JP5712627B2 - 指紋検出装置及び指紋検出装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図2は、第1実施形態に係る指紋検出装置の概略図を示している。なお、図2(A)は、指紋検出装置10の断面図を示し、図2(B)は、指紋検出装置10の外観図を示している。
次に、図3を用いて、第1実施形態に係る下地膜16の光学特性について説明する。図3は、第1実施形態に係る下地膜の光学特性を示している。横軸は波長(nm)、縦軸は透過率(%)を示している。
次に、図4を用いて、第1実施形態に係る着色膜17の膜構成例について説明する。図4は、第1実施形態に係る着色膜の膜構成の一例を示している。
次に、図6を用いて、第1実施形態に係る指紋検出装置10の変形例について説明する。図6は、第1実施形態に係る指紋検出装置の変形例を示している。
次に、上述した第1実施形態に係る指紋検出装置10の製造方法について説明する。図7は、第1実施形態に係る製造方法を説明するためのフローチャートである。まず、第1実施形態の製造方法では、基板11にダイボンド樹脂等を用いてイメージセンサ13を搭載する(S10)。
次に、指紋検出装置の第2実施形態について説明する。図8は、第2実施形態に係る指紋検出装置の概略図を示している。なお、図8(A)は、指紋検出装置30の断面図を示し、図8(B)は、指紋検出装置30の外観図を示している。第1実施形態と同一部分については同一符号を付し、その説明を省略する。
次に、図9を用いて、第2実施形態で用いられるオーバーモールド部材31の光学特性について説明する。図9は、第2実施形態に係るオーバーモールド部材の光学特性を示している。横軸は波長(nm)、縦軸は透過率(%)を示している。
図10は、第2実施形態に係る遮光部材を説明するための図である。なお、図10(A)は、指紋検出装置30の側面図であり、イメージガイド14に遮光部材32が設けられていない状態を示している。また、図10(B)は、遮光部材32が設けられたイメージガイド14の斜面図を示している。
次に、図11を用いて、遮光部材32の膜厚に対応した光学特性について説明する。図11は、第2実施形態に係る遮光部材の膜厚に対応した光学特性を示している。横軸は波長(nm)、縦軸は透過率(%)を示している。
次に、上述した第2実施形態に係る指紋検出装置30の製造方法について説明する。図12は、第2実施形態に係る製造方法を説明するためのフローチャートである。なお、第2実施形態に係る製造方法のうちS20〜S21等の第1実施形態に係る製造方法と同様の処理については、説明を省略する。
11,110 基板
12,120 発光部
13,130 イメージセンサ
14,140 イメージガイド
15,150 モールド部材
15−1 表面
16 下地膜
17 着色膜
18 保護膜
19,160 指紋検出面
21 ハードコート膜
31 オーバーモールド部材
32 遮光部材
Claims (5)
- 検出対象に照射する光を発光する発光部と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサとを備える基板を有し、前記散乱光を前記イメージセンサにガイドするイメージガイドを前記イメージセンサ上に配置し、可視光を遮断し、赤外光を透過するオーバーモールド部材により、前記発光部、前記イメージセンサ、及び前記イメージガイドを覆うように一体形成された指紋検出装置であって、
前記イメージガイドは、前記散乱光以外の前記発光部から照射される光を遮断するための遮光部材を備え、
前記発光部及び前記イメージガイドの上部に設けられ、前記可視光の特定波長及び赤外光を透過して前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面が着色されているように見せるための着色膜と、
前記着色膜上に設けられ、前記着色膜を保護する保護膜とを備え、
前記指紋検出面は、前記発光部の発光面、及び前記イメージガイドの前記散乱光を受光する受光面を覆う前記オーバーモールド部材、及び前記着色膜を介して、前記保護膜上に形成され、
前記発光部と、前記遮光部材が備えられた前記イメージガイドとの間に、前記オーバーモールド部材が充填されることを特徴とする指紋検出装置。 - 前記着色膜は、
透過特性の異なる複数の誘電体多層膜により形成されることを特徴とする請求項1に記載の指紋検出装置。 - 前記着色膜は、
酸化シリコンからなる誘電層と酸化チタンからなる誘電層とを交互に積層した誘電体多層膜により形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の指紋検出装置。 - 前記着色膜は、
前記指紋検出面が銀色、赤色、及び青色のうち少なくとも1つの色に着色されているように見せることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の指紋検出装置。 - 検出対象に照射する光を発光する発光部と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサとを備える基板を有し、前記散乱光を前記イメージセンサにガイドするイメージガイドを前記イメージセンサ上に配置し、可視光を遮断し、赤外光を透過するオーバーモールド部材により、前記発光部、前記イメージセンサ、及び前記イメージガイドを覆うように一体形成された指紋検出装置の製造方法であって、
前記イメージセンサに前記イメージガイドを搭載する工程の前に、前記イメージガイドの側面に対して、遮光部材を設ける工程と、
前記イメージセンサ上に前記遮光部材が設けられた前記イメージガイドを搭載する工程と、
前記基板上に搭載された前記発光部、前記イメージセンサ、及び前記イメージガイドを覆うように前記オーバーモールド部材によりモールドする工程と、
前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面となるオーバーモールド部材上に、前記指紋検出面が着色されているように見せるための着色膜を形成する工程と、
前記着色膜上に、前記着色膜を保護する保護膜を形成する工程とを有し、
前記モールドする工程は、
前記発光部と、前記遮光部材が設けられた前記イメージガイドとの間に、前記オーバーモールド部材を充填し、
前記保護膜を形成する工程は、
前記発光部の発光面、及び前記イメージガイドの前記散乱光を受光する受光面を覆う前記オーバーモールド部材、及び前記着色膜を介して、前記保護膜上に、前記指紋検出面を形成することを特徴とする指紋検出装置の製造方法。
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