JP4737461B2 - 有機el露光ヘッドの製造方法 - Google Patents
有機el露光ヘッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4737461B2 JP4737461B2 JP2008178950A JP2008178950A JP4737461B2 JP 4737461 B2 JP4737461 B2 JP 4737461B2 JP 2008178950 A JP2008178950 A JP 2008178950A JP 2008178950 A JP2008178950 A JP 2008178950A JP 4737461 B2 JP4737461 B2 JP 4737461B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light emitting
- layer
- organic
- microlens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 63
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 38
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 28
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000003491 array Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 230000009993 protective function Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Description
前記透明層の上に、前記透明層の屈折率より小さい屈折率を有するコート層を塗布するステップと、
前記コート層の屈折率より大きい屈折率を有するボールレンズ又は半球レンズを透明接着剤により前記有機EL発光部に対応した前記コート層上に整列配置するステップと、
を有し、
前記発光部に対応した前記ボールレンズ又は半球レンズに入射する光はその対応する前記ボールレンズ又は半球レンズによってその集光面に集光され、前記発光部から前記第2の層に向けて前記発光部に対応した前記ボールレンズ又は半球レンズに入射する光より大きな角度で出た光線は、前記第1の層と前記第2の層の界面で全反射されて前記ボールレンズ又は半球レンズに入らず、集光面に至らないように構成されることを特徴とする方法である。
2が配置されて発光素子アレイ1又は光シャッター素子アレイ1が構成されている。光シャッター素子アレイ1の場合は、シャッター部2自体は発光しないが、背後に照明光源(バックライト)を配置することにより、シャッター部2は2次光源となるので、以下の説明では、特に断らない限り、光シャッター部2も発光部2と呼び、また、発光素子アレイ1、光シャッター素子アレイ1を共に含めて光変調素子アレイ1と呼ぶ。
透明体3の厚さ:20μm
マイクロレンズ4の形状:半球で、直径80μm
マイクロレンズ4の屈折率:1.95
発光部2のピッチ:80μm
発光部2の大きさ:10μm角
マイクロレンズ4と像担持体5との距離:300μm
このような具体例における光路追跡図を図2に、その光量分布図を図3に示す。図2、図3からこの具体的数値例においては、クロストークがほとんどないことが明らかである。
の各発光部2に対応して整列配置されたマイクロレンズ4との間に空気層6を介在させている。
透明体3の厚さ:50μm
空気層6の厚さ:5μm
マイクロレンズ4の形状:半球で、直径80μm
マイクロレンズ4の屈折率:1.52
発光部2のピッチ:80μm
発光部2の大きさ:10μm角
マイクロレンズ4と像担持体5との距離:300μm
このような具体例における光路追跡図を図6に、その光量分布図を図7に示す。図6、図7からこの具体的数値例においては、クロストークがほとんどないことが明らかである。
6上にインクジェットプリント装置70のヘッド71から吐き出し、各画素の発光層36上にパターニング塗布を行う。塗布後、溶媒を除去し、熱処理して正孔注入層37を形成する。
印写ヘッド101(K、C、M、Y)と、この光印写ヘッド101(K、C、M、Y)で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像(トナー像)とする現像装置44(K、C、M、Y)と、この現像装置44(K、C、M、Y)で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト50に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ45(K、C、M、Y)と、転写された後に感光体41(K、C、M、Y)の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置46(K、C、M、Y)とを有している。
ネルギー密度が上がり、かつ、集光スポット径も小さくできるため、十分な解像力、コントラストを得ることができる。
2…発光部(シャッター部)
3…透明体
4…マイクロレンズ
5…像担持体
6…空気層
7…ボールレンズ
8…フッ素樹脂コート層
9…透明接着剤
10…マイクロレンズ
11…透明基板
12…スペーサ
20…有機ELアレイ
21…ガラス基板
22…有機EL発光部
23…透明部材
24…透明接着剤(紫外線硬化型、熱硬化型)
25…遮光パターン層
29…隔壁(バンク)
31、31’…アレイ
32…画素
33…TFT
34…陰極
35…穴
36…発光層
37…正孔注入層
38…透明電極
41(K、C、M、Y)…感光体ドラム
42(K、C、M、Y)…帯電手段(コロナ帯電器)
44(K、C、M、Y)…現像装置
45(K、C、M、Y)…一次転写ローラ
46(K、C、M、Y)…クリーニング装置
50…中間転写ベルト
51…駆動ローラ
52…従動ローラ
53…テンションローラ
61…定着ローラ対
62…排紙ローラ対
63…給紙カセット
64…ピックアップローラ
65…ゲートローラ対
66…二次転写ローラ
67…クリーニングブレード
68…排紙トレイ
70…インクジェット方式プリント装置
71…ヘッド
72…ノズルプレート
73…振動板
74…仕切部材(リザーバープレート)
75…インク室
76…ノズル孔
78…圧電素子
79…電極
101(K、C、M、Y)…有機ELアレイを用いた光印写ヘッド
S…面
P…記録媒体
Claims (1)
- 有機EL発光部が形成された基板の前記有機EL発光部の形成された面に、光を透過する第1の層を形成するステップと、
前記第1の層の上に、前記第1の層の屈折率より小さい屈折率を有する第2の層を形成するステップと、
前記第2の層の屈折率より大きい屈折率を有するボールレンズ又は半球レンズを透明接着部材により前記有機EL発光部に対応した前記第2の層上に整列配置するステップと、
を有し、
前記発光部に対応した前記ボールレンズ又は半球レンズに入射する光はその対応する前記ボールレンズ又は半球レンズによってその集光面に集光され、前記発光部から前記第2の層に向けて前記発光部に対応した前記ボールレンズ又は半球レンズに入射する光より大きな角度で出た光線は、前記第1の層と前記第2の層の界面で全反射されて前記ボールレンズ又は半球レンズに入らず、集光面に至らないように構成されることを特徴とする有機EL露光ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008178950A JP4737461B2 (ja) | 2008-07-09 | 2008-07-09 | 有機el露光ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008178950A JP4737461B2 (ja) | 2008-07-09 | 2008-07-09 | 有機el露光ヘッドの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002065046A Division JP2003260812A (ja) | 2002-03-11 | 2002-03-11 | 光印写ヘッド及びそれを用いた画像形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009051200A JP2009051200A (ja) | 2009-03-12 |
JP4737461B2 true JP4737461B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=40502708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008178950A Expired - Fee Related JP4737461B2 (ja) | 2008-07-09 | 2008-07-09 | 有機el露光ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4737461B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5480567B2 (ja) | 2009-09-01 | 2014-04-23 | パナソニック株式会社 | 有機発光素子 |
JP5658598B2 (ja) * | 2010-03-04 | 2015-01-28 | 株式会社東芝 | プリントヘッド |
JP2011213085A (ja) * | 2010-04-02 | 2011-10-27 | Fuji Xerox Co Ltd | 露光ヘッド及びその製造方法、カートリッジ、並びに画像形成装置 |
KR20180126634A (ko) | 2010-07-26 | 2018-11-27 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 디바이스 및 조명 디바이스 |
US8652859B2 (en) * | 2011-01-31 | 2014-02-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing light-emitting device and manufacturing apparatus of light-emitting device |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62118302A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-05-29 | Ricoh Co Ltd | 走査光学系のfθレンズ |
JPS62248271A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-29 | Copal Co Ltd | Ledアレイ光源 |
JPH02198877A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-07 | Canon Inc | 画像形成装置 |
JP2000077188A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Canon Inc | 露光装置及び画像形成装置 |
JP2001026139A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-01-30 | Canon Inc | 露光装置及びそれを備える画像形成装置 |
JP2001202827A (ja) * | 1999-11-10 | 2001-07-27 | Matsushita Electric Works Ltd | 透明導電性基板、発光素子、平面発光板、平面発光板の製造方法、平面蛍光ランプ、プラズマディスプレイ |
-
2008
- 2008-07-09 JP JP2008178950A patent/JP4737461B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62118302A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-05-29 | Ricoh Co Ltd | 走査光学系のfθレンズ |
JPS62248271A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-29 | Copal Co Ltd | Ledアレイ光源 |
JPH02198877A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-07 | Canon Inc | 画像形成装置 |
JP2000077188A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Canon Inc | 露光装置及び画像形成装置 |
JP2001026139A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-01-30 | Canon Inc | 露光装置及びそれを備える画像形成装置 |
JP2001202827A (ja) * | 1999-11-10 | 2001-07-27 | Matsushita Electric Works Ltd | 透明導電性基板、発光素子、平面発光板、平面発光板の製造方法、平面蛍光ランプ、プラズマディスプレイ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009051200A (ja) | 2009-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4766218B2 (ja) | 有機elアレイ露光ヘッドとその作製方法及びそれを用いた画像形成装置 | |
EP1352751B1 (en) | Optical writing head such as organic EL array exposure head, method of manufacturing the same, and image forming apparatus using the same | |
JP2003291406A (ja) | 有機elアレイ露光ヘッド及びそれを用いた画像形成装置 | |
US7119826B2 (en) | Oranic EL array exposure head, imaging system incorporating the same, and array-form exposure head fabrication process | |
JP4737461B2 (ja) | 有機el露光ヘッドの製造方法 | |
JP4126531B2 (ja) | 有機elアレイ露光ヘッドを用いた画像形成装置 | |
JP4161166B2 (ja) | 有機elヘッドとその作製方法及びそれを用いた画像形成装置 | |
US7468736B2 (en) | Image forming apparatus | |
JP2003260812A (ja) | 光印写ヘッド及びそれを用いた画像形成装置 | |
KR100726274B1 (ko) | 투명 기판, 전기 광학 장치, 화상 형성 장치, 및 전기 광학장치의 제조 방법 | |
JP4736433B2 (ja) | 発光装置、その製造方法、画像形成装置、および画像読み取り装置 | |
JP4300399B2 (ja) | 有機elアレイ露光ヘッド及びそれを用いた画像形成装置 | |
JP2006110729A (ja) | 画像形成装置 | |
JP4305620B2 (ja) | アレイ状露光ヘッドの製造方法 | |
JP2004195676A (ja) | 有機elアレイ露光ヘッド及びそれを用いた画像形成装置 | |
KR100703022B1 (ko) | 전기 광학 장치의 제조 방법 및 화상 형성 장치 | |
JP2003207965A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2003260811A (ja) | 光印写ヘッド、その作製方法及びそれを用いた画像形成装置 | |
JP2008004563A (ja) | 有機elヘッドとその作製方法及びそれを用いた画像形成装置 | |
JP2005047011A (ja) | 露光ヘッドおよびそれを用いた画像形成装置 | |
JP2003205647A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2005047012A (ja) | 露光ヘッドおよびそれを用いた画像形成装置 | |
JP2003266789A (ja) | 有機elヘッドとその作製方法及びそれを用いた画像形成装置 | |
JP2003195648A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2007276423A (ja) | 露光ヘッド及びその製造方法、受光ヘッド及びその製造方法、並びに電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110201 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110406 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110419 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |