JP5724742B2 - Mg2Si微粒子及びその製造方法 - Google Patents
Mg2Si微粒子及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5724742B2 JP5724742B2 JP2011175014A JP2011175014A JP5724742B2 JP 5724742 B2 JP5724742 B2 JP 5724742B2 JP 2011175014 A JP2011175014 A JP 2011175014A JP 2011175014 A JP2011175014 A JP 2011175014A JP 5724742 B2 JP5724742 B2 JP 5724742B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ratio
- fine particles
- powder
- particles
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
Description
例えば、非特許文献1には、2:1の割合でMgとSiとを混合粉砕し、混合粉砕物を成形し、成形体にマイクロ波を照射するMg2Si粉末の製造方法が開示されている。
同文献には、このような方法により、アンチ蛍石型のMg2Siと少量のSiとを含む粉末が得られると記載されている。
なお、同文献の図2には、125〜200Wのマイクロ波を照射した試料B1のX線回折パターンが記載されている。同図には、Mg2Siの回折ピークに加えて、相対的に大きなSiの回折ピークが認められており、Mg2Siの最強線(2θ=〜40°)の強度に対するSiの最強線(2θ=〜28°)の強度の比は、12.0%と見積もられる。
(1)NaSi粉末の成形体及びMg粉末をBNルツボに入れ、
(2)BNルツボをステンレス鋼チューブに入れて密封し、973K(>Mgの融点)で24h加熱し、
(3)加熱後に残留しているNaを2−プロパノール及びエタノールで除去する
Mg2Siの製造方法が開示されている。
同文献には、
(a)加熱により、表面にMg金属が付着し、内部がNaで満たされたバルク試料が得られる点、
(b)バルク試料をアルコールと反応させると、中空構造が得られる点、及び、
(c)中空構造の外表面は、Mg及びMg2Siに加えて、MgOのXRDピークが認められるのに対し、中空構造の内面は、Mg2Siの単相である点、
が記載されている。
(1)Fe粉末、Si粉末及びNa片をBNルツボに入れ、
(2)BNルツボをステンレス鋼チューブに入れて密封し、673〜1073Kで1.5〜24時間加熱し、
(3)生成物に含まれるNaやNa−Si化合物を2−プロパノール、エタノール混合溶液で除去する
β−FeSi2粉末の製造方法が開示されている。
(1)無水NiCl2とSiCl4とNaとをステンレス鋼製オートクレーブに入れ、
(2)オートクレーブを密封した後、600℃で16h保持し、
(3)生成物を無水アルコールに浸漬した後、析出物をろ過し、蒸留水、希塩酸及び無水アルコールで洗浄する
δ−Ni2Siナノワイヤーの製造方法が開示されている。
また、MgとSiとをメカニカルアロイングにより合金化する方法も考えられるが、メカニカルアロイング法により単相のMg2Siを得るのは困難である。
Na−Si系化合物及びMgのハロゲン化物、並びに、必要に応じてNaを、Mg/Si比(モル比)が2以下となり、かつ、Na/Si比(モル比)が1以上9以下となるように配合する配合工程と、
前記配合工程で得られた配合物を、0.7Tmin以上Tmin未満の温度(但し、Tminは、前記Na−Si系化合物の融点、共晶点、及び分解温度の内の最も低い温度)で加熱し、得られた反応物を冷却する反応工程と、
前記反応物を溶媒で洗浄し、未反応原料及び副生成物を除去する洗浄工程と
を備えていることを要旨とする。
本発明に係る方法により得られ、
比表面積が30m2/g以上であり、
Mg2SiのXRD最強線強度(IMg2Si)に対するSiのXRD最強線強度(ISi)の比(=ISi×100/IMg2Si)が5.0%以下である
ことを要旨とする。
(1)生成反応の際、Na−Si系化合物中のNaとMgのハロゲン化物中のMgとが交換することでNa−Si系化合物が微細化され、かつ、SiとMgが反応することでMg2Si微粒子が生成するため、及び、
(2)Mg2Siを粒成長させる融液が発生しない条件下で合成されるため、
と考えられる。
[1. Mg2Si微粒子]
本発明に係るMg2Si微粒子は、
本発明に係る方法により得られ、
比表面積が30m2/g以上であり、
Mg2SiのXRD最強線強度(IMg2Si)に対するSiのXRD最強線強度(ISi)の比(=ISi×100/IMg2Si)が5.0%以下である
ことを特徴とする。
本発明において、「比表面積」とは、BET法により算出される値をいう。
本発明に係るMg2Si微粒子の比表面積は、30m2/g以上である。比表面積が高いMg2Si微粒子は、後述する方法により得られる。しかも、このような高比表面積を得るために、粉砕を必要としない。製造条件を最適化すると、比表面積が35m2/g以上であるMg2Si微粒子が得られる。
本発明において、「最強線強度比」とは、Mg2SiのXRD最強線強度(IMg2Si)に対するSiのXRD最強線強度(ISi)の比(=ISi×100/IMg2Si(%))をいう。
本発明に係るMg2Si微粒子の最強線強度比は、5.0%以下である。最強線強度比が小さいMg2Si微粒子は、後述する方法により得られる。製造条件を最適化すると、最強線強度比が4.0%以下、あるいは、3.0%以下であるMg2Si微粒子が得られる。
本発明において、「粒径」とは、SEM像から測定される1次粒子の最大長さをいう。
「平均粒径」とは、無作為に選んだ50個以上の1次粒子の粒径の平均値をいう。
本発明に係るMg2Si微粒子は、平均粒径が200nm以下である。Mg2Si微粒子は、大部分が粒径200nm以下の微粒子であるが、一部、粒径が数百nmの1次粒子も含まれている。また、合成直後のMg2Si微粒子は、このような1次粒子の凝集体又は集合体になっている。
なお、微粒子を完全な球と仮定し、比表面積から球の直径(平均粒径)を算出することができる。本発明に係るMg2Si微粒子の場合、比表面積から算出される平均粒径は、100nm未満となる。
本発明において、「Mg/Si比」とは、Mg2Si微粒子全体に含まれるSiに対するMgの比(モル比)をいう。Mg/Si比は、無作為に選んだ10箇所以上の地点においてSEM−EDXにより元素分析を行い、各地点におけるMg/Si比の平均値を算出することにより得られる。
後述する方法を用いると、Mg/Si比が1.90〜2.10であるMg2Si微粒子が得られる。
本発明に係るMg2Si微粒子は、Mg2Si相のみからなるのが好ましいが、不純物が含まれていても良い。但し、Mg2Si微粒子の特性を低下させる不純物は、少ないほど良い。
不純物としては、例えば、
(1)出発原料の残留物、
(2)Si、MgO、Mg(OH)2などの副生成物、
などがある。
後述する方法を用いると、不純物量が5at%以下であるMg2Si微粒子が得られる。製造条件を最適化すると、不純物量が4at%以下、あるいは、3at%以下であるMg2Si微粒子が得られる。
本発明に係るMg2Si微粒子の製造方法は、配合工程と、反応工程と、洗浄工程とを備えている。
配合工程は、Na−Si系化合物及びMgのハロゲン化物、並びに、必要に応じてNaを、Mg/Si比(モル比)が2以下となり、かつ、Na/Si比(モル比)が1以上9以下となるように配合する工程である。
「Na−Si系化合物」とは、NaとSiから構成される化合物をいう。Na−Si系化合物としては、NaSi、Naクラスレート(Na8Si46、NaxSi136(1.5<x<24))などがある。
Mgのハロゲン化物としては、MgCl2、MgBr2、MgI2などがある。特に、MgCl2は、溶媒に対する溶解性が高く、副生成物(NaCl)も溶媒に対する溶解性が高いので、原料として好適である。
Naは、Mgのハロゲン化物からMgを生成させるための還元剤として機能する。Na−Si系化合物に含まれるNaもまた、還元剤として機能するので、Naは、必要に応じて添加することができる。Na−Si系化合物とMgのハロゲン化物だけで後述するNa/Si比を満足させることができる場合には、Naの添加を省略することができる。
原料中のMg/Si比(モル比)は、合成された微粒子に含まれる不純物量に影響を与える。
Mgのハロゲン化物は、ある種の溶媒に溶解する。そのため、Mg/Si比が化学量論比を超えた場合であっても、過剰に加えたMgのハロゲン化物がそのままの形で残留しているときには、反応物からMgのハロゲン化物を比較的容易に除去することができる。しかしながら、過剰のMgは、難溶性のMgOやMg(OH)2となって残留する場合がある。
一方、Na−Si系化合物もまた、ある種の溶媒に溶解する。また、Mg/Si比が化学量論比より小さい場合であっても、Na/Si比が後述の範囲にある場合には、過剰のSiが不純物相として残留するおそれは少ない。
従って、高純度のMg2Siを合成するためには、Mg/Si比は、2以下とする必要がある。
一方、Mg/Si比が小さくなりすぎると、Mg2Siの収量が低下する。従って、Mg/Si比は、1.8以上が好ましい。Mg/Si比は、さらに好ましくは、1.9以上である。
Na/Si比(モル比)は、合成された微粒子に含まれる不純物量に影響を与える。
Naに対してSiが過剰である場合、反応物中にSiが残留する場合がある。従って、Na/Si比は、1以上である必要がある。Na/Si比は、さらに好ましくは、1.5以上である。
一方、Siに対してNaが過剰であっても、Naを含む不純物は、比較的容易に除去することができる。しかしながら、Naが大過剰になると、Mgを含む不純物量が増大する。これは、Naが大過剰になると反応中に液相が生成し、Siと反応できなかったMgが冷却、洗浄の過程で酸化又は水酸化されるためと考えられる。従って、Na/Si比は、9以下である必要がある。Na/Si比は、さらに好ましくは、8以下である。
反応工程は、前記配合工程で得られた配合物を、0.7Tmin以上Tmin未満の温度(但し、Tminは、前記Na−Si系化合物の融点、共晶点、及び分解温度の内の最も低い温度)で加熱し、得られた反応物を冷却する工程である。
一方、加熱温度が高すぎると、液相が生成し、Mg2Si粒子が粗大化する。従って、加熱温度は、Tmin未満である必要がある。加熱温度は、さらに好ましくは0.97Tmin以下である。
加熱時間は、特に限定されるものではなく、加熱温度に応じて最適な時間を選択する。一般に、加熱温度が高くなるほど、短時間で反応を完了させることができる。反応終了後、反応物を冷却する。
洗浄工程は、前記反応物を溶媒で洗浄し、未反応原料及び副生成物を除去する工程である。
出発原料であるNa−Si系化合物、Mgのハロゲン化物及びNaは、いずれも溶媒に可溶である。また、反応が理想的に進行した場合、副生成物は、可溶性のハロゲン塩(NaClなど)のみからなる。そのため、得られた反応物を適当な溶媒で洗浄すれば、本発明に係るMg2Si微粒子が得られる。
溶媒が未反応原料及び副生成物のすべてを溶解可能である場合、洗浄は、一段階で行うことができる。一方、溶媒が未反応原料又は副生成物の一部のみを溶解可能である場合、洗浄は、各成分を溶解可能な溶媒を用いて複数段階で行うか、あるいは、混合溶媒を用いて一段階で行うのが好ましい。
Mg2Si微粒子を合成する方法としては、例えば、非特許文献1に記載されているように、MgとSiとを混合粉砕し、混合粉砕物を成形し、成形体にマイクロ波を照射する方法が知られている。
しかしながら、同文献に記載の方法は、基本的には固相反応により目的とする相を生成させる方法である。そのため、マイクロ波照射が不十分であるときには、生成した一次粒子の粒成長や凝集は生じにくいが、同文献の図2に示されているように、未反応のSiが多量(最強線強度比で12%に相当する)に残留する。
一方、これを避けるためにマイクロ波照射時間を長くすると、原料間の固相反応が進行すると同時に、生成した粒子の粒成長や凝集が著しく進行する。さらに、過剰のマイクロ波照射は、生成したMg2Siの熱分解及び分解生成物であるMgの蒸発を引き起こし(同文献の第11077頁右欄第4行〜8行参照)、粉末中のSi量を増大させる原因となる。
そのため、同文献に記載の方法では、高純度と高比表面積とを兼ね備えたMg2Si粒子を合成するのは困難である。
これは、
(1)生成反応の際、Na−Si系化合物中のNaとMgのハロゲン化物中のMgとが交換することでNa−Si系化合物が微細化され、かつ、SiとMgが反応することでMg2Si微粒子が生成するため、及び、
(2)Mg2Siを粒成長させる融液が発生しない条件下で合成されるため、
と考えられる。
[1. 試料の作製]
図1に示す手順に従い、粉末を合成した。すなわち、まず、所定量のNaSi粉末、MgCl2粉末、及びNaを秤量した。Mg/Si比は、2.0とした。また、Na/Si比は、4又は15とした(表1参照)。本実施例の場合、Tminは、680℃(NaSiの共晶点)である。
図2に示すように、原料をBNルツボに入れ、さらにBNルツボをSUS容器に入れた。SUS容器内をAr雰囲気とした後、SUS容器を密封した。このSUS容器を所定温度で加熱した。加熱条件は、450℃(0.66Tmin)×5h、550℃(0.81Tmin)×5h、又は、650℃(0.96Tmin)×5hとした。
室温に冷却後、BNルツボ内の加熱物を取り出し、乳鉢で粉砕した。粉砕物をアルコールに分散させ、攪拌することで洗浄した。さらに、粉末を分離・回収し、乾燥させた。
[2.1. X線回折]
合成された粉末についてX線回折を行い、生成相を同定した。
[2.2. SEM観察及びSEM−EDX分析]
合成された粉末について、SEM観察を行った。また、SEM−EDX分析は、加速電圧:10keV、スポット径:約1μmの条件下で行った。
[2.3. 比表面積]
BET法により比表面積を測定した。
[3.1. X線回折]
図3に、実施例1〜2及び比較例1で得られた粉末のXRDパターンを示す。なお、図3中、「×」は、BN(るつぼが割れて試料に紛れ込んだもの)を表す。
いずれの条件においても、Mg2Siが主相と考えられる粉末が合成された。仕込み量が同じ場合、比較例1(加熱温度:450℃)ではSiを含有しているのに対し、実施例1(加熱温度:550℃)及び実施例2(加熱温度:650℃)では、XRDパターン中においてほぼ不純物が観測されなかった(図3参照)。ここで、比較例1において、ISi×100/IMg2Si=5.6%と算出された。
図4に、実施例2で得られた粉末のSEM像(2視野)を示す。図4より、得られた粉末は、粒径200nm以下の多数の粒子が凝集、又は集合した粉末であることがわかった。一部、数百nm以上の粒子も含んでいるが、平均粒径は、少なくとも200nm以下であると考えられる。
