JP5728842B2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5728842B2 JP5728842B2 JP2010168665A JP2010168665A JP5728842B2 JP 5728842 B2 JP5728842 B2 JP 5728842B2 JP 2010168665 A JP2010168665 A JP 2010168665A JP 2010168665 A JP2010168665 A JP 2010168665A JP 5728842 B2 JP5728842 B2 JP 5728842B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- region
- inactive
- substrate
- gate electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 68
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- -1 InN Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Description
20 半導体層
30 ゲート電極
32 フィンガ(ゲート電極)
40 ソース電極
50 ドレイン電極
60 活性領域
62 不活性領域
100 半導体装置
Claims (6)
- 基板と、
前記基板上に並列に設けられた複数のゲート電極と、
前記複数のゲート電極間に交互に設けられたソース電極及びドレイン電極と、
前記ゲート電極の下部に、前記ゲート電極の長手方向である第1方向に沿って交互に複数形成された活性領域及び不活性領域と、を備え、
1つの前記ゲート電極に沿って形成された前記不活性領域の前記第1方向の長さの合計は、前記複数のゲート電極の外側から内側に向かって大きくなり、
前記複数のゲート電極の並ぶ方向において、前記活性領域及び前記不活性領域は互い違いに配置され、
1つの前記ゲート電極に沿って形成された前記不活性領域の数は、前記複数のゲート電極の外側から内側に向かって1つずつ大きくなることを特徴とする半導体装置。 - 1つの前記ゲート電極に沿って形成された個々の前記不活性領域の前記第1方向の長さは、前記複数のゲート電極の外側から内側に向かって大きくなることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記複数のゲート電極間の距離は等しいことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記不活性領域は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の領域に形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記不活性領域の前記第1方向の長さは、前記基板の厚みの1倍〜2倍であることを特徴とする請求項1〜3に記載の半導体装置。
- 前記活性領域はGaAs系半導体層または窒化物半導体層を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010168665A JP5728842B2 (ja) | 2010-07-27 | 2010-07-27 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010168665A JP5728842B2 (ja) | 2010-07-27 | 2010-07-27 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012028707A JP2012028707A (ja) | 2012-02-09 |
JP5728842B2 true JP5728842B2 (ja) | 2015-06-03 |
Family
ID=45781251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010168665A Active JP5728842B2 (ja) | 2010-07-27 | 2010-07-27 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5728842B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6054620B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-12-27 | トランスフォーム・ジャパン株式会社 | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
JP6111821B2 (ja) * | 2013-04-25 | 2017-04-12 | 三菱電機株式会社 | 電界効果トランジスタ |
US10199470B2 (en) * | 2016-11-08 | 2019-02-05 | Raytheon Company | Field effect transistor having staggered field effect transistor cells |
JP6885053B2 (ja) * | 2016-12-20 | 2021-06-09 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5853862A (ja) * | 1981-09-25 | 1983-03-30 | Toshiba Corp | 電界効果型半導体装置 |
JPH08213409A (ja) * | 1995-02-06 | 1996-08-20 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP5114839B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2013-01-09 | 日本電気株式会社 | 電界効果トランジスタ |
JP4965982B2 (ja) * | 2006-12-04 | 2012-07-04 | 株式会社東芝 | 電界効果トランジスタ |
-
2010
- 2010-07-27 JP JP2010168665A patent/JP5728842B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012028707A (ja) | 2012-02-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8183595B2 (en) | Normally off III-nitride semiconductor device having a programmable gate | |
JP4041075B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6220188B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPWO2013008422A1 (ja) | 窒化物半導体装置およびその製造方法 | |
JP2011060912A (ja) | 半導体装置 | |
JP5728842B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2011091406A (ja) | 横型hemtおよび横型hemtの製造方法 | |
JP2011124282A (ja) | 電界効果トランジスタ | |
JP5558196B2 (ja) | Hfet | |
US9236438B2 (en) | Semiconductor device | |
TW201838186A (zh) | 高電子遷移率電晶體 | |
US20150325680A1 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
US10672876B2 (en) | Field-effect transistor having a bypass electrode connected to the gate electrode connection section | |
US9397218B2 (en) | Method and apparatus for mitigating effects of parasitic capacitance in semiconductor devices | |
JP5649357B2 (ja) | 半導体装置及び製造方法 | |
KR20080010884A (ko) | 반도체 소자 및 그의 형성 방법 | |
US20180130873A1 (en) | Semiconductor device | |
WO2019097813A1 (ja) | 窒化物半導体装置 | |
JP2012028441A (ja) | 半導体装置 | |
JP2008244295A (ja) | 半導体装置 | |
JP2010186943A (ja) | 窒化物半導体装置 | |
US8987838B2 (en) | Field-effect transistor | |
JP2009530857A (ja) | Iii族窒化物パワー半導体デバイス | |
JP2013123023A (ja) | 窒化物半導体素子及びその製造方法 | |
JP2019047055A (ja) | トランジスタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130718 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140812 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140814 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141009 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150310 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150323 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5728842 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |