JP2012150619A - 指紋検出装置及び指紋検出装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】意匠性を向上させながら、精度の高い指紋検出を行う。
【解決手段】検出対象に照射する光を発光する発光部１２と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサ１３とを備える基板１１を有し、前記散乱光を前記イメージセンサ１３にガイドするイメージガイド１４を前記イメージセンサ１３上に配置する指紋検出装置１０であって、前記発光部１２及び前記イメージガイド１４の上部に設けられ、可視光を遮断し、赤外光を透過する下地膜１６と、前記下地膜１６上に設けられ、前記可視光の特定波長及び赤外光を透過して前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面１９が着色されているように見せるための着色膜１７と、前記着色膜１７上に設けられ、前記着色膜１７を保護する保護膜１８とを備えることにより上記課題を解決する。
【選択図】図２

Description

本発明は、指紋検出装置及び指紋検出装置の製造方法に関する。

従来から、コンピュータ等の電子機器、携帯電話等の携帯通信機器において、指の指紋を検出し、検出された指紋の動きを指先の動きとして、機器を操作制御するポインティングデバイスが知られている。このようなポインティングデバイスには、ノイズが発生しにくく、検出精度が高い指紋検出装置を備えることが要求される。また、指紋検出装置は、上述した携帯通信機器等の表面に設けられるため、携帯通信機器のデザインにも影響を与え、意匠としての見栄えも要求される。

例えば、図１は、従来の指紋検出装置の概略図を示している。なお、図１（Ａ）は、従来の指紋検出装置１００の外観図を示し、図１（Ｂ）は、その内部構造を点線で示している。図１（Ａ）、図１（Ｂ）に示すように、従来の指紋検出装置１００は、基板１１０上にＬＥＤを含む発光部１２０及びイメージセンサ１３０が配置され、イメージセンサ１３０上にイメージガイド１４０が配置されている。また、指紋検出装置１００は、遮光性の合成樹脂からなるモールド部材１５０によって一体形成されている。

また、指紋検出装置１００の表面には、検出対象であるユーザの指紋を検出する指紋検出面１６０が設けられ、指紋検出面１６０には、発光部１２０とイメージガイド１４０とが露出した状態となっている。

このような指紋検出装置１００を用いて指の指紋を検出する場合、ユーザが指紋検出面１６０に指先を接触させるように擦りつけることで、発光部１２０から照射された光がユーザの指内に入り、指内からの散乱光がイメージガイド１４０を介してイメージセンサ１３０に届く。これにより、イメージセンサ１３０は、ユーザの指紋を検出するための指紋画像を取得することが可能となる。

なお、従来の指紋入力装置において、光を照射して固体撮像素子の表面に接触させた指先からの散乱光を受光して指紋画像を読み取る方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００５−３８４０６号公報

しかしながら、上述した従来の指紋検出装置１００は、指紋検出面１６０に露出している発光部１２０とイメージガイド１４０とモールド部材１５０の色調が異なるため、上述した携帯通信機器等に設けた場合、携帯通信機器等の表面上に模様となって現れ、意匠性に影響を与えてしまう。

そこで、この意匠性に影響を与えないように、例えば上述したそれぞれの異なる色調を同一にするため、例えばモールド部材１５０で指紋検出装置１００の表面全体を覆うことにより、その表面の模様をなくして色調を同一にすることが考えられる。しかしながら、モールド部材１５０は、遮光性の合成樹脂であるため、指紋検出面１６０に露出している発光部１２０とイメージガイド１４０とを覆ってしまうと、指紋検出面１６０に置かれた指先に発光部１２０からの光が届かないため、指紋を検出することができない。

また、上述した特許文献１の指紋入力装置においても、その表面に模様ができないように意匠性を向上するための方法については何ら記載されていない。

本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、意匠性を向上させながら、精度の高い指紋検出を行う指紋検出装置及び指紋検出装置の製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明は、検出対象に照射する光を発光する発光部（１２）と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサ（１３）とを備える基板（１１）を有し、前記散乱光を前記イメージセンサ（１３）にガイドするイメージガイド（１４）を前記イメージセンサ上（１３）に配置する指紋検出装置（１０）であって、前記発光部（１２）及び前記イメージガイド（１４）の上部に設けられ、可視光を遮断し、赤外光を透過する下地膜（１６）と、前記下地膜（１６）上に設けられ、前記可視光の特定波長及び赤外光を透過して前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面（１９）が着色されているように見せるための着色膜（１７）と、前記着色膜（１７）上に設けられ、前記着色膜（１７）を保護する保護膜（１８）とを備えることを特徴とする。

また、本発明は、検出対象に照射する光を発光する発光部（１２）と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサ（１３）とを備える基板（１１）を有し、前記散乱光を前記イメージセンサ（１３）にガイドするイメージガイド（１４）を前記イメージセンサ（１３）上に配置し、可視光を遮断し、赤外光を透過するオーバーモールド部材（３１）により、前記発光部（１２）、前記イメージセンサ（１３）、及び前記イメージガイド（１４）を覆うように一体形成された指紋検出装置（３０）であって、前記イメージガイド（１４）は、前記散乱光以外の前記発光部（１２）から照射される光を遮断するための遮光部材（３２）を備え、前記発光部（１２）及び前記イメージガイド（１４）の上部に設けられ、前記可視光の特定波長及び赤外光を透過して前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面（１９）が着色されているように見せるための着色膜（１７）と、前記着色膜（１７）上に設けられ、前記着色膜（１７）を保護する保護膜（１８）とを備えることを特徴とする。

また、本発明において、前記着色膜（１７）は、透過特性の異なる複数の誘電体多層膜により形成されることを特徴とする。

また、本発明において、前記着色膜（１７）は、酸化シリコンからなる誘電層と酸化チタンからなる誘電層とを交互に積層した誘電体多層膜により形成されることを特徴とする。

また、本発明において、前記着色膜（１７）は、前記指紋検出面（１９）が銀色、赤色、及び青色のうち少なくとも１つの色に着色されているように見せることを特徴とする。

また、本発明は、検出対象に照射する光を発光する発光部（１２）と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサ（１３）とを備える基板（１１）を有し、前記散乱光を前記イメージセンサ（１３）にガイドするイメージガイド（１４）を前記イメージセンサ（１３）上に配置する指紋検出装置（１０）の製造方法であって、前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面（１９）となる研磨された面（１５−１）に、可視光を遮断し、赤外光を透過する下地膜（１６）を形成する工程（Ｓ１６）と、前記下地膜（１６）上に、前記指紋検出面（１９）が着色されているように見せるための着色膜（１７）を形成する工程（Ｓ１７）と、前記着色膜（１７）上に、前記着色膜（１７）を保護する保護膜（１８）を形成する工程（Ｓ１８）とを有することを特徴とする。

また、本発明は、検出対象に照射する光を発光する発光部（１２）と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサ（１３）とを備える基板（１１）を有し、前記散乱光を前記イメージセンサ（１３）にガイドするイメージガイド（１４）を前記イメージセンサ（１３）上に配置し、可視光を遮断し、赤外光を透過するオーバーモールド部材（３１）により、前記発光部（１２）、前記イメージセンサ（１３）、及び前記イメージガイド（１３）を覆うように一体形成された指紋検出装置（３０）の製造方法であって、前記イメージセンサ（１３）に前記イメージガイド（１４）を搭載する工程（Ｓ２３）の前に、前記イメージガイド（１４）の側面に対して、遮光部材（３２）を設ける工程（Ｓ２２）と、前記イメージセンサ上に前記遮光部材（３２）が設けられたイメージガイドを搭載する工程（Ｓ２３）と、前記基板上に搭載された前記発光部（１２）、前記イメージセンサ（１３）、及び前記イメージガイド（１４）を覆うように前記オーバーモールド部材（３１）によりモールドする工程（Ｓ２５）と、前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面（１９）となるオーバーモールド部材（３１）上に、前記指紋検出面（１９）が着色されているように見せるための着色膜（１７）を形成する工程（Ｓ２６）と、前記着色膜（１７）上に、前記着色膜（１７）を保護する保護膜（１８）を形成する工程（Ｓ２７）とを有することを特徴とする。

なお、上記参照符号は、あくまでも参考であり、これによって、本願発明が図示の態様に限定されるものではない。

本発明によれば、意匠性を向上させながら、精度の高い指紋検出を行うことを可能とする。

従来の指紋検出装置の概略図である。 第１実施形態に係る指紋検出装置の概略図である。 第１実施形態に係る下地膜の光学特性を示す図である。 第１実施形態に係る着色膜の膜構成の一例を示す図である。 図４に示す膜構成からなる着色膜の光学特性を示す図である。 第１実施形態に係る指紋検出装置の変形例を示す図である。 第１実施形態に係る指紋検出装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。 第２実施形態の指紋検出装置の概略図である。 第２実施形態に係るオーバーモールド部材の光学特性を示す図である。 第２実施形態に係る遮光部材を説明するための図である。 第２実施形態に係る遮光部材の膜厚に対応した光学特性を示す図である。 第２実施形態に係る指紋検出装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。

次に、本発明を実施するための形態について説明する。

＜第１実施形態＞
図２は、第１実施形態に係る指紋検出装置の概略図を示している。なお、図２（Ａ）は、指紋検出装置１０の断面図を示し、図２（Ｂ）は、指紋検出装置１０の外観図を示している。

図２（Ａ）、図２（Ｂ）に示すように、第１実施形態に係る指紋検出装置１０は、基板１１と、発光部１２と、イメージセンサ１３と、イメージガイド１４と、モールド部材１５と、下地膜１６と、着色膜１７と、保護膜１８とを有するように構成されている。

第１実施形態に係る指紋検出装置１０は、図１の従来の指紋検出装置１００の指紋検出面１６０に下地膜１６と、着色膜１７と、保護膜１８とを設けたものである。すなわち、第１実施形態において、検出対象であるユーザの指紋を検出するための指紋検出面１９は、下地膜１６と、着色膜１７と、保護膜１８とが設けられた指紋検出装置１０の表面上に形成される。

基板１１は、回路基板であり、基板１１の上面に、発光部１２、イメージセンサ１３等を搭載する。

発光部１２は、指紋検出装置１０の指紋検出面１９に置かれたユーザの指に対して光を照射する。発光部１２は、例えばＬＥＤ（発光ダイオード）基板１２−１、ＬＥＤ１２−２、充填樹脂１２−３等により構成されたものであり、検出対象となる指に赤外光又は近赤外光を照射する。

イメージセンサ１３は、例えば受光素子がマトリクス状に並んでいるエリア型指紋センサである。ユーザが、指紋検出面１９に指先を接触させるように擦りつけると、発光部１２から照射された光が指紋検出面１９上の指内に入射する。また、指内に入射した光は、指表面の凹凸から再放射され、再放射された散乱光が、イメージガイド１４を通り、イメージセンサ１３に届く。このように、イメージセンサ１３には、指表面の凹凸が明暗差として伝達され、イメージセンサ１３は、伝達されたその明暗差からユーザの指紋画像を取得することが可能となる。

イメージガイド１４は、イメージセンサ１３上に配置され、指紋検出装置１０の指紋検出面１９に置かれたユーザの指内からの散乱光をイメージセンサ１３に導く。イメージガイド１４は、例えば無数の光ファイバ片が垂直から所定角度傾斜して配列して構成されたものであり、例えば直方体形状を有している。

モールド部材１５は、遮光性の合成樹脂であり、基板１１上に配置された発光部１２、イメージセンサ１３、イメージガイド１４等を覆うように一体形成されている。また、モールド部材１５によって一体形成され、モールド部材１５の研磨された表面１５−１（図１の指紋検出装置１００の指紋検出面１６０）は、発光部１２及びイメージガイド１４が露出するように構成されている。

なお、モールド部材１５は、例えば、主剤がビフェニル型エポキシ樹脂、硬化剤がフェノールノボラック樹脂、充填剤が溶融シリカ、着色剤がカーボンブラック等からなる黒樹脂である。

下地膜１６は、上述したモールド部材１５の研磨された表面１５−１に、発光部１２及びイメージガイド１４を覆うように設けられている。下地膜１６は、例えば可視光領域における光を遮断吸収し、赤外光領域の光を透過する光学特性を有する膜である。

具体的には、下地膜１６は、例えばＵＶ硬化タイプのエポキシ樹脂等を用いて、発光部１２及びイメージガイド１４が露出した指紋検出装置１０の研磨された表面１５−１に対してパッド印刷、スクリーン印刷、スピンコート印刷等により塗布された膜であり、例えば５μｍ〜３０μｍ程度の厚みを有する。なお、下地膜１６の光学特性については後述する。

着色膜１７は、下地膜１６上に設けられ、例えば透過特性の異なる複数の誘電体多層膜により形成され、可視光領域における特定波長及び赤外光領域の光を透過する光学特性を有する。また、着色膜１７は、指紋検出装置１０の指紋検出面１９を着色する着色膜であり、外部（例えば、ユーザの目線等）から見た場合に、例えば銀色、青色、赤色等に着色されているように見せる。

例えば、着色膜１７は、指紋検出面１９を銀色に着色する場合、電子ビーム蒸着法によって酸化シリコンからなる誘電層と酸化チタンからなる誘電層を交互に積層した誘電体多層膜によって構成される。なお、着色膜１７の具体的な膜構成及び光学特性については後述する。

保護膜１８は、着色膜１７上に設けられ、着色膜１７を保護する。保護膜１８は、例えばＵＶ硬化タイプのアクリル樹脂や溶剤型コート剤を用いて、着色膜１７上に、例えばパッド印刷、スクリーン印刷、スピンコート印刷、スプレー塗装により塗布された透明の膜である。

第１実施形態では、図２（Ａ）、図２（Ｂ）に示す指紋検出面１９上に検出対象である指先を接触させるように擦りつけた場合、赤外光領域の光を透過する膜構成により、発光部１２から照射された光は、下地膜１６、着色膜１７、保護膜１８を透過し、指紋検出面１９上の指内に入射される。また、指内から再放射される散乱光は、保護膜１８、着色膜１７、下地膜１６を透過し、イメージガイド１４を通って、イメージセンサ１３に届く。これにより、精度の高い指紋検出を可能とする。

また、図２（Ｂ）に示すように、従来の指紋検出面１６０にできていた模様をなくし、着色膜１７により指紋検出面１９が着色され、意匠性を向上させる。

＜下地膜１６の光学特性＞
次に、図３を用いて、第１実施形態に係る下地膜１６の光学特性について説明する。図３は、第１実施形態に係る下地膜の光学特性を示している。横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は透過率（％）を示している。

図３に示すように、下地膜１６は、可視光領域における例えば波長３００ｎｍ〜７４０ｎｍ程度の透過率が約３０％以下となっており透過率が低い一方、赤外光領域における例えば波長７５０ｎｍ以降の透過率が約５０以上と透過率が急激に高くなっている。したがって、下地膜１６は、発光部１２から照射された光のうち赤外光領域の光を透過させる。また、下地膜１６は、可視光領域の光を遮断吸収し、反射する光がない状態となるため、下地膜１６を黒く見せ、指紋検出装置１０の中を見えない状態にすることが可能となる。

＜着色膜１７の膜構成例＞
次に、図４を用いて、第１実施形態に係る着色膜１７の膜構成例について説明する。図４は、第１実施形態に係る着色膜の膜構成の一例を示している。

図４に示すように、第１実施形態の着色膜１７は、例えば酸化チタン（ＴｉＯ_２）と酸化シリコン（ＳｉＯ_２）を電子ビーム蒸着法によって交互に積層した誘電体多層膜によって構成されている。

具体的には、着色膜１７は、第１層の蒸着剤が例えば酸化チタンで、膜厚が５５．７５ｎｍ、第２層の蒸着剤が例えば酸化シリコンで、膜厚が８１．３６ｎｍ等と、酸化チタンと酸化シリコンの組み合わせが１８層形成された、合計３６層の厚み３．１５３μｍからなる多層膜である。

また、図５は、図４に示す膜構成からなる着色膜の光学特性を示している。横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は透過率（％）を示している。また、図５は、図４に示す膜構成からなる着色膜１７の透過率を、日立製Ｕ−４１００の測定装置により測定したものである。

図５に示すように、着色膜１７は、可視光領域における例えば波長４００ｎｍ〜８２０ｎｍが、例えば透過率１０％未満となっている一方、赤外光領域における例えば波長８３０ｎｍ以降の透過率が急激に高くなっている。

このように着色膜１７は、赤外光領域における波長の透過率が高いため、発光部１２からの照射された光のうち赤外光領域の光を透過する。

また、着色膜１７は、外部からの可視光領域における光を全反射することになり、例えば鏡のようにミラー反射し、指紋検出面１９を銀色に着色することが可能となる。

更に、着色膜１７の上述した膜構成の材質、すなわち層数、膜厚、蒸着剤、蒸着剤の組み合わせ、製法等を変えて、例えば可視光領域の特定波長を透過させる等の光学特性の変更することにより、上述した銀色の他、指紋検出面１９を例えば青、赤等の複数の色により着色することが可能となる。

例えば、着色膜１７により指紋検出面１９を赤色に着色するためには、着色膜１７の光学特性を赤色の波長領域で透過率よりも反射率を大きくし、その他の波長領域における透過率を例えば１００％等とする。これにより、赤色の波長領域の光は、着色膜１７によって反射し、指紋検出面１９が赤色に着色されているように見せることが可能となる。なお、その他の波長領域の光は、着色膜１７を透過し、下地膜１６によって可視光領域の光は遮断吸収される。

上述したように、下地膜１６、着色膜１７は、赤外光領域の光を透過する膜構成により、発光部１２から照射された光は、指紋検出面１９上の指内に入射し、指内から再放射される散乱光を透過させるため、指内からの散乱光は、イメージセンサ１３に届き、指紋を検出することが可能となる。また、着色膜１７により指紋検出面１９が着色され、意匠性を向上させることが可能となる。

＜第１実施形態の変形例＞
次に、図６を用いて、第１実施形態に係る指紋検出装置１０の変形例について説明する。図６は、第１実施形態に係る指紋検出装置の変形例を示している。

図６に示すように、第１実施形態の変形例である指紋検出装置２０では、図２に示す第１実施形態と比較して、下地膜１６と着色膜１７との間にハードコート膜２１を設けている。ハードコート膜２１は、例えばＵＶ硬化タイプのアクリル樹脂を用いて下地膜１６上にパッド印刷、スクリーン印刷、スピンコート法によって塗布された膜である。

上述したように、ハードコート膜２１を下地膜１６と着色膜１７との間に設けることで、着色膜１７の付着力を更に高めることが可能となる。

＜第１実施形態に係る指紋検出装置１０の製造方法＞
次に、上述した第１実施形態に係る指紋検出装置１０の製造方法について説明する。図７は、第１実施形態に係る製造方法を説明するためのフローチャートである。まず、第１実施形態の製造方法では、基板１１にダイボンド樹脂等を用いてイメージセンサ１３を搭載する（Ｓ１０）。

次に、イメージセンサ１３を基板１１上に形成されている配線パターンに金ワイヤー等を用いてワイヤーボンディングする（Ｓ１１）。

次に、イメージセンサ１３上に接着樹脂を用いてイメージガイド１４を搭載し、また、基板１１上に銀ペースト、半田等を用いて発光部１２を搭載する（Ｓ１２）。

次に、モールド部材１５となる上述した樹脂を基板１１上に搭載された発光部１２、イメージセンサ１３、イメージガイド１４の間に充填し（Ｓ１３）、発光部１２、イメージガイド１４等を覆うように、トランスファーモールドにより一体成形する（Ｓ１４）。

次に、一体成形されたモールド部材１５の表面を、発光部１２及びイメージガイド１４が露出するよう研磨して、発光部１２及びイメージガイド１４が露出した表面１５−１を平坦にする（Ｓ１５）。

次に、平坦となったモールド部材１５の研磨された表面１５−１上に、上述したＵＶ硬化タイプのエポキシ樹脂等を、パッド印刷、スクリーン印刷、スピンコート印刷により塗布することにより下地膜１６を形成する（Ｓ１６）。

次に、下地膜１６上に、例えば電子ビーム蒸着法により酸化シリコンからなる誘電層と酸化チタンからなる誘電層を交互に積層することにより指紋検出面１９を銀色に着色する着色膜１７を形成する（Ｓ１７）。

なお、ハードコート膜２１を設ける場合には、Ｓ１６の処理の後、下地膜１６上に、例えばＵＶ硬化タイプのアクリル樹脂を用いてパッド印刷、スクリーン印刷、スピンコート法によりハードコート膜２１を形成し、形成したハードコート膜２１上に着色膜１７を形成する。

次に、着色膜１７上に、例えば上述したＵＶ硬化タイプのアクリル樹脂や溶剤型コート剤を用いて、パッド印刷、スクリーン印刷、スピンコート印刷、スプレー塗装により保護膜１８を形成し（Ｓ１８）、処理を終了する。

上述した製造方法により、モールド部材１５の研磨された表面１５−１に露出した発光部１２及びイメージガイド１４を下地膜１６、着色膜１７等により覆って、指紋検出面１９を着色する第１実施形態に係る指紋検出装置１０が得られる。

＜第２実施形態＞
次に、指紋検出装置の第２実施形態について説明する。図８は、第２実施形態に係る指紋検出装置の概略図を示している。なお、図８（Ａ）は、指紋検出装置３０の断面図を示し、図８（Ｂ）は、指紋検出装置３０の外観図を示している。第１実施形態と同一部分については同一符号を付し、その説明を省略する。

図８（Ａ）に示すように、第２実施形態に係る指紋検出装置３０は、第１実施形態で用いたモールド部材１５の代わりに、オーバーモールド部材３１を用いることにより一体成形されている。更に、第２実施形態では、イメージガイド１４の側面等に、遮光部材３２を備えている。

オーバーモールド部材３１は、例えば可視光領域の光を遮断吸収し、赤外光領域の光を透過する樹脂であり、例えば主剤がエストラマー変性エポキシ樹脂、硬化剤が芳香族アミン、硬化促進剤が３級アミン等からなる樹脂である。ここで、オーバーモールド部材３１は、第１実施形態のモールド部材１５とは異なり、発光部１２及びイメージガイド１４を露出した構成ではなく、発光部１２、イメージセンサ１３、及びイメージガイド１４を覆うように一体形成されている。なお、オーバーモールド部材３１の光学特性については後述する。

また、第２実施形態では、検出対象となるユーザの指紋を検出する指紋検出面１９が、オーバーモールド部材３１上の着色膜１７と保護膜１８とを設けた表面上に形成されている。また、着色膜１７により指紋検出面１９が着色され、意匠性を向上させることが可能となる。なお、オーバーモールド部材３１は、上述した下地膜１６の代わりとなるため、下地膜１６を形成しなくても良い。

遮光部材３２は、例えばイメージガイド１４の側面等に設けられ、ユーザの指内からの散乱光以外の発光部１２からオーバーモールド部材３１を介して直接入射される光を遮断する。

上述した第２実施形態で用いられるオーバーモールド部材３１は、赤外光領域の光を透過するため、発光部１２から照射された赤外光領域の光が、直接オーバーモールド部材３１を介してイメージガイド１４に入射することによりクロストークが生じる場合がある。

そこで、イメージガイド１４に遮光部材３２を設けることにより、発光部１２からの赤外光領域の光がオーバーモールド部材３１を介してイメージガイド１４に、直接入射しないよう遮断し、上述したクロストークを防ぐことを可能とする。

遮光部材３２は、例えば金属膜等によって形成され、金属膜としてはクロム（Ｃｒ）、錫（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、鉄（Ｆｅ）−Ｃｒ系合金、金（Ａｕ）、タングステン（Ｗ）、亜鉛（Ｚｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）等を用いて、例えばスパッタリング、真空蒸着（例えば抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着等）等の物理蒸着法によって形成される。このとき、金属膜の厚みは、例えば金属膜をＣｒでスパッタリングにより形成した場合、例えば１００ｎｍ以上とすると良い。なお、遮光部材３２の膜厚に対応した光学特性については後述する。

第２実施形態では、図８（Ａ）、図８（Ｂ）に示す指紋検出面１９上に検出対象である指先を接触させるように擦りつけた場合、赤外光領域の光を透過する構成により、発光部１２から照射された光は、オーバーモールド部材３１、着色膜１７、保護膜１８を透過し、指紋検出面１９上の指内に入射される。また、指内から再放射される散乱光は、保護膜１８、着色膜１７、オーバーモールド部材３１を透過し、イメージガイド１４を通って、イメージセンサ１３に届く。これにより、精度の高い指紋検出を可能とする。

また、図８（Ｂ）に示すように、従来の指紋検出面１６０にできていた模様をなくし、着色膜１７により指紋検出面１９が着色され、意匠性を向上させる。

＜オーバーモールド部材３１の光学特性＞
次に、図９を用いて、第２実施形態で用いられるオーバーモールド部材３１の光学特性について説明する。図９は、第２実施形態に係るオーバーモールド部材の光学特性を示している。横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は透過率（％）を示している。

図９に示すように、オーバーモールド部材３１は、可視光領域における例えば波長約３００ｎｍ〜６５０ｎｍ程度の透過率はほとんど０％に近く、赤外光領域における例えば波長約６７０ｎｍ程度の透過率が急激に高くなっている。

したがって、オーバーモールド部材３１は、発光部１２からの照射された光のうち赤外光領域の光を透過すると共に、可視光領域の光を遮断吸収する。

また、赤外光領域の光を透過するオーバーモールド部材３１を用いることで、第１実施形態のように発光部１２及びイメージガイド１４を露出させるための研磨工程を省くことが可能となる。

第２実施形態では、オーバーモールド部材３１によって発光部１２、イメージセンサ１３、イメージガイド１４を覆った上で着色膜１７等を塗布するため、例えば発光部１２、イメージガイド１４、モールド部材１５等の熱膨張差による凹凸が吸収される。これにより、第２実施形態の指紋検出面１９を滑らかな状態で着色することが可能となる。

一方、オーバーモールド部材３１は、赤外光領域の光を透過するため、上述したようにイメージガイド１４に向かって直接、発光部１２からの光が入射してクロストークが発生する場合が生じる。そこで、以下に示す遮光部材３２をイメージガイド１４に設けることで、イメージガイド１４に直接入射される光を遮断する。

＜遮光部材３２について＞
図１０は、第２実施形態に係る遮光部材を説明するための図である。なお、図１０（Ａ）は、指紋検出装置３０の側面図であり、イメージガイド１４に遮光部材３２が設けられていない状態を示している。また、図１０（Ｂ）は、遮光部材３２が設けられたイメージガイド１４の斜面図を示している。

図１０（Ａ）に示すように、発光部１２から光を照射した場合、発光部１２からの矢印Ａに示す赤外光領域の光は、オーバーモールド部材３１、着色膜１７、保護膜１８を透過し、指紋検出面１９上に置かれた検出対象の指に向かって入射される。また、矢印Ａに示すように、指内から再放射される散乱光は、保護膜１８、着色膜１７、オーバーモールド部材３１を透過し、イメージガイド１４を通って、イメージセンサ１３に届く。

一方、発光部１２からの矢印Ｂに示す赤外光領域の光は、発光部１２とイメージガイド１４との間にあるオーバーモールド部材３１を介してイメージガイド１４の側面等から入射し、イメージセンサ１３に届く。このように、矢印Ｂに示す発光部１２からイメージガイド１４に直接届く光は、クロストークを発生させるため、イメージセンサ１３から良好な指紋のコントラスト画像を得ることができなくなる。

そこで、第２実施形態では、図１０（Ｂ）に示すように、例えばイメージガイド１４の側面に遮光部材３２を設ける。遮光部材３２は、図１０（Ｂ）に示すイメージガイド１４の側面のうち、例えば発光部１２と真向かいとなるイメージガイドの側面１４−１、イメージガイドの側面１４−１を挟んだ両側面となるイメージガイドの側面１４−２〜１４−３に設けると良い。

＜遮光部材３２の光学特性＞
次に、図１１を用いて、遮光部材３２の膜厚に対応した光学特性について説明する。図１１は、第２実施形態に係る遮光部材の膜厚に対応した光学特性を示している。横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は透過率（％）を示している。

また、図１１は、遮光部材３２に上述したＣｒでスパッタリングにより形成した金属膜を用いて、その膜厚をそれぞれ約７０ｎｍ、約１００ｎｍ、約２００ｎｍ、約５００ｎｍとしたときの透過率を、日立製Ｕ−４１００の測定装置により測定したものである。

図１１に示すように、遮光部材３２の膜厚を約７０ｎｍとしたものは、赤外光領域における例えば波長約８７０ｎｍの波長の透過率が１％程度となり、波長約１０００ｎｍ以上の波長の透過率が約１％を越えている。これに対して、遮光部材３２の膜厚を約１００ｎｍ、約２００ｎｍ、約５００ｎｍとしたものは、赤外光領域における波長の透過率はほとんど０％に近い。

したがって、例えば遮光部材３２の膜厚を約１００ｎｍ以上とすることで、発光部１２から直接入射される光を遮断し、指紋を検出するための精度の良いコントラスト画像を得ることが可能となる。

＜第２実施形態に係る製造方法＞
次に、上述した第２実施形態に係る指紋検出装置３０の製造方法について説明する。図１２は、第２実施形態に係る製造方法を説明するためのフローチャートである。なお、第２実施形態に係る製造方法のうちＳ２０〜Ｓ２１等の第１実施形態に係る製造方法と同様の処理については、説明を省略する。

第２実施形態に係る製造方法では、Ｓ２１の処理が終了した後、イメージガイド１４をイメージセンサ１３に搭載する前に、イメージガイド１４の側面に、上述した遮光部材３２をスパッタリング、真空蒸着等の物理蒸着法によってクロム（Ｃｒ）等により設ける（Ｓ２２）。

次に、イメージセンサ１３上に、遮光部材３２が設けられたイメージガイド１４を搭載し、基板１１上に銀ペースト、半田等を用いて発光部１２を搭載する（Ｓ２３）。

次に、オーバーモールド部材３１となる上述した樹脂を基板１１上に搭載された発光部１２、イメージセンサ１３、イメージガイド１４の間に充填し（Ｓ２４）、発光部１２、イメージガイド１４等を覆うように、トランスファーモールドにより一体成形する（Ｓ２５）。

次に、オーバーモールド部材３１上の指紋検出面１９となる面に、例えば電子ビーム蒸着法により、例えば酸化シリコンからなる誘電層と酸化チタンからなる誘電層を交互に積層することにより指紋検出面１９を銀色に着色する着色膜１７を形成する（Ｓ２６）。

次に、着色膜１７上に、上述したＵＶ硬化タイプのアクリル樹脂や溶剤型コート剤を用いて、パッド印刷、スクリーン印刷、スピンコート印刷、スプレー塗装により保護膜１８を形成し（Ｓ２７）、処理を終了する。

上述した製造方法により、オーバーモールド部材３１上に形成した着色膜１７等により指紋検出面１９を着色する第２実施形態に係る指紋検出装置３０が得られる。

上述したように、本実施形態によれば、従来の指紋検出面にできていた模様をなくし、着色膜等により指紋検出面を着色して意匠性を向上させることが可能となる。また、指紋検出装置を組み込む携帯通信機器等の筐体の色に対応させて、指紋検出面が所定の色に着色されているように見せることが可能となる。

また、赤外光領域の光を透過する膜構成により、指内からの散乱光をイメージセンサに届けることを可能とし、精度の高い指紋検出を可能とする。

以上、各実施形態に基づき本発明の説明を行ってきたが、上記実施形態に示した要件に本発明が限定されるものではない。これらの点に関しては、本発明の主旨をそこなわない範囲で変更することができ、その応用形態に応じて適切に定めることができる。

１０，２０，３０，１００ 指紋検出装置
１１，１１０ 基板
１２，１２０ 発光部
１３，１３０ イメージセンサ
１４，１４０ イメージガイド
１５，１５０ モールド部材
１５−１ 表面
１６ 下地膜
１７ 着色膜
１８ 保護膜
１９，１６０ 指紋検出面
２１ ハードコート膜
３１ オーバーモールド部材
３２ 遮光部材

Claims (7)

1. 検出対象に照射する光を発光する発光部と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサとを備える基板を有し、前記散乱光を前記イメージセンサにガイドするイメージガイドを前記イメージセンサ上に配置する指紋検出装置であって、
   前記発光部及び前記イメージガイドの上部に設けられ、可視光を遮断し、赤外光を透過する下地膜と、
   前記下地膜上に設けられ、前記可視光の特定波長及び赤外光を透過して前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面が着色されているように見せるための着色膜と、
   前記着色膜上に設けられ、前記着色膜を保護する保護膜とを備えることを特徴とする指紋検出装置。
2. 検出対象に照射する光を発光する発光部と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサとを備える基板を有し、前記散乱光を前記イメージセンサにガイドするイメージガイドを前記イメージセンサ上に配置し、可視光を遮断し、赤外光を透過するオーバーモールド部材により、前記発光部、前記イメージセンサ、及び前記イメージガイドを覆うように一体形成された指紋検出装置であって、
   前記イメージガイドは、前記散乱光以外の前記発光部から照射される光を遮断するための遮光部材を備え、
   前記発光部及び前記イメージガイドの上部に設けられ、前記可視光の特定波長及び赤外光を透過して前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面が着色されているように見せるための着色膜と、
   前記着色膜上に設けられ、前記着色膜を保護する保護膜とを備えることを特徴とする指紋検出装置。
3. 前記着色膜は、
   透過特性の異なる複数の誘電体多層膜により形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の指紋検出装置。
4. 前記着色膜は、
   酸化シリコンからなる誘電層と酸化チタンからなる誘電層とを交互に積層した誘電体多層膜により形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の指紋検出装置。
5. 前記着色膜は、
   前記指紋検出面が銀色、赤色、及び青色のうち少なくとも１つの色に着色されているように見せることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の指紋検出装置。
6. 検出対象に照射する光を発光する発光部と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサとを備える基板を有し、前記散乱光を前記イメージセンサにガイドするイメージガイドを前記イメージセンサ上に配置する指紋検出装置の製造方法であって、
   前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面となる研磨された面に、可視光を遮断し、赤外光を透過する下地膜を形成する工程と、
   前記下地膜上に、前記指紋検出面が着色されているように見せるための着色膜を形成する工程と、
   前記着色膜上に、前記着色膜を保護する保護膜を形成する工程とを有することを特徴とする指紋検出装置の製造方法。
7. 検出対象に照射する光を発光する発光部と、前記検出対象からの散乱光を受光するイメージセンサとを備える基板を有し、前記散乱光を前記イメージセンサにガイドするイメージガイドを前記イメージセンサ上に配置し、可視光を遮断し、赤外光を透過するオーバーモールド部材により、前記発光部、前記イメージセンサ、及び前記イメージガイドを覆うように一体形成された指紋検出装置の製造方法であって、
   前記イメージセンサに前記イメージガイドを搭載する工程の前に、前記イメージガイドの側面に対して、遮光部材を設ける工程と、
   前記イメージセンサ上に前記遮光部材が設けられたイメージガイドを搭載する工程と、
   前記基板上に搭載された前記発光部、前記イメージセンサ、及び前記イメージガイドを覆うように前記オーバーモールド部材によりモールドする工程と、
   前記検出対象の指紋を検出する指紋検出面となるオーバーモールド部材上に、前記指紋検出面が着色されているように見せるための着色膜を形成する工程と、
   前記着色膜上に、前記着色膜を保護する保護膜を形成する工程とを有することを特徴とする指紋検出装置の製造方法。

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