観察視野内でEDX分析を行ったところ、図4(a)ではMg/Si比=1.95、図4(b)ではMg/Si比=2.04であった。さらに、実施例2で得られた粉末の比表面積は、38m2/gであった。
これにより、比較例2においては、MgO、Mg(OH)2などの不純物が含有されているものと推定される。また、Mg/Si比〜3より、含有不純物量は5%より多いことは明らかであると考えられる。
未反応の原料(Na、NaSi、MgCl2)や副生成物(NaCl)は、いずれも溶媒に可溶であるので、反応生成物を溶媒で洗浄することにより、Mg2Si微粒子を得ることができる。
比較例1、実施例1〜2で示されるように、適切な加熱条件(温度など)を選択すれば、不純物のないMg2Si粒子が得られる。また、同じ温度において実施例2と比較例2で不純物量が大きく異なるのは、図5に示されるように、後者は前者よりも液相が多く存在する条件であるために、Siと反応できなかったMgが、冷却、洗浄の過程で酸化又は水酸化されて、アモルファスの不純物として残存したものと推察される。
Claims (3)
- Na−Si系化合物及びMgのハロゲン化物、並びに、必要に応じてNaを、Mg/Si比(モル比)が2以下となり、かつ、Na/Si比(モル比)が1以上9以下となるように配合する配合工程と、
前記配合工程で得られた配合物を、0.7Tmin以上Tmin未満の温度(但し、Tminは、前記Na−Si系化合物の融点、共晶点、及び分解温度の内の最も低い温度)で加熱し、得られた反応物を冷却する反応工程と、
前記反応物を溶媒で洗浄し、未反応原料及び副生成物を除去する洗浄工程と
を備えたMg2Si微粒子の製造方法。 - 前記Na−Si系化合物は、NaSiであり、
前記Mgのハロゲン化物は、MgCl2である
請求項1に記載のMg2Si微粒子の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の方法により得られ、
比表面積が30m2/g以上であり、
Mg2SiのXRD最強線強度(IMg2Si)に対するSiのXRD最強線強度(ISi)の比(=ISi×100/IMg2Si)が5.0%以下である
Mg2Si微粒子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011175014A JP5724742B2 (ja) | 2011-08-10 | 2011-08-10 | Mg2Si微粒子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011175014A JP5724742B2 (ja) | 2011-08-10 | 2011-08-10 | Mg2Si微粒子及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013035735A JP2013035735A (ja) | 2013-02-21 |
JP5724742B2 true JP5724742B2 (ja) | 2015-05-27 |
Family
ID=47885703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011175014A Active JP5724742B2 (ja) | 2011-08-10 | 2011-08-10 | Mg2Si微粒子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5724742B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6149620B2 (ja) * | 2013-09-05 | 2017-06-21 | 株式会社豊田中央研究所 | 複合シリサイド粉末及びその製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3882047B2 (ja) * | 2003-10-06 | 2007-02-14 | 国立大学法人静岡大学 | マグネシウムシリサイドの合成方法 |
JP5142208B2 (ja) * | 2007-07-20 | 2013-02-13 | 国立大学法人東北大学 | 金属ケイ素化物の製造方法 |
CN102804433B (zh) * | 2009-06-30 | 2017-08-25 | 学校法人东京理科大学 | 镁‑硅复合材料及其制造方法、以及采用该复合材料的热电转换材料、热电转换元件及热电转换模块 |
-
2011
- 2011-08-10 JP JP2011175014A patent/JP5724742B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013035735A (ja) | 2013-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5387613B2 (ja) | 遷移金属シリサイド−Si複合粉末及びその製造方法、並びに、遷移金属シリサイド−Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法 | |
Zhao et al. | Understanding the growth of black phosphorus crystals | |
Chen et al. | Selenium nanowires and nanotubes synthesized via a facile template-free solution method | |
Yuan et al. | One-step solvothermal synthesis of nickel selenide series: composition and morphology control | |
Morito et al. | Low-temperature purification of silicon by dissolution and solution growth in sodium solvent | |
CN109941998B (zh) | 一种相分离去合金化提纯硅的方法 | |
JP6186296B2 (ja) | 結晶化硫化物系固体電解質の製造方法 | |
JP2010208876A5 (ja) | ||
Wang et al. | Heterogeneous nucleation of Mg2Si on Sr11Sb10 nucleus in Mg–x (3.5, 5 wt.%) Si–1Al alloys | |
Mo et al. | Solid-state reaction synthesis of boron carbonitride nanotubes | |
Kamali et al. | Ultra-fast shock-wave combustion synthesis of nanostructured silicon from sand with excellent Li storage performance | |
JP5724742B2 (ja) | Mg2Si微粒子及びその製造方法 | |
JP5194404B2 (ja) | 珪素の製造方法 | |
JP5313858B2 (ja) | MnSix粉末及びその製造方法、並びに、MnSix粉末製造用CaSiy粉末及びその製造方法 | |
JP7367928B2 (ja) | 熱電変換材料およびその製造方法 | |
JP2015145512A (ja) | 金属間化合物粒子の製造方法および金属間化合物粒子 | |
JP6244831B2 (ja) | Ni−Si合金微粒子及びその製造方法 | |
Iwadate et al. | Magnesiothermic reduction of silicon dioxide to obtain fine silicon powder in molten salt media: analysis of reduction mechanism | |
JP5176119B2 (ja) | 遷移金属の炭化物および/または複合炭化物の製造方法 | |
JP4888777B2 (ja) | 水素貯蔵材料の製造方法 | |
JP2018119182A (ja) | CaSi2の製造方法 | |
JP6221752B2 (ja) | Ca欠損カルシウムシリサイド粉末及びその製造方法 | |
Qin et al. | Structural, microstructural and thermal characterization of layer-structured CaSi2 produced by clean combustion synthesis method | |
JP6149620B2 (ja) | 複合シリサイド粉末及びその製造方法 | |
Yang et al. | Preparation of Mn5Si3 nanocages and nanotubes by molten salt flux |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140722 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150130 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150303 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150316 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5724742 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |