもよい。そして、マイクロレンズ１３に関
しては、Ｖ溝１４を設けた透明シート１２ａを有機ＥＬ
アレイに接着層１１により接着する前にでも、その後に
でも、上記のインクジェット方式を含む何れかの方法で
形成することができる。
【００５１】次に、有機ＥＬ素子４の陽極側から発光光
を出射させる場合の実施例を図８に示す。図８は図２と
同様、図１の直線Ａ−Ａ’に沿うアレイの１画素の断面
図である。
を出射させる場合の実施例を図８に示す。図８は図２と
同様、図１の直線Ａ−Ａ’に沿うアレイの１画素の断面
図である。
【００５２】この有機ＥＬアレイ露光ヘッド１は、ガラ
ス等の透明基板６上に、有機ＥＬ素子４が、図２の場合
と同様にして、ＩＴＯ等略透明な材質からなる陽極７、
正孔注入層８、発光層９、ＩＴＯ又はマグネシウム・銀
の合金や、アルミニウム等からなる電極である陰極１０
として形成され、その上に接着層１８により水分に触れ
ることにより発光層９が劣化するのを防止する封止部材
１９が接着されて、有機ＥＬアレイが作製される。
ス等の透明基板６上に、有機ＥＬ素子４が、図２の場合
と同様にして、ＩＴＯ等略透明な材質からなる陽極７、
正孔注入層８、発光層９、ＩＴＯ又はマグネシウム・銀
の合金や、アルミニウム等からなる電極である陰極１０
として形成され、その上に接着層１８により水分に触れ
ることにより発光層９が劣化するのを防止する封止部材
１９が接着されて、有機ＥＬアレイが作製される。
【００５３】この有機ＥＬ素子４の製法は、図２の場合
と同様に公知の一般的なものの何れでもよく、各膜７、
８、９、１０は、基板６上に真空蒸着法、キャスト法等
によって成膜される。あるいは、特開平１０−１２３７
７号等に記載されているように、インクジェット法によ
り形成することもできる。
と同様に公知の一般的なものの何れでもよく、各膜７、
８、９、１０は、基板６上に真空蒸着法、キャスト法等
によって成膜される。あるいは、特開平１０−１２３７
７号等に記載されているように、インクジェット法によ
り形成することもできる。
【００５４】このようにして作製された有機ＥＬアレイ
の基板６側に、図２の場合と同様に、各マイクロレンズ
１３が各有機ＥＬ素子４と一対一で対応するアライメン
ト状態になるようにマイクロレンズアレイ１２を接着層
１１により光学的・機械的に結合する。
の基板６側に、図２の場合と同様に、各マイクロレンズ
１３が各有機ＥＬ素子４と一対一で対応するアライメン
ト状態になるようにマイクロレンズアレイ１２を接着層
１１により光学的・機械的に結合する。
【００５５】この、図８の構成では、陽極７側すなわち
基板６側に発光光を出射する構成であるため、基板６は
透明でなくてはならないので、駆動する回路はＴＦＴ５
を用いる必要がある。
基板６側に発光光を出射する構成であるため、基板６は
透明でなくてはならないので、駆動する回路はＴＦＴ５
を用いる必要がある。
【００５６】この構成においても、ＴＦＴ５の制御によ
り陰極１０と陽極７の間に電圧が印加されると、発光層
９が発光する。その発光光は発光層９から等方的にあら
ゆる方向に放射されるが、陰極１０が非光透過性であれ
ば、陽極７と基板６を透過して主に図８の下方に放射さ
れる。発光層９の法線に対し角度の小さい成分はそのま
まマイクロレンズ１３に到達しそれを通って直接出射さ
れ、所定位置Ａに集光する。一方、発光層９の法線に対
し角度の大きい成分は、Ｖ溝１４の斜面に向かう。この
Ｖ溝１４中に光反射膜１５が設けられている場合は、発
光層９の法線に対し角度の大きい発光光はその光反射膜
１５で反射して、マイクロレンズ１３に到達して出射さ
れ、その中の少なくとも一部は、上記の直接マイクロレ
ンズ１３を通って集光する光の集光位置Ａ近傍に集光す
る。したがって、この場合は、発光層９の法線に対し角
度の大きい成分も、アレイ状に集光する光として利用さ
れるため、高効率で低パワー、長寿命（有機ＥＬでは最
も大きな問題である。）の露光ヘッドとすることが可能
となる。Ｖ溝１４中に光吸収膜１５’が設けられている
場合は、発光層９の法線に対し角度の大きい発光光はそ
の光吸収膜１５’で吸収されるので、この角度の大きい
成分をより確実に消滅させることができる。したがっ
て、Ｖ溝１４の斜面が光反射性、光吸収性何れの場合
も、Ｖ溝１４がない場合に比べて、感光体上において隣
接する隣の画素からの出射光との重なりを生じる（クロ
ストークが起こる）度合いが著しく低減される効果が得
られる。
り陰極１０と陽極７の間に電圧が印加されると、発光層
９が発光する。その発光光は発光層９から等方的にあら
ゆる方向に放射されるが、陰極１０が非光透過性であれ
ば、陽極７と基板６を透過して主に図８の下方に放射さ
れる。発光層９の法線に対し角度の小さい成分はそのま
まマイクロレンズ１３に到達しそれを通って直接出射さ
れ、所定位置Ａに集光する。一方、発光層９の法線に対
し角度の大きい成分は、Ｖ溝１４の斜面に向かう。この
Ｖ溝１４中に光反射膜１５が設けられている場合は、発
光層９の法線に対し角度の大きい発光光はその光反射膜
１５で反射して、マイクロレンズ１３に到達して出射さ
れ、その中の少なくとも一部は、上記の直接マイクロレ
ンズ１３を通って集光する光の集光位置Ａ近傍に集光す
る。したがって、この場合は、発光層９の法線に対し角
度の大きい成分も、アレイ状に集光する光として利用さ
れるため、高効率で低パワー、長寿命（有機ＥＬでは最
も大きな問題である。）の露光ヘッドとすることが可能
となる。Ｖ溝１４中に光吸収膜１５’が設けられている
場合は、発光層９の法線に対し角度の大きい発光光はそ
の光吸収膜１５’で吸収されるので、この角度の大きい
成分をより確実に消滅させることができる。したがっ
て、Ｖ溝１４の斜面が光反射性、光吸収性何れの場合
も、Ｖ溝１４がない場合に比べて、感光体上において隣
接する隣の画素からの出射光との重なりを生じる（クロ
ストークが起こる）度合いが著しく低減される効果が得
られる。
【００５７】この図８の構成は、従来の有機ＥＬ素子と
同様に透明基板６の陽極７側に発光光を出射する構成の
ため、材料の選定、製造方法が容易である特長を持つ
が、透明基板６を通してマイクロレンズ１３とＶ溝１４
に発光光を入射させるため、有機ＥＬ素子４の発光部と
マイクロレンズ１３との距離が長くなりがちで、有機Ｅ
Ｌ素子４からの取り出し光量が少なくなったり、画素間
のクロストークが増える傾向にある。これらを緩和する
ためには、基板６に十分薄いものを用いるか、有機ＥＬ
アレイを作製した後、基板６を削って薄くするかの何れ
かを行う必要がある。現在、基板６としては０．３ｍｍ
程度の厚さのものが利用可能であり、また、研磨により
０．１ｍｍ程度まで薄くする技術も一般に利用可能にな
りつつある。研磨工程中のハンドリングあるいは製品に
なってからの機械的強度が不足する場合は、枠的な厚み
のある部分を基板６に残す構成によりこれを回避するこ
とができる。
同様に透明基板６の陽極７側に発光光を出射する構成の
ため、材料の選定、製造方法が容易である特長を持つ
が、透明基板６を通してマイクロレンズ１３とＶ溝１４
に発光光を入射させるため、有機ＥＬ素子４の発光部と
マイクロレンズ１３との距離が長くなりがちで、有機Ｅ
Ｌ素子４からの取り出し光量が少なくなったり、画素間
のクロストークが増える傾向にある。これらを緩和する
ためには、基板６に十分薄いものを用いるか、有機ＥＬ
アレイを作製した後、基板６を削って薄くするかの何れ
かを行う必要がある。現在、基板６としては０．３ｍｍ
程度の厚さのものが利用可能であり、また、研磨により
０．１ｍｍ程度まで薄くする技術も一般に利用可能にな
りつつある。研磨工程中のハンドリングあるいは製品に
なってからの機械的強度が不足する場合は、枠的な厚み
のある部分を基板６に残す構成によりこれを回避するこ
とができる。
【００５８】なお、この図８の陽極７側に発光光を出射
する構成の場合も、マイクロレンズ１３とＶ溝１４に関
しては、図２の場合と同様に適用できるので説明は省
く。
する構成の場合も、マイクロレンズ１３とＶ溝１４に関
しては、図２の場合と同様に適用できるので説明は省
く。
【００５９】さて、以上のような本発明によりマイクロ
レンズの光軸を囲む位置に光反射膜あるいは光吸収膜を
設けたＶ溝を配置してクロストークを低減させた有機Ｅ
Ｌアレイ露光ヘッド１は、図９に側面図を示すように、
有機ＥＬアレイ露光ヘッド１から所定距離Ｌだけ離れた
面Ｓ上に、有機ＥＬアレイ露光ヘッド１の画素３配列と
同じ配列パターンで各有機ＥＬ発光部４からの発光光束
を集光する。したがって、有機ＥＬアレイ露光ヘッド１
の長手方向に直交する方向にこの面Ｓを相対的に移動さ
せ、かつ、有機ＥＬアレイ露光ヘッド１の各有機ＥＬ素
子４の発光をＴＦＴ５により制御することで、面Ｓ上に
所定のパターンを記録することができる。
レンズの光軸を囲む位置に光反射膜あるいは光吸収膜を
設けたＶ溝を配置してクロストークを低減させた有機Ｅ
Ｌアレイ露光ヘッド１は、図９に側面図を示すように、
有機ＥＬアレイ露光ヘッド１から所定距離Ｌだけ離れた
面Ｓ上に、有機ＥＬアレイ露光ヘッド１の画素３配列と
同じ配列パターンで各有機ＥＬ発光部４からの発光光束
を集光する。したがって、有機ＥＬアレイ露光ヘッド１
の長手方向に直交する方向にこの面Ｓを相対的に移動さ
せ、かつ、有機ＥＬアレイ露光ヘッド１の各有機ＥＬ素
子４の発光をＴＦＴ５により制御することで、面Ｓ上に
所定のパターンを記録することができる。
【００６０】そこで、本発明においては、上記のような
本発明の有機ＥＬアレイ露光ヘッド１を例えば電子写真
方式のカラー画像形成装置の露光ヘッドに用いることに
する。図１０は、本発明の同様な４個の有機ＥＬアレイ
露光ヘッド１Ｋ、１Ｃ、１Ｍ、１Ｙを対応する同様の４
個の感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙの露
光位置にそれぞれ配置したタンデム方式のカラー画像形
成装置の１例の全体の概略構成を示す正面図である。図
１０に示すように、この画像形成装置は、駆動ローラ５
１と従動ローラ５２とテンションローラ５３とでテンシ
ョンを加えて張架されて、図示矢印方向（反時計方向）
へ循環駆動される中間転写ベルト５０を備え、この中間
転写ベルト５０に対して所定間隔で配置された４個の像
担持体としての外周面に感光層を有する感光体４１Ｋ、
４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが配置される。符号の後に付加
されたＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙはそれぞれ黒、シアン、マゼン
タ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼン
タ、イエロー用の感光体であることを示す。他の部材に
ついても同様である。感光体４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、
４１Ｙは中間転写ベルト５０の駆動と同期して図示矢印
方向（時計方向）へ回転駆動されるが、各感光体４１
（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体４１
（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手
段（コロナ帯電器）４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯
電手段４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）により一様に帯電させら
れた外周面を感光体４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同
期して順次ライン走査する本発明の上記のような有機Ｅ
Ｌアレイ露光ヘッド１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この有機
ＥＬアレイ露光ヘッド１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成され
た静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（ト
ナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、こ
の現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー
像を一次転写対象である中間転写ベルト５０に順次転写
する転写手段としての一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、
Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、
Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニン
グ手段としてのクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、
Ｙ）とを有している。
本発明の有機ＥＬアレイ露光ヘッド１を例えば電子写真
方式のカラー画像形成装置の露光ヘッドに用いることに
する。図１０は、本発明の同様な４個の有機ＥＬアレイ
露光ヘッド１Ｋ、１Ｃ、１Ｍ、１Ｙを対応する同様の４
個の感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙの露
光位置にそれぞれ配置したタンデム方式のカラー画像形
成装置の１例の全体の概略構成を示す正面図である。図
１０に示すように、この画像形成装置は、駆動ローラ５
１と従動ローラ５２とテンションローラ５３とでテンシ
ョンを加えて張架されて、図示矢印方向（反時計方向）
へ循環駆動される中間転写ベルト５０を備え、この中間
転写ベルト５０に対して所定間隔で配置された４個の像
担持体としての外周面に感光層を有する感光体４１Ｋ、
４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが配置される。符号の後に付加
されたＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙはそれぞれ黒、シアン、マゼン
タ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼン
タ、イエロー用の感光体であることを示す。他の部材に
ついても同様である。感光体４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、
４１Ｙは中間転写ベルト５０の駆動と同期して図示矢印
方向（時計方向）へ回転駆動されるが、各感光体４１
（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体４１
（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手
段（コロナ帯電器）４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯
電手段４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）により一様に帯電させら
れた外周面を感光体４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同
期して順次ライン走査する本発明の上記のような有機Ｅ
Ｌアレイ露光ヘッド１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この有機
ＥＬアレイ露光ヘッド１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成され
た静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（ト
ナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、こ
の現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー
像を一次転写対象である中間転写ベルト５０に順次転写
する転写手段としての一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、
Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、
Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニン
グ手段としてのクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、
Ｙ）とを有している。
【００６１】ここで、各有機ＥＬアレイ露光ヘッド１
（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、図９に示すように、マイクロレ
ンズアレイ１２の各有機ＥＬ素子４の発光部に対応した
位置のマイクロレンズ１３が所定の焦点距離を有するよ
うに構成されたものであり、対応する感光体４１（Ｋ、
Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面から所定距離Ｌだけ離れて、有機Ｅ
Ｌアレイ露光ヘッド１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）のアレイ方向
が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うよ
うに設置される。そして、各有機ＥＬアレイ露光ヘッド
１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エナルギーピーク波長と感
光体４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とは略一
致するように設定されている。
（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、図９に示すように、マイクロレ
ンズアレイ１２の各有機ＥＬ素子４の発光部に対応した
位置のマイクロレンズ１３が所定の焦点距離を有するよ
うに構成されたものであり、対応する感光体４１（Ｋ、
Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面から所定距離Ｌだけ離れて、有機Ｅ
Ｌアレイ露光ヘッド１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）のアレイ方向
が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うよ
うに設置される。そして、各有機ＥＬアレイ露光ヘッド
１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エナルギーピーク波長と感
光体４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とは略一
致するように設定されている。
【００６２】現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例え
ば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、
その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬
送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブ
レードで規制し、その現像ローラを感光体４１（Ｋ、
Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触あるいは押厚させて感光体４１
（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着
させることによりトナー像として現像するものである。
ば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、
その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬
送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブ
レードで規制し、その現像ローラを感光体４１（Ｋ、
Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触あるいは押厚させて感光体４１
（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着
させることによりトナー像として現像するものである。
【００６３】このような４色の単色トナー像形成ステー
ションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエロ
ーの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、
Ｙ）に印加される一次転写バイアスにより中間転写ベル
ト５０上に順次一次転写され、中間転写ベルト５０上で
順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二
次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転
写され、定着部である定着ローラ対６１を通ることで記
録媒体Ｐ上に定着され、排紙ローラ対６２によって、装
置上部に形成された排紙トレイ６８上へ排出される。
ションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエロ
ーの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、
Ｙ）に印加される一次転写バイアスにより中間転写ベル
ト５０上に順次一次転写され、中間転写ベルト５０上で
順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二
次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転
写され、定着部である定着ローラ対６１を通ることで記
録媒体Ｐ上に定着され、排紙ローラ対６２によって、装
置上部に形成された排紙トレイ６８上へ排出される。
【００６４】なお、図１０中、６３は多数枚の記録媒体
Ｐが積層保持されている給紙カセット、６４は給紙カセ
ット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアッ
プローラ、６５は二次転写ローラ６６の二次転写部への
記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ
対、６６は中間転写ベルト５０との間で二次転写部を形
成する二次転写手段としての二次転写ローラ、６７は二
次転写後に中間転写ベルト５０の表面に残留しているト
ナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング
ブレードである。
Ｐが積層保持されている給紙カセット、６４は給紙カセ
ット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアッ
プローラ、６５は二次転写ローラ６６の二次転写部への
記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ
対、６６は中間転写ベルト５０との間で二次転写部を形
成する二次転写手段としての二次転写ローラ、６７は二
次転写後に中間転写ベルト５０の表面に残留しているト
ナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング
ブレードである。
【００６５】以上、本発明の有機ＥＬアレイ露光ヘッド
及びそれを用いた画像形成装置を実施例に基づいて説明
したが、本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形
が可能である。例えば、断面がＶ字状の溝１４の代わり
に、Ｕ字状の溝、台形状の溝等を用いてもよい。
及びそれを用いた画像形成装置を実施例に基づいて説明
したが、本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形
が可能である。例えば、断面がＶ字状の溝１４の代わり
に、Ｕ字状の溝、台形状の溝等を用いてもよい。
【００６６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の有機ＥＬアレイ露光ヘッド及びそれを用いた画像形成
装置によると、マイクロレンズアレイ板の入射側の面
に、各有機ＥＬ素子の発光部を囲む溝が設けられ、その
溝内に吸収層が配置されているか、あるいは、各有機Ｅ
Ｌ素子の発光部を囲むＶ溝状の溝が設けられ、その溝内
に反射層が配置されているので、隣接画素間のクロスト
ークが低減され、十分な解像力、コントラストを得るこ
とができる。そのため、有機ＥＬアレイ露光ヘッドの光
利用効率の向上、光量増加、低消費電力化、長寿命化、
高信頼性、歩留まり向上等が達成できる。
の有機ＥＬアレイ露光ヘッド及びそれを用いた画像形成
装置によると、マイクロレンズアレイ板の入射側の面
に、各有機ＥＬ素子の発光部を囲む溝が設けられ、その
溝内に吸収層が配置されているか、あるいは、各有機Ｅ
Ｌ素子の発光部を囲むＶ溝状の溝が設けられ、その溝内
に反射層が配置されているので、隣接画素間のクロスト
ークが低減され、十分な解像力、コントラストを得るこ
とができる。そのため、有機ＥＬアレイ露光ヘッドの光
利用効率の向上、光量増加、低消費電力化、長寿命化、
高信頼性、歩留まり向上等が達成できる。
【図１】本発明に基づく有機ＥＬアレイ露光ヘッドの１
実施例の模式的な平面図である。
実施例の模式的な平面図である。
【図２】有機ＥＬ素子の陰極側から発光光を出射させる
実施例の１画素の断面図である。
実施例の１画素の断面図である。
【図３】インクジェット方式中のピエゾジェット方式の
ヘッドの構成例を示す図である。
ヘッドの構成例を示す図である。
【図４】Ｖ溝の可能な形状を説明するための図である。
【図５】Ｖ溝の可能な斜面形状を説明するための断面図
である。
である。
【図６】マイクロレンズアレイの作製方法の例を示す図
である。
である。
【図７】インクジェット方式でマイクロレンズを形成す
る様子を説明するための図である。
る様子を説明するための図である。
【図８】有機ＥＬ素子の陽極側から発光光を出射させる
実施例の１画素の断面図である。
実施例の１画素の断面図である。
【図９】本発明による有機ＥＬアレイ露光ヘッドの集光
の様子を示す側面図である。
の様子を示す側面図である。
【図１０】本発明の有機ＥＬアレイ露光ヘッドを配置し
たタンデム方式のカラー画像形成装置の１例の全体の概
略構成を示す正面図である。
たタンデム方式のカラー画像形成装置の１例の全体の概
略構成を示す正面図である。
１…有機ＥＬアレイ露光ヘッド
１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）…有機ＥＬアレイ露光ヘッド
２、２’…アレイ
３…発光画素
４…有機ＥＬ素子
５…ＴＦＴ
６…ガラス基板
７…陽極
８…正孔注入層
９…発光層
１０…陰極
１１…接着層
１２…マイクロレンズアレイ
１２ａ、１２ｂ…透明シート
１３…マイクロレンズ
１４…Ｖ溝
１５…光反射膜
１５’…光吸収膜
１６…マイクロレンズアレイの入射側の面
１７…接着層
１８…接着層
１９…封止部材
２０…インクジェット方式プリント装置
２１…ヘッド
２２…ノズルプレート
２３…振動板
２４…仕切部材（リザーバープレート）
２５…インク室
２６…ノズル孔
２８…圧電素子
２９…電極
４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）…感光体ドラム
４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）…帯電手段（コロナ帯電器）
４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）…現像装置
４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）…一次転写ローラ
４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）…クリーニング装置
５０…中間転写ベルト
５１…駆動ローラ
５２…従動ローラ
５３…テンションローラ
６１…定着ローラ対
６２…排紙ローラ対
６３…給紙カセット
６４…ピックアップローラ
６５…ゲートローラ対
６６…二次転写ローラ
６７…クリーニングブレード
６８…排紙トレイ
Ｓ…面
Ｐ…記録媒体
Ａ…集光位置
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｂ 33/10
33/14
Claims (13)
- 【請求項１】 長尺な基板の上に、少なくとも１列の画
素状に配列された有機ＥＬ素子のアレイを備え、前記有
機ＥＬ素子のアレイの発光側に、各有機ＥＬ素子の発光
部に整列してマイクロレンズアレイ板が配置されてお
り、前記マイクロレンズアレイ板の入射側の面に、各有
機ＥＬ素子の発光部を囲む溝が設けられ、その溝内に吸
収層が配置されていることを特徴とする有機ＥＬアレイ
露光ヘッド。 - 【請求項２】 長尺な基板の上に、少なくとも１列の画
素状に配列された有機ＥＬ素子のアレイを備え、前記有
機ＥＬ素子のアレイの発光側に、各有機ＥＬ素子の発光
部に整列してマイクロレンズアレイ板が配置されてお
り、前記マイクロレンズアレイ板の入射側の面に、各有
機ＥＬ素子の発光部を囲むＶ溝状の溝が設けられ、その
溝内に反射層が配置されていることを特徴とする有機Ｅ
Ｌアレイ露光ヘッド。 - 【請求項３】 前記溝内のＶ溝状の反射層の斜面が集光
性の曲面からなることを特徴とする請求項２記載の有機
ＥＬアレイ露光ヘッド。 - 【請求項４】 前記マイクロレンズアレイ板のマイクロ
レンズと前記溝とが一体に構成されていることを特徴と
する１から３の何れか１項記載の有機ＥＬアレイ露光ヘ
ッド。 - 【請求項５】 前記マイクロレンズアレイ板は、マイク
ロレンズアレイが一面に設けられた透明シートと前記溝
が一面に設けられた透明シートとを貼り合わせて構成さ
れていることを特徴とする１から３の何れか１項記載の
有機ＥＬアレイ露光ヘッド。 - 【請求項６】 前記マイクロレンズアレイ板は、前記溝
が一面に設けられた透明シートの他面にインクジェット
法によりマイクロレンズアレイが形成されてなるもので
あることを特徴とする１から３の何れか１項記載の有機
ＥＬアレイ露光ヘッド。 - 【請求項７】 前記有機ＥＬ素子は陽極側に発光光を射
出するものであることを特徴とする請求項１から６の何
れか１項記載の有機ＥＬアレイ露光ヘッド。 - 【請求項８】 前記有機ＥＬ素子は陰極側に発光光を射
出するものであることを特徴とする請求項１から６の何
れか１項記載の有機ＥＬアレイ露光ヘッド。 - 【請求項９】 前記有機ＥＬ素子は高分子型であること
を特徴とする請求項１から８の何れか１項記載の有機Ｅ
Ｌアレイ露光ヘッド。 - 【請求項１０】 前記有機ＥＬ素子は低分子型であるこ
とを特徴とする請求項１から８の何れか１項記載の有機
ＥＬアレイ露光ヘッド。 - 【請求項１１】 前記有機ＥＬ素子は前記基板上に設け
たＴＦＴで発光制御が行われることを特徴とする請求項
１から１０の何れか１項記載の有機ＥＬアレイ露光ヘッ
ド。 - 【請求項１２】 請求項１から１１の何れか１項記載の
有機ＥＬアレイ露光ヘッドを像担持体に像を書き込むた
めの露光ヘッドとして備えていることを特徴とする画像
形成装置。 - 【請求項１３】 前記画像形成装置が、像担持体の周囲
に帯電手段、露光ヘッド、トナー現像手段、転写手段を
配した画像形成ステーションを少なくとも２つ以上設
け、転写媒体が各ステーションを通過することにより、
カラー画像形成を行うタンデム方式のカラー画像形成装
置であることを特徴とする請求項１２記載の画像形成装
置。
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Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005093190A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Stanley Electric Co Ltd | Ｅｌ照明装置 |
| JP2005310749A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Samsung Sdi Co Ltd | 平板表示装置 |
| JP2006043987A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Seiko Epson Corp | 露光ヘッド |
| JP2006205364A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Seiko Epson Corp | 発光装置、その製造方法、画像形成装置、および画像読み取り装置 |
| JP2006236728A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Seiko Epson Corp | 光学ヘッド、および画像形成装置 |
| JP2006310257A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法 |
| JP2006318807A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Hitachi Ltd | 照明装置及びその製造方法 |
| JP2009016206A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Nippon Zeon Co Ltd | 照明装置の製造方法および照明装置 |
| WO2009017033A1 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 発光素子およびその製造方法 |
| US7652683B2 (en) * | 2005-07-26 | 2010-01-26 | Seiko Epson Corporation | Line head and image-forming apparatus |
| US7692379B2 (en) | 2005-02-07 | 2010-04-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display device with reflective structure for improved light emission |
| US7782351B2 (en) | 2004-08-03 | 2010-08-24 | Seiko Epson Corporation | Exposure head |
| JP2011009444A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 発光素子、発光素子アレイ、露光ヘッド、露光装置、および画像形成装置 |
| CN102213930A (zh) * | 2010-04-01 | 2011-10-12 | 株式会社东芝 | 光学头以及图像形成装置 |
| JP2012226906A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Canon Inc | 表示装置及びその製造方法 |
| CN102856349A (zh) * | 2011-06-30 | 2013-01-02 | 佳能株式会社 | 显示装置和配备该显示装置的图像信息处理设备 |
| JP5157896B2 (ja) * | 2006-04-04 | 2013-03-06 | 富士ゼロックス株式会社 | マイクロレンズ付き発光素子アレイ及び光書込みヘッド |
| JP2014004752A (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光源装置及び画像形成装置 |
| JP2014082103A (ja) * | 2012-10-16 | 2014-05-08 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 有機ｅｌ複合光学素子及びその製造方法 |
| CN113921623A (zh) * | 2021-08-28 | 2022-01-11 | 温州大学 | 一种光电探测器的光捕获模块及光电探测器 |
-
2002
- 2002-04-02 JP JP2002099621A patent/JP2003291406A/ja active Pending
Cited By (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005093190A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Stanley Electric Co Ltd | Ｅｌ照明装置 |
| JP2011216492A (ja) * | 2004-04-19 | 2011-10-27 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 平板表示装置の製造方法 |
| JP2005310749A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Samsung Sdi Co Ltd | 平板表示装置 |
| US7733019B2 (en) | 2004-04-19 | 2010-06-08 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display device with a lens sheet having condensing lenses thereon |
| JP2006043987A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Seiko Epson Corp | 露光ヘッド |
| US7782351B2 (en) | 2004-08-03 | 2010-08-24 | Seiko Epson Corporation | Exposure head |
| JP2006205364A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Seiko Epson Corp | 発光装置、その製造方法、画像形成装置、および画像読み取り装置 |
| JP4552665B2 (ja) * | 2005-01-25 | 2010-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置、その製造方法、画像形成装置、および画像読み取り装置 |
| US7692379B2 (en) | 2005-02-07 | 2010-04-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display device with reflective structure for improved light emission |
| JP2006236728A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Seiko Epson Corp | 光学ヘッド、および画像形成装置 |
| JP4678209B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2011-04-27 | セイコーエプソン株式会社 | 光学ヘッド、および画像形成装置 |
| US7772759B2 (en) | 2005-03-31 | 2010-08-10 | Seiko Epson Corporation | Electrooptical apparatus and method of manufacturing electrooptical apparatus |
| JP2006310257A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法 |
| JP4539518B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2010-09-08 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電気光学装置の製造方法 |
| JP2006318807A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Hitachi Ltd | 照明装置及びその製造方法 |
| US7652683B2 (en) * | 2005-07-26 | 2010-01-26 | Seiko Epson Corporation | Line head and image-forming apparatus |
| JP5157896B2 (ja) * | 2006-04-04 | 2013-03-06 | 富士ゼロックス株式会社 | マイクロレンズ付き発光素子アレイ及び光書込みヘッド |
| JP2009016206A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Nippon Zeon Co Ltd | 照明装置の製造方法および照明装置 |
| JP2009037802A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 発光素子およびその製造方法 |
| WO2009017033A1 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 発光素子およびその製造方法 |
| JP2011009444A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 発光素子、発光素子アレイ、露光ヘッド、露光装置、および画像形成装置 |
| CN102213930A (zh) * | 2010-04-01 | 2011-10-12 | 株式会社东芝 | 光学头以及图像形成装置 |
| JP2012226906A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Canon Inc | 表示装置及びその製造方法 |
| CN102856349A (zh) * | 2011-06-30 | 2013-01-02 | 佳能株式会社 | 显示装置和配备该显示装置的图像信息处理设备 |
| JP2013016273A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-24 | Canon Inc | 表示装置およびそれを用いた映像情報処理装置 |
| US8944616B2 (en) | 2011-06-30 | 2015-02-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Display device and image-information processing apparatus equipped with the same |
| JP2014004752A (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光源装置及び画像形成装置 |
| JP2014082103A (ja) * | 2012-10-16 | 2014-05-08 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 有機ｅｌ複合光学素子及びその製造方法 |
| CN113921623A (zh) * | 2021-08-28 | 2022-01-11 | 温州大学 | 一种光电探测器的光捕获模块及光电探测器 |
